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Bulk etch rates of CR-39 at high etchant concentrations:diffusionlimited etching

Nuclear Science and Techniques 2020年第12期31卷 41-49页

作者： E.M.Awad M.A.Rana Mushtaq Abed Al-Jubbori Physics Department Faculty of ScienceMenoufia UniversityShebin El-KoomMenoufia 32511Egypt MERADD Instrumentation Control and Computer Complex(ICCC)PARAS Building18-KM Multan RoadP.O.ChungLahorePakistan Department of Physics College of Education for Pure SciencesUniversity of MosulMosul 41001Iraq

Systematic CR-39 bulk etching experiments were conducted over a wide range of concentrations(2–30 N)of NaOH-based *** analysis and a deep discussion of the results are presented.A comprehensive nuclear track chemical etching data bank was *** regimes of CR-39 bulk etching were *** I spans etchant concentrations from 2 to 12 *** II spans concentrations from 12 to 25 *** call this the dynamic bulk etching *** III is for concentrations greater than 25 *** this regime,the bulk etch rate is saturated with respect to the etchant *** classification is discussed and *** role of ethanol in NaOH-based etchants is explored and discussed.A parameter called the “reduced bulk etch rate” is defined here,which helps in analyzing the dependence of bulk etching on the amount of ethanol in the *** bulk etch rate shows a natural logarithmic dependence on the density of ethanol in the etchant.

关键词： CR-39 detector Ethanol Bulk etch rate Reduced bulk etch rate Diffusion-limited etching concentration-limited etching

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