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中华神经医学杂志 2003年第4期2卷 248-251页

作者：郁毅刚徐如祥姜晓丹柯以铨第一军医大学珠江医院全军神经医学研究所神经外科广东广州510282

目的对比观察正常培养、NMDA损伤及MK-801保护皮层神经元膜表面三维构象形貌改变。方法分别应用光镜、扫描电镜和分辨率为0.1～0.01nm的原子力显微镜(atomic force microscope,afm)对戊二醛固定的正常原代培养大鼠皮层神经细胞膜,NMD... 详细信息

目的对比观察正常培养、NMDA损伤及MK-801保护皮层神经元膜表面三维构象形貌改变。方法分别应用光镜、扫描电镜和分辨率为0.1～0.01nm的原子力显微镜(atomic force microscope,afm)对戊二醛固定的正常原代培养大鼠皮层神经细胞膜,NMDA损伤及MK-801保护后神经元膜表面进行纳米尺度的扫描观测,结果进行比较。结果正常神经元膜表面光滑,起伏均匀,隆起的颗粒状蛋白密集,间隔规律。NMDA损伤后神经元破碎,崩解,膜失去连续性,颗粒蛋白质聚集成大的隆起。脂质凹陷加深,间距增宽,可见空穴状凹陷。MK-801保护作用神经元膜皱折增加,边缘粗糙,起伏程度介于前两者之间。结论 (1)afm分辨率高,制样简单,可对活的或固定的生物样品在自然条件下进行直接观测。(2)afm较SEM能更细微地分辩损伤保护作用后引起的细胞膜表面三维形貌改变并可以做出定量分析。(3)NMDA作用后膜结构开始解体,膜蛋白颗粒聚集增大,脂质凹陷加深,间距增宽,表面粗糙度增加。(4)对于afm应用于生物样品的检测,还应该在制样,提高观测分辩率,增加标记物等方面做进一步研究。

关键词： NMDA损伤 MK-80l 保护作用原代培养神经元膜 afm形貌

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乳源短乳杆菌M8 S-层蛋白的提纯及其生物学特征分析

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食品科学 2012年第7期33卷 172-175页

作者：肖荣范郁冰张丽丽李宗军食品科学与生物技术湖南省重点实验室湖南农业大学食品科学与技术学院湖南长沙410128 湖南省发酵食品工程技术研究中心湖南长沙410128 国家植物功能成分利用工程技术研究中心湖南长沙410128

通过利用原子力显微镜(afm)来观察凝胶过滤层析法提纯短乳杆菌M8菌株的S-层蛋白的表面形貌,同时探讨S-层蛋白的再生特性及黏附特性。结果表明:凝胶过滤层析法能够获得纯度较高的S-层蛋白;该蛋白在纯水中可自我组装成纳米级"团簇"结构;去... 详细信息

通过利用原子力显微镜(afm)来观察凝胶过滤层析法提纯短乳杆菌M8菌株的S-层蛋白的表面形貌,同时探讨S-层蛋白的再生特性及黏附特性。结果表明:凝胶过滤层析法能够获得纯度较高的S-层蛋白;该蛋白在纯水中可自我组装成纳米级"团簇"结构;去除S-层蛋白的菌体细胞仍然具有生命活性,适当培养后可重新表达该蛋白;短乳杆菌M8可黏附到Caco-2细胞上,其S-层蛋白介导此过程。

关键词：短乳杆菌M8 S-层蛋白 afm形貌黏附

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ZnO：Al薄膜的微结构表征和光学特性研究

ZnO：Al薄膜的微结构表征和光学特性研究

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作者：丁继军西北师范大学

学位级别：硕士

ZnO是一种自激活半导体材料,具有六角纤锌矿晶体结构,室温下直接带隙宽度为3.2 3.4 eV,激子束缚能高达60 meV。ZnO无毒,原料廉价易得,且具有较高的化学、机械稳定性及优异的光电学特性,有望在光发射二极管(LED)、透明电极、蓝/紫光发射... 详细信息

