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日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 1 篇 14nm工艺光刻对准
  • 1 篇 对策探讨
  • 1 篇 异常问题

机构

  • 1 篇 长春理工大学

作者

  • 1 篇 宋贵才
  • 1 篇 孙德昌
  • 1 篇 黄羽茜

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=14nm工艺光刻对准"
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14nm工艺光刻对准之异常问题与对策探讨
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引用
电子元器件与信息技术 2020年 第1期4卷 11-12+17页
作者： 孙德昌 宋贵才 黄羽茜 长春理工大学
一般情况下,光刻属于微纳米器件制备器件过程中十分关键的部分,无论是半导体、光电器件,还是微米纳米的机电系统,在制备工作中均需要光刻工艺的支持。然而,目前在14nm工艺光刻对准的过程中,由于会受到各种因素的影响,经常会出现一些异... 详细信息
来源： 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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