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Design of antireflective coatings for AZO low infrared emissivity layer

Chinese Optics Letters 2013年第13期11卷 9-11页

作者：郭婷婷郑礼清 Jean Pierre Nshimiyimana 刁训刚陈强 School of Physics and Nuclear Energy Engineering Beihang University Beijing 100191 China Dongguan CAMDA New Energy Research Institute Dongguan 523407 China

In this letter, we investigate the structural, optical, and electrical properties of Al-doped ZnO （AZO） thin film coating prepared by direct current （DC） facing-target sputtering method at room temperature, of which the average optical transmittance is 81% between 400 and 700 nm while the sheet resistance is about 10 Ω/□. Then, based on this AZO coating, in order to enhance the transmittance, interfacial adhesion strength and weathering resistance, two kinds of antireflective coatings are designed for different application purposes. For the two kinds, the highest transmittances in the visible region （400 700 nm） can reach 86.9% and 81.8%. resoectivelv. The design is performed using Macleod Optical Design software.

关键词： 160.0160 Materials 200.0200 Optics in computing 220.0220 Optical design and fabrication 310.0310 Thin films

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Pulsed DC magnetron sputtering of transparent conductive oxide layers

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Chinese Optics Letters 2013年第13期11卷 21-25页

作者： Astrid Bingel Kevin Fiichsel Norbert Kaiser Andreas Tunnerman Institute of Applied Physics Abbe Center of Photonics Friedrich-Schiller-Universitgt Jena Max-Wien-Platz 1 07743 Jena Germany Fraunhofer Institute for Applied Optics and Precision Engineering Albert-Einstein-Str. 7 07745 3ena Germany

A comprehensive material study of different transparent conductive oxides （TCOs） is presented. The layers are deposited by pulsed direct current （DC） magnetron sputtering in an inline sputtering system. Indium tin oxide （ITO） films are studied in detail. The optimum pressure of 0.33 Pa （15Ar：202） produces a 300- nm thin film with a specific resistivity p of 2.2 × 10-6 Ωm and a visual transmittance of 81%. Alternatively, ZnO：A1 and ZnO：Ga layers with thicknesses of 200 and 250 nm are deposited with a minimum resistivity of 5.5× 10-6 and 6.8× 10-6Ωm, respectively. To compare the optical properties in the ultraviolet （UV） range, the optical spectra are modeled and the band gap is determined.

关键词： 310.0310 Thin films 220.0220 Optical design and fabrication 160.0160 Materials

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