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ag夹层厚度对PMMA基底上azo/ag/azo薄膜结构和性能的影响

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武汉理工大学学报 2022年第10期44卷 11-16页

作者：徐清源张运生冯海兵陈琛黄鹏祖成奎中国建筑材料科学研究总院有限公司北京100024

室温下在预制有底涂的有机玻璃(PMMA)表面上采用磁控溅射方法沉积了azo/ag/azo叠层薄膜。研究了ag夹层厚度对azo/ag/azo薄膜的结构、光电性能和电加热性质的影响。结果表明:更大的ag夹层厚度有利于azo薄膜晶面生长,azo(50nm)/ag(13nm)/A... 详细信息

室温下在预制有底涂的有机玻璃(PMMA)表面上采用磁控溅射方法沉积了azo/ag/azo叠层薄膜。研究了ag夹层厚度对azo/ag/azo薄膜的结构、光电性能和电加热性质的影响。结果表明:更大的ag夹层厚度有利于azo薄膜晶面生长,azo(50nm)/ag(13nm)/azo(50nm)结构具有84.3%的高透射率和3.4Ω/□的低薄膜电阻,与PMMA基底上沉积的其他薄膜材料相比具有最佳的光电性能;基于azo/ag/azo叠层膜的PMMA电加热器件在5V的低电压载荷下表现出良好的升温效果;低温下13nm ag夹层厚度的PMMA电加热器件具有更稳定的温度可重复性以及更小的表面温差,在最低-40℃环境下升温范围可达43℃,满足低温下的除冰除霜需求。作为传统ITO薄膜的高性能替代方案,基于azo/ag/azo薄膜的PMMA电加热器件在航空电加热窗口领域有良好的应用前景。

关键词： azo/ag/azo PMMA ag膜厚度光电性能电加热

磁控溅射制备azo/ag/azo透明导电膜的性能研究

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光电工程 2007年第12期34卷 38-41页

作者：贾芳乔学亮陈建国李世涛王国锋深圳大学深圳市特种功能材料重点实验室广东深圳518000 华中科技大学模具技术国家重点实验室湖北武汉430074

选择ZnO2与Al2O3质量比为97:3的靶材为溅射源,用射频磁控溅射法室温下在玻璃基底上沉积azo/ag/azo薄膜,讨论了氧流量变化对薄膜透光率、方阻及表面形貌的影响并深入分析了机理。研究结果表明,氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化,氧流量... 详细信息

选择ZnO2与Al2O3质量比为97:3的靶材为溅射源,用射频磁控溅射法室温下在玻璃基底上沉积azo/ag/azo薄膜,讨论了氧流量变化对薄膜透光率、方阻及表面形貌的影响并深入分析了机理。研究结果表明,氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化,氧流量为4时薄膜沉积速率最快。沉积azo时充入氧气会使整个膜系的透光率不随ag层增厚明显降低,并且会使膜系的方阻降低。在最优氧流量为4L/min(标准状态下,下同)上下各沉积59nm的azo与氧流量为0时沉积33nm银层相匹配的复合膜在可见光区(包括基底)的透光率达到90%,方阻为2.5Ω/ □。

关键词：磁控溅射 azo/ag/azo 透光导电膜透射率

ag层厚度对azo/ag/azo薄膜性能影响的研究

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中国设备工程 2023年第17期 132-134页

作者：张健峰山东水发综合能源有限公司山东济南250109

透明导电薄膜广泛应用于太阳能电池、触控面板、液晶显示等领域。本文采用磁控溅射法制备azo/ag/azo透明导电薄膜,研究ag层厚度对azo/ag/azo透明导电薄膜光电性能的影响。结果表明,azo薄膜是具有六方晶系ZnO纤锌矿结构的多晶相。当ag层... 详细信息

