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Sputtering Deposition of Ultra-thin α-Fe_2O_3 Films for Solar Water Splitting

Journal of Materials Science & Technology 2015年第6期31卷 655-659页

作者： Lichao Jia Karsten Harbauer Peter Bogdanoff Kluas Ellmer Sebastian Fiechter Helmholtz-Zentrum Berlin fr Materialien und Energie Institute for Solar FuelsHahn-Meitner-Platz 114109 BerlinGermany

Ultra-thin α-Fe2O3（hematite） films have been deposited by radio frequency（RF） sputtering technique and photoelectrochemically investigated towards their ability to oxidize *** varying the deposition power and time as well as the sputter gas flow（argon）,the microstructure and morphology of the film were *** was found that the increment in the film thickness resulted in the loss of efficiency for solar water *** film with a thickness of 27 nm exhibited the best result with a maximum photocurrent of 0.25 mA cm-2at 1.23 *** of small amounts of O2to the sputter gas improved the photoactivity significantly.

关键词： Thin film aematite Sputtering deposition Photoelec

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