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52 条 记 录,以下是41-50 订阅
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飞利浦的90nm ARM处理器将高性能与低功耗融为一体
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今日电子 2005年 第4期 81-81页
皇家飞利浦电子公司的LPC3000系列微控制器基于ARM9内核,采用飞利浦、飞思卡尔半导体和意法半导体在法国建立的Crolles2联盟先进的300mm试验设备开发的90nm工艺技术制造。通过采用90nm工艺技术和ARM926EJ-S内核,飞利浦可以降低生产成... 详细信息
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石化专用设备向大型化发展
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化工机械 2005年 第2期32卷 99-99页
作者: 钱伯章
石化专用设备发展迅速,其中常减压蒸馏装置单系列达到年产10000kt万吨,其中常压塔直径达到9~10m,减压塔直径达到16m。催化裂化装置达到年产4000kt,其中反应器直径达到8.9m,再生器直径达到15.6m。加氢装置规模达到年产2000~4000k... 详细信息
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莱钢特殊钢厂成功开发SCM822H高档汽车用齿轮钢
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鞍钢技术 2005年 第2期 23-23页
2005年2月19日,山东莱芜钢铁股份有限公司特殊钢厂采用50tUHP电弧炉-LF(VD)-CC(260mm×300mm大方坯)-热装热送工艺生产Ф75mm、120mm规格SCM822H高档汽车用齿轮钢一次成功,一次检验全部符合日本JIS4052技术标准要求,该产品的各项技... 详细信息
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信越化学公司扩建欧洲PVC装置
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中国氯碱 2005年 第6期 45-45页
作者: 张泗文
该公司正在分2期把其在荷兰Pernis工厂的PVC生产能力从35万t/a扩大到45万t/a;第二期工程2006年10月竣工。信越化学公司在3月底结束的2004~2005财政年度,经营利润同比增长10.7%,达到了15.6亿美元,该公司是世界最大的硅晶片厂家... 详细信息
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反射板上45°斜孔的钻削加工
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新技术新工艺 2005年 第5期 42-42页
作者: 马连英 费国强 张永生 西北核技术研究所 710024
有一特殊的铝制方形反射板,如图1所示.尺寸为300mm×300mm× 4 mm,上面分布有900个与铝板平面成45°的直径φ1 mm斜孔,相邻孔间距在横向和纵向都有公差要求,各孔之间还有平行度(φ0.05 mm)要求.
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纯度为6N的钨靶材
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世界有色金属 2005年 第8期30卷 74-74页
作者: 李有观
日本一家冶金公司研制出一种纯度为6N的钨靶材,其直径为300mm,其中钠和钾的含量各低于10×10^-9,铁、镍、铬、铜、铝的含量各低于200×10^-9,铀和钍的含量低于0.2×10^-9,氧低于80×10^-6,金属杂质总量低于1×10^-6。这种材料经... 详细信息
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TEL推出等离子增强型批处理热CVD系统
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电子工业专用设备 2005年 第8期34卷 81-81页
设在德州奥斯汀的TEL美国总部日前推出用于先进薄膜淀积的IRad,一种300mm等离子增强批处理热化学汽相淀积(CVD)系统。IRad系统是基于全面的经生产验证的TEL FORMULATM装料尺寸可变的反应器设计基础之上开发研制出的。
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AMD德国FAB 36选用吉时利(Keithley)S680型半导体参数测试系统
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电子与电脑 2005年 第4期5卷 147-147页
吉时利仪器公司今日发布了美国AMD公司选用吉时利(Keithley)公司S680型直流/射频(DC/RF)半导体参数自动测试系统,以支持AMD公司位于德国德累斯顿市技术发展水平最高的300mm Fab 36的先进逻辑芯片的全部生产。S680直流/射频(DC/RF... 详细信息
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飞利浦推出基于ARM9的90nm MCU
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世界电子元器件 2005年 第5期 19-19页
飞利浦电子公司日前推出首个基于ARM9系列的90nm 32位微控制器系列。LPC3000系列基于飞利浦的Nexperia平台,采用飞利浦、飞恩卡尔半导体和意法半导体在法国建立的Crolles2鞋盟先进的300mm试验设备开发的90nm工艺技术制造。通过采用90n... 详细信息
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一种长型芯的注塑模具设计
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广东塑料 2005年 第4期 43-43页
作者: 保莉 贵州师范大学机械工程学院 贵州贵阳550014
因生产需要配套生产100万件长约150mm、直径为35mm的一边封闭的锥形管,在开口端设有凸缘,在封闭端以及在周边设有通孔。按照配套生产的需要日产量为6000件。在注塑厂最大模厚300mm和开模行程也为300mm的注塑机也是有的,只是塑化量较... 详细信息
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