透明导电薄膜广泛应用于太阳能电池、触控面板、液晶显示等领域。本文采用磁控溅射法制备azo/ag/azo透明导电薄膜,研究ag层厚度对azo/ag/azo透明导电薄膜光电性能的影响。结果表明,azo薄膜是具有六方晶系ZnO纤锌矿结构的多晶相。当ag层厚度增加时,azo/ag/azo薄膜的(002)衍射峰略向较高的角度移动且半高宽略微增大,晶粒尺寸和晶面间距减小。azo/ag/azo薄膜的电阻率,方块电阻,光学透射率与ag层的厚度密切相关。随着ag层厚度的增加,电阻率减小,透射率减小。品质因数表明,其中ag层厚为5nm的azo/ag/azo三层薄膜具有较好的光电性能。

关键词：透明导电薄膜 azo/ag/azo 磁控溅射法 ag层厚度

粉末靶磁控溅射制备azo/ag/azo透明导电薄膜的特性

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半导体技术 2015年第12期40卷 937-943页

作者：刘思宁周艳文吴川吴法宇辽宁科技大学材料与冶金学院辽宁鞍山114051

室温下采用射频磁控溅射粉末靶,在玻璃基底上制备了掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(azo/ag/azo)三层透明导电薄膜。通过优化中间银层厚度,优化了三层透明导电薄膜的光电性能。采用原子力显微镜和X射线衍射仪分别对薄膜的形貌和结构进行检测分... 详细信息

室温下采用射频磁控溅射粉末靶,在玻璃基底上制备了掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(azo/ag/azo)三层透明导电薄膜。通过优化中间银层厚度,优化了三层透明导电薄膜的光电性能。采用原子力显微镜和X射线衍射仪分别对薄膜的形貌和结构进行检测分析;采用紫外可见分光光度计和霍尔效应仪分别对薄膜的光电性能进行检测分析。结果表明,所制备的三层膜表面平整,颗粒大小错落均称;三层膜呈现多晶结构,azo层薄膜具有(002)择优取向的六方纤锌矿结构,ag层薄膜具有(111)择优取向的立方结构;当三层薄膜为azo(20 nm)/ag(12 nm)/azo(20 nm)时,在550 nm处的透光率为88%,方块电阻为4.3Ω/□,电阻率为2.2×10^(-5)Ω·cm,载流子浓度为2.8×1022/cm^3,迁移率为10 cm^2/(V·s),品质因子为3.5×10-2Ω^(-1)。

关键词： azo/ag/azo 多层透明导电薄膜六方纤锌矿结构粉末靶射频磁控溅射

磁控溅射制备azo/ag/azo透明导电薄膜及其光电性质优化研究

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磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电薄膜及其光电性质优化研究

作者：李化鹏东北师范大学

学位级别：硕士

透明导电薄膜在太阳能电池、电磁屏蔽、发光与显示等领域有着广泛的应用。目前,锡掺氧化铟薄膜(ITO)占据着透明导电薄膜市场的主导地位,但由于金属铟价格不断增长以及ITO的机械脆性,已经无法满足市场对柔性透明导电材料的需求,需要发展... 详细信息