ZnO是一种自激活半导体材料,具有六角纤锌矿晶体结构,室温下直接带隙宽度为3.2 3.4 eV,激子束缚能高达60 meV。ZnO无毒,原料廉价易得,且具有较高的化学、机械稳定性及优异的光电学特性,有望在光发射二极管(LED)、透明电极、蓝/紫光发射器件、太阳能电池、表面超声波设备等方面产生广泛的应用,因此研究ZnO薄膜的发光特性具有十分重要的意义。然而,未掺杂的ZnO通常包含着各种本征缺陷,例如Zn空位、填隙Zn、O空位、填隙O和反位O,这些本征缺陷很大程度上会影响ZnO薄膜的发光特性。通过引入杂质可改变ZnO薄膜的缺陷浓度,大量的文献已经报道了Al掺杂ZnO可改变ZnO薄膜的电学特性和光学特性。但是,对Al掺杂ZnO薄膜的结构和可见光发光特性还需做进一步的探讨。本论文采用射频磁控溅射方法在玻璃和Si衬底上沉积了Al掺杂ZnO薄膜,并且研究了Al的掺杂浓度、衬底以及退火处理对ZnO薄膜的结构和光学特性的影响,从而为ZnO薄膜的应用提供一些实验数据和理论基础。主要研究结果如下: 1、Al掺杂浓度对玻璃衬底ZnO薄膜结构和光学特性的影响:结果表明,适量的Al掺杂可提高ZnO:Al薄膜的结晶质量,三个发光峰出现在PL谱中,一个是位于437 nm的强的蓝光发射峰,另两个分别位于492 nm和524 nm的较弱绿光峰,三个发光峰的发光机制被讨论;另外,ZnO薄膜的光学带隙值随Al掺杂浓度的增加先向短波方向移动然后向长波方向移动,基于量子限域模型计算所得的光学带隙值与实验值完全一致。 2、不同衬底和退火温度对Al掺杂ZnO薄膜结构和光学特性的影响:XRD测试结果表明沉积在Si衬底上的ZnO薄膜半峰全宽明显降低并且晶粒尺寸增加;而沉积在玻璃衬底上的ZnO薄膜可观察到一个位于449 nm强的蓝光峰。最后,我们讨论了退火对Si衬底ZnO薄膜结构和光学特性的影响。当样品在真空中退火后, ZnO薄膜的晶格质量明显提高,位于449 nm的蓝光峰强度也明显增加,这表明ZnO薄膜的可见区发光特性更多地依赖于薄膜结晶质量而不是薄膜化学计量比。 3、Si衬底上Al掺杂ZnO薄膜的结构和光学特性的研究:XRD测试结果表明Al掺杂量为0.75 wt.%的ZnO:Al薄膜有着最好的晶格质量,然后将此薄膜在真空600℃进行不同时间的退火,XRD测试结果表明退火0.5 h后薄膜的晶格质量提高。从不同Al掺杂量的ZnO薄膜PL谱中可观察到四个主要的发光峰,它们分别位于390, 445, 490和530 nm,当Al掺杂浓度增加到1.14 wt.%时,位于445 nm的蓝光峰和490 nm的绿光峰强度增加并且FWHM降低,而蓝光中心蓝移到429 nm。一个类似的结果在退火0.5 h后的样品中观察到。我们得出的结论是Al掺杂浓度和退火处理可导致反位O和填隙Zn缺陷浓度的变化。

关键词： ZnO薄膜磁控溅射 X射线衍射 afm形貌光学特性

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锈蚀终结剂涂层的转化过程及其电化学行为

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现代涂料与涂装 2014年第4期17卷 8-9,28页

作者：席发臣邹冠驰宋轶黎李志宝雍兴跃中昊北方涂料研究设计院有限公司兰州730020 北京化工大学北京100029

采用扫描电镜对锈蚀终结剂涂层的表面形貌进行分析,采用原子力显微镜技术研究了锈蚀终结剂涂层的转化过程。同时,利用电化学方法,研究了锈蚀终结剂涂层在腐蚀介质中的电化学行为。结果表明,在含锈蚀终结剂的涂层中,确实在发生一些化学反... 详细信息

采用扫描电镜对锈蚀终结剂涂层的表面形貌进行分析,采用原子力显微镜技术研究了锈蚀终结剂涂层的转化过程。同时,利用电化学方法,研究了锈蚀终结剂涂层在腐蚀介质中的电化学行为。结果表明,在含锈蚀终结剂的涂层中,确实在发生一些化学反应,反应结果使得锈蚀终结剂涂层最终融为一体,成为均匀相。随着浸泡时间的延长,锈蚀终结剂涂层在开始阶段,其电化学反应阻抗随着浸泡时间增加而增大,当其浸泡超过48 h之后,随着浸泡时间的增加,电化学反应阻抗随着浸泡时间减小,耐蚀性降低。表明锈蚀终结剂在还原性环境中有更好的抗腐蚀作用,且需要配套防腐涂层才能具有很好的耐蚀性。

关键词：锈蚀终结剂转化过程电化学行为 SEM表面分析 afm形貌交流阻抗谱

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锈蚀终结剂涂层的转化过程及其电化学行为

锈蚀终结剂涂层的转化过程及其电化学行为

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中国腐蚀电化学及测试方法专业委员会2012学术年会

作者：席发臣邹冠驰宋轶黎李志宝雍兴跃北京化工大学北方涂料研究院

采用原子力显微镜技术,研究了锈蚀终结剂涂层的转化过程。同时,利用电化学方法,研究了锈蚀终结剂涂层在腐蚀介质中的电化学行为。结果表明,在含锈蚀终结剂的涂层中,确实在发生一些化学反应,反应结果使得锈蚀终结剂涂层最终融为一体,成... 详细信息

采用原子力显微镜技术,研究了锈蚀终结剂涂层的转化过程。同时,利用电化学方法,研究了锈蚀终结剂涂层在腐蚀介质中的电化学行为。结果表明,在含锈蚀终结剂的涂层中,确实在发生一些化学反应,反应结果使得锈蚀终结剂涂层最终融为一体,成为均匀相,并且形成低粗糙度表面。随着浸泡时间的延长,锈蚀终结剂涂层在开始阶段,其电化学反应阻抗随着浸泡时间增加而增大当其浸泡超过48小时之后,随着浸泡时间的增加,电化学反应阻抗随着浸泡时间减小,耐蚀性降低。表明锈蚀终结剂在还原性环境中有更好的抗腐蚀作用,且需要配套防腐涂层才能具有很好的耐蚀性。

关键词：锈蚀终结剂转化过程电化学行为 afm形貌交流阻抗谱

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