检索结果-南通市图书馆

Ni包覆al_2o_3粉体的RCVD法制备及机理研究

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材料科学与工艺 2017年第4期25卷 78-83页

作者：葛梦妮李亚辉周华思郭珈旭张建峰河海大学力学与材料学院南京210098

金属Ni包覆于陶瓷粉体的表面,可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质.本文采用旋转化学气相沉积法(RCVD),利用二茂镍(NiCp_2)前驱体的热分解,借助载体氢气对反应的催化促进作用,在al_2o_3粉体表面包覆了均匀分散的Ni纳米粒子,... 详细信息

金属Ni包覆于陶瓷粉体的表面,可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质.本文采用旋转化学气相沉积法(RCVD),利用二茂镍(NiCp_2)前驱体的热分解,借助载体氢气对反应的催化促进作用,在al_2o_3粉体表面包覆了均匀分散的Ni纳米粒子,并研究了包覆温度和原料供应速率对反应产物物相、粒度和形貌的影响规律.研究表明,在包覆温度为450~550℃、前驱体二茂镍(NiCp_2)供给速率为(0.6~2.0)×10^(-6)kg/s条件下,通过对反应过程中镍纳米粒子的包覆温度和前驱体二茂镍(NiCp_2)供给速率调控可对镍纳米粒子的粒径大小和包覆层数进行调控.结合实验结果,分析了载体氢气对二茂镍反应的催化促进作用,阐述了旋转化学气相沉积条件下Ni纳米粒子在al_2o_3粉体表面均匀包覆的过程与机制.通过调控包覆温度和原料供应速率,可以影响前驱体二茂镍的分解行为,从而调控镍纳米粒子在al_2o_3粉体表面的包覆状态.

关键词： Al2O3粉体镍纳米粒子粉体包覆旋转化学气相沉积法(RCVD) 包覆机理包覆层

粉料和冷等静压对凝胶注模成型al2o3陶瓷致密化的影响

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机械工程材料 2020年第10期44卷 28-32页

作者：杜苗凤张培志郭方全祁海韩伟月何成贵上海材料研究所上海市工程材料应用与评价重点实验室上海200437

对平均粒径分别为0.31,0.77μm的2种Al2O3粉体(分别记为1^#和2^#)进行低固相含量(体积分数45%)凝胶注模成型,再经冷等静压(CIP)和常压烧结制备得到2种al2o3陶瓷,研究了粉料和CIP压力(100~500 MPa)对al2o3坯体和陶瓷致密化的影响。结果表... 详细信息

对平均粒径分别为0.31,0.77μm的2种Al2O3粉体(分别记为1^#和2^#)进行低固相含量(体积分数45%)凝胶注模成型,再经冷等静压(CIP)和常压烧结制备得到2种al2o3陶瓷,研究了粉料和CIP压力(100~500 MPa)对al2o3坯体和陶瓷致密化的影响。结果表明:粒径较小Al2O3粉体的分散难度较大,所需聚丙烯酸铵分散剂的添加量较高,所得坯体和烧结陶瓷的相对密度较小;随着CIP压力增加,2种al2o3坯体的相对密度增大,孔洞减少,而2种烧结陶瓷的相对密度呈现先增大后减小再趋于稳定的变化趋势,当CIP压力为350~400 MPa时陶瓷的相对密度最大,晶间气孔较少。

关键词： Al2O3粉体冷等静压凝胶注模团聚体 al2o3陶瓷

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al_2o_3粉体与真空电子陶瓷

山东陶瓷 2018年第1期41卷 8-12页

作者：高陇桥中电科技集团公司第十二研究所北京100015

真空电子器件是电子工业器件中最重要的器件之一,其主要的部件之一是绝缘外壳。外壳的共同要求是真空气密性好、机械强度高、绝缘性能优良等。某些器件(例如真空开关管)还要求真空器件寿命保证20年之久。目前国内外真空开关管绝缘外壳... 详细信息

真空电子器件是电子工业器件中最重要的器件之一,其主要的部件之一是绝缘外壳。外壳的共同要求是真空气密性好、机械强度高、绝缘性能优良等。某些器件(例如真空开关管)还要求真空器件寿命保证20年之久。目前国内外真空开关管绝缘外壳大多采用95%al_2o_3陶瓷与活性Mo-Mn法封接工艺,产品质量上国内不如国外的,国内产品只应用于低端市场。本人对真空开关管绝缘外壳进行了比较系统的研究分析,提出了我国al_2o_3粉体和高al_2o_3陶瓷的不足之处和相应的改进措施。

关键词： Al2O3粉体高al2o3陶瓷真空电子陶瓷真空开关管

Cr^(3+)掺杂al_2o_3陶瓷粉体火焰喷涂工艺探究

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热喷涂技术 2015年第3期7卷 36-40页

作者：酉琪彭浩然张鑫冀晓鹃魏少红纪全梁天骄北京矿冶研究总院北京100160 北京市工业部件表面强化与修复工程技术研究中心北京102206 特种涂层材料与技术北京市重点实验室北京102206 东莞中子科学中心东莞523808

通过不同能量输入的火焰喷涂工艺制备了Cr3+掺杂的al2o3陶瓷涂层。采用扫描电镜、X射线衍射、拉伸试验机、荧光光谱仪等方法测试了涂层的微观形貌、孔隙率、相结构、结合强度及发光性能等。结果表明:在优化的火焰喷涂工艺参数下,制备的C... 详细信息

