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  • 1 篇 工学
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 分子动力学模拟
  • 1 篇 微电子机械系统
  • 1 篇 cl刻蚀si
  • 1 篇 分子动力学

机构

  • 1 篇 荷兰皇家科学院等...
  • 1 篇 贵州大学

作者

  • 1 篇 赵成利
  • 1 篇 宁建平
  • 1 篇 苟富均
  • 1 篇 贺平逆
  • 1 篇 秦尤敏

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=Cl刻蚀Si"
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低能cl原子刻蚀si(100)表面的分子动力学模拟
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物理学报 2011年 第4期60卷 406-411页
作者： 贺平逆 宁建平 秦尤敏 赵成利 苟富均 贵州大学等离子体与材料表面作用研究所 贵阳550025 贵州大学理学院 贵阳550025 荷兰皇家科学院等离子体研究所
使用分子动力学模拟方法研究了不同能量(0.3—10eV)的cl原子对表面温度为300K的si(100)表面的刻蚀过程.模拟中采用了Tersoff-Brenner势能函数来描述cl-si体系的相互作用.模拟结果显示,随着入射cl原子在表面的吸附达到饱和,si表面形成一... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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