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An Alternating Direction Method of Multipliers for Inverse Lithography Problem

Numerical Mathematics(Theory,Methods and Applications) 2023年第3期16卷 820-846页

作者： Junqing Chen Haibo Liu Department of Mathematical Sciences Tsinghua UniversityBeijing 100084China

We propose an alternating direction method of multipliers(admm)to solve an optimization problem stemming from inverse *** objective functional of the optimization problem includes three terms:the misfit between the imaging on wafer and the target pattern,the penalty term which ensures the mask is binary and the total variation regularization *** variable splitting,we introduce an augmented Lagrangian for the original objective *** the framework of admm method,the optimization problem is divided into several *** of the subproblems can be solved *** give the convergence analysis of the proposed ***,instead of solving the subproblem concerning sigmoid,we solve directly the threshold truncation imaging function which can be solved *** also provide many numerical examples to illustrate the effectiveness of the method.

关键词： Inverse lithography techniques admm framework total variation regularization

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