通过不同能量输入的火焰喷涂工艺制备了Cr3+掺杂的al2o3陶瓷涂层。采用扫描电镜、X射线衍射、拉伸试验机、荧光光谱仪等方法测试了涂层的微观形貌、孔隙率、相结构、结合强度及发光性能等。结果表明:在优化的火焰喷涂工艺参数下,制备的Cr3+:al2o3涂层呈典型的层状结构,粉体颗粒熔化良好,al和Cr元素分布均匀,涂层孔隙率的平均值为11.32%。涂层与基体的结合强度可达10.27Mpa。涂层相结构主要由α-al2o3构成,仅含有少量的γ-al2o3。在特定波长的光源激发下,涂层在694.32nm处的发射峰相对强度均大于25000,具有良好的发光性能。

关键词： Cr3+掺杂 Al2O3粉体火焰喷涂发光

氯化镁介质中PAA在al_2o_3表面吸附作用的研究

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无机材料学报 2002年第1期17卷 86-90页

作者：孙静高濂中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷与超微结构国家重点实验室上海200050

研究了氯化镁介质中分散剂聚丙烯酸在氧化铝表面的吸附情况．发现盐浓度和ＰＨ对吸附曲线均有显著影响．与氯化钠介质中的吸附情况相比，镁离子的存在使ＰＡＡ的吸附量明显提高，当ＰＡＡ加入浓度为１５７０ｍｇ／Ｌ时，对应吸附曲线的... 详细信息

研究了氯化镁介质中分散剂聚丙烯酸在氧化铝表面的吸附情况．发现盐浓度和ＰＨ对吸附曲线均有显著影响．与氯化钠介质中的吸附情况相比，镁离子的存在使ＰＡＡ的吸附量明显提高，当ＰＡＡ加入浓度为１５７０ｍｇ／Ｌ时，对应吸附曲线的最大值．镁离子与聚丙烯酸形成络合聚合物吸附在氧化铝表面．

关键词： MgCl2介质 PAA Al2O3粉体陶瓷浆料吸附作用氯化镁介质聚丙烯酸表面吸附氧化铝

纳米α-al_2o_3化学合成技术研究进展

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材料导报 2005年第5期19卷 14-16页

作者：宋晓岚曲鹏王海波吴雪兰邱冠周中南大学资源加工与生物工程学院无机材料系长沙410083

纳米α-al_2o_3粉体因其用于高强材料、电子陶瓷以及催化剂等而具有广泛的应用潜力,然而经高温煅烧难于获得真正纳米粒径的α-al_2o_3粉体。综述了近年来国外合成纳米α-al_2o_3粉末的2种工艺:一种为高温化学合成工艺。包括气相沉积法... 详细信息

纳米α-al_2o_3粉体因其用于高强材料、电子陶瓷以及催化剂等而具有广泛的应用潜力,然而经高温煅烧难于获得真正纳米粒径的α-al_2o_3粉体。综述了近年来国外合成纳米α-al_2o_3粉末的2种工艺:一种为高温化学合成工艺。包括气相沉积法、激光烧蚀法、电弧等离子体法和水热法等;另一种为低温化学合成工艺,包括机械球磨法和溶胶-凝胶法等。进一步展望了我国纳米α-al_2o_3研究发展的趋势。

关键词：纳米α-al2o3 技术研究进展化学合成 Al2O3粉体 al2o3粉末电弧等离子体法溶胶一凝胶法合成工艺气相沉积法激光烧蚀法机械球磨法高强材料应用潜力电子陶瓷高温煅烧研究发展催化剂水热法

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化学合成法制备高纯超细al_2o_3粉体

江苏陶瓷 2005年第2期38卷 24-26页

作者：唐志阳无锡工艺职业技术学院宜兴214221

介绍了高纯超细Al2O3粉体的特性及其应用,以及目前制备高纯al2o3超细粉采用的三类方法。对其中研究最多和最有希望的液相化学合成法进行了较详细的综述。

关键词： Al2O3粉体化学合成法高纯超细制备超细粉液相

水力溢流分级在超细α-Al2O3粉体中的应用研究

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中国粉体工业 2005年第4期 38-41页

作者：陈玮王庆伟陈燕李晋峰中南大学湖南长沙410083 中国铝业股份有限公司郑州研究院河南郑州450041

水力溢流分级精度较高，足目前常用的超细颗粒分级方法，本文通过水力溢流分级，研究了超声波，分散剂等因素对超细α-al2o3，水力分级的影响，结果表明，分散剂虽然可以消除分级过程中的小颗粒现象，但是也对分级结果产生负面影响，使... 详细信息

水力溢流分级精度较高，足目前常用的超细颗粒分级方法，本文通过水力溢流分级，研究了超声波，分散剂等因素对超细α-al2o3，水力分级的影响，结果表明，分散剂虽然可以消除分级过程中的小颗粒现象，但是也对分级结果产生负面影响，使得分级后的产品粒度分布变宽；加入分散剂，同时超声处理后样品可以得到较好的分级结果。

关键词：水力分级小颗粒现象溢流分级氧化铝超细颗粒 Al2O3粉体溢流 α-al2o3 应用分散剂

维普期刊数据库评论

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中科院优质α-Al2O3粉体的制备

中国粉体工业 2012年第4期 63-63页

一、技术简介高品质的α-Al2O3粉体在精细陶瓷、电子、化工、磨料等领域具有广泛的应用，是制备透明陶瓷、微电子器件、激光及光学仪器、催化剂载体及高级磨料等的重要原料。

关键词： Al2O3粉体制备中科院微电子器件优质催化剂载体精细陶瓷透明陶瓷