透明导电薄膜在太阳能电池、电磁屏蔽、发光与显示等领域有着广泛的应用。目前,锡掺氧化铟薄膜(ITO)占据着透明导电薄膜市场的主导地位,但由于金属铟价格不断增长以及ITO的机械脆性,已经无法满足市场对柔性透明导电材料的需求,需要发展新的材料或结构。以介质层/金属/介质层的夹层结构为基础的透明导电薄膜具有优良的柔性、导电性和透光性,成为最有希望代替ITO薄膜的候选材料之一。本工作利用磁控溅射方法制备了铝掺氧化锌(azo)/ag/铝掺氧化锌(azo)的夹层结构透明导电薄膜,在制备过程中通过氧等离子体处理增大底层azo的表面能和粘附力,进而在其表面生长出平整均匀的超薄ag层,并研究了氧等离子体处理对多层薄膜的光电性质和低辐射性能的影响。主要研究内容包括:1、利用氧等离子体处理底层azo,制备出平整均匀的超薄ag层,为制备出光电性能优异的金属夹层透明导电薄膜奠定了良好的基础。通过接触角和原子力测试了底层azo表面能和粘附力,我们发现:经氧等离子体处理之后,azo表面形成大量的含氧官能团,使底层azo的表面能增大,促使后续生长的金属ag沿平面生长,减小形成连续ag薄膜的临界厚度及其表面粗糙度。2、根据诱导透射理论对azo/ag/azo透明导电薄膜中各层厚度进行优化设计,并实验研究了ag层和顶层azo厚度对薄膜光电性质的影响。结果表明:氧等离子体处理底层azo后,ag层的临界厚度的降低将有利于azo/ag/azo薄膜可见光透过率和电导率的提高,使品质因数达到最大。最终,我们获得了在550 nm处透过率为93.2%,电阻率为3.73×10?·cm的azo/ag/azo透明导电薄膜。3、研究了azo/ag/azo薄膜的低辐射、柔性和电加热性能。氧等离子处理底层azo可以使azo/ag/azo薄膜在具有很高的红外反射率情况下,提高薄膜的可见光透过率,使薄膜具有更小的遮阳系数;此外,对在PET衬底上制备的薄膜进行柔性测试,薄膜在经历1000次弯折之后,面电阻几乎没有变化,体现了良好的可弯折性;与ITO电加热薄膜相比,azo/ag/azo薄膜具有更好的导热性,因此azo/ag/azo薄膜可以在低电压下达到较高的温度,表现出优异的电加热性能。

关键词： azo/ag/azo 氧等离子体处理超薄ag层低辐射电加热

透明导电azo/ag/azo复合薄膜及ITO粉体的研究

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透明导电AZO/Ag/AZO复合薄膜及ITO粉体的研究

作者：贾芳华中科技大学

学位级别：硕士

透明导电薄膜作为一种新型的光电材料显示出多种优异的光电性能并具有广泛的应用背景。目前,应用最为广泛的是集众多优点为一身的氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。由于金属铟属于稀缺资源,而且ITO薄膜本身所固有的缺点使得人们不断改进其性... 详细信息

透明导电薄膜作为一种新型的光电材料显示出多种优异的光电性能并具有广泛的应用背景。目前,应用最为广泛的是集众多优点为一身的氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。由于金属铟属于稀缺资源,而且ITO薄膜本身所固有的缺点使得人们不断改进其性能并开发更具发展潜力的透明导电材料。本论文主要就三层复合透明导电薄膜azo/ag/azo和ITO粉体进行了一些研究。选择ZnO与Al2O3质量比为97:3的靶材为溅射源,用磁控溅射的方法室温在玻璃基底上沉积出光电性能良好的azo/ag/azo复合膜;用化学共沉淀法制备出氧化铟锡质量比为50:50的ITO粉体。讨论了氧流量变化对复合薄膜透过率、方阻和表面形貌的影响及机理,分析了PH值、陈化时间及煅烧温度对ITO粉体晶化程度的影响。主要研究结果如下: 用磁控溅射法制备azo/ag/azo复合膜,氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化,氧流量为4sccm(标准状况下毫升每分,下同)时薄膜沉积速率最快。沉积azo时充入氧气会使整个膜系的透过率不随ag层增厚而明显降低,并且会使膜系的方阻降低。在最优氧流量为4sccm时沉积两层59nm的azo与不充氧气时在这两层中间沉积33nm银层相匹配的复合膜在可见光区(包括基底)的透过率达到88%,方阻为2.5Ω/□。用化学共沉淀法制备的ITO粉体,反应温度为40℃时,未经陈化晶粒有较多缺陷;陈化24小时后,中性和碱性环境下晶化比较完全,可见延长陈化时间有利于结晶。反应温度为70℃不陈化时,酸性环境下,由于沉淀不完全衍射峰较弱。中性环境下,衍射峰最强。碱性环境下,由于温度升高使得反应平衡移动,In(NH3)4+浓度增加,影响了In3+与OH-的正常结合,从而前驱体的生长受到影响,在碱性环境下衍射峰最弱。可见提高反应温度也有利于结晶。反应温度为40℃,在碱性环境下,陈化时间为24小时的衍射峰最尖锐,陈化时间进一步延长到48小时衍射峰的尖锐程度反而下降。当陈化时间小于24小时时沉淀速率>溶解速率,晶粒逐渐长大;当陈化时间等于24小时时沉淀与溶解达到平衡;随着陈化时间延长到48小时,晶粒继续长大,半峰宽变宽。并且,陈化时间24小时时Sn的掺入量最大。此外,随着煅烧温度的升高,晶粒长大,晶面的衍射峰逐渐向右偏移。

