检索结果-南通市图书馆

半导体光电 2023年第2期44卷 222-227页

作者：莫才平张靖李睿骁卢翔孟重庆光电技术研究所重庆400060

利用分子束外延技术在(100)和(113)B GaAs衬底上进行了有/无alas盖帽层量子点的生长,测量了其在4~100 K温度区间的PL光谱。通过对PL光谱的积分强度、峰值能量和半高宽进行分析进而研究载流子的热传输特性。无alas盖帽层的(113)B面量子点... 详细信息

利用分子束外延技术在(100)和(113)B GaAs衬底上进行了有/无alas盖帽层量子点的生长,测量了其在4~100 K温度区间的PL光谱。通过对PL光谱的积分强度、峰值能量和半高宽进行分析进而研究载流子的热传输特性。无alas盖帽层的(113)B面量子点的PL光谱的热淬灭现象可以由载流子极易从量子点向浸润层逃逸来解释。然而,有alas盖帽层的(113)B量子点的PL热淬灭主要是由于载流子进入了量子点与势垒或者浸润层界面中的非辐射中心引起的。并且其PL的温度依存性与利用Varshni定律计算的体材料InAs的温度依存性吻合很好,表明载流子通过浸润层进行传输受到了抑制,由于alas引起的相分离机制(113)B量子点的浸润层已经消失或者减小了。(100)面有alas盖帽层的PL半高宽的温度依存性与无alas盖帽层的量子点大致相同,表明在相同外延条件下相分离机制在(100)面上不如(113)B面显著。

关键词：分子束外延 InAs量子点光致发光 alas盖帽层

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