关键词： azo/ag/azo ITO粉体磁控溅射化学共沉淀光电性能

ag层厚度对azo/ag/azo透明导电薄膜性能的影响

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真空 2020年第1期57卷 31-34页

作者：李明亮刘利沈燕重庆市计量质量检测研究院重庆401120 昆明理工大学云南昆明650093

在室温条件下,采用磁控溅射技术在玻璃衬底上生长了azo/ag/azo多层透明导电薄膜。主要研究了ag层厚度对多层透明导电薄膜结构和性能的影响。研究表明,azo和ag分别延(002)面和(111)面高度择优生长,随着ag层厚度的增加,多层透明导电薄膜... 详细信息

在室温条件下,采用磁控溅射技术在玻璃衬底上生长了azo/ag/azo多层透明导电薄膜。主要研究了ag层厚度对多层透明导电薄膜结构和性能的影响。研究表明,azo和ag分别延(002)面和(111)面高度择优生长,随着ag层厚度的增加,多层透明导电薄膜的电阻率不断降低,透过率呈现先降低再增加最后再降低的变化趋势,其中ag层厚度为8nm的样品获得最大品质因子33.1×10^-3Ω^-1,综合性能最佳。

关键词：透明导电薄膜 azo/ag/azo 室温沉积

azo/ag/azo透明导电薄膜的制备及其物性分析

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科技创新与应用 2019年第8期9卷 96-97页

作者：杨波长春理工大学吉林长春130022

文章在溶胶燃烧法制备的azo薄膜的基础上,将银层导入其中,制备出azo/ag/azo三层结构透明导电薄膜。并对得到的透明导电薄膜进行分析研究。最终成功降低了溶胶燃烧法制备的薄膜的电阻率。

关键词： azo/ag/azo 溶胶燃烧 azo 真空蒸镀

ag缓冲层对ZnO:Al薄膜结构与光电性能的改善

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物理学报 2017年第2期66卷 322-329页

作者：程静云康朝阳宗海涛曹国华李明河南理工大学物理与电子信息学院焦作454000

在室温条件下,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出了一系列高质量的azo薄膜和不同ag缓冲层厚度的azo/ag/azo复合薄膜.利用x射线衍射和原子力显微镜分别对薄膜的物相和表面形貌进行了表征;利用霍尔效应测试仪和紫外一可见光分光光度... 详细信息

在室温条件下,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出了一系列高质量的azo薄膜和不同ag缓冲层厚度的azo/ag/azo复合薄膜.利用x射线衍射和原子力显微镜分别对薄膜的物相和表面形貌进行了表征;利用霍尔效应测试仪和紫外一可见光分光光度计等实验技术对薄膜的光电性能进行了研究.实验结果表明,ag缓冲层厚度对azo薄膜的晶体结构和光电性能影响较大.当ag层厚度为10 nm时,azo(30nm)/ag(10 nm)/azo(30 nm)薄膜拥有最优品质因子,为1.59×10^(-1)Ω^(-1),方块电阻为0.75Ω/□,可见光区平均透过率为84.2%.另外,薄膜电阻随温度的变化趋势呈现金属电阻随温度的变化特性,光电热稳定性较好.

关键词：射频磁控溅射 azo/ag/azo 光电性能