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微电子机械系统(MEMS)面内位移的扫描离子束云纹法实验研究

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实验力学 2003年第1期18卷 12-16页

作者：谢惠民戴福隆尚海霞李标清华大学工程力学系北京100084 教育部破坏力学重点实验室客座研究人员北京100084

本文提出应用扫描离子束云纹法测量微电子机械系统面内变形的新方法.对该方法的测量原理以及实验技术进行了详尽地阐述.通过平行云纹典型实验对本方法的测量精度进行了检验.成功地将扫描离子束云纹法应用于微悬臂梁表面氧化层随时间生... 详细信息

本文提出应用扫描离子束云纹法测量微电子机械系统面内变形的新方法.对该方法的测量原理以及实验技术进行了详尽地阐述.通过平行云纹典型实验对本方法的测量精度进行了检验.成功地将扫描离子束云纹法应用于微悬臂梁表面氧化层随时间生长所引起的变形测量.实验结果表明了该方法的可行性.

关键词：扫描离子束云纹法高频光栅应变微电子机械系统面内变形

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微电子封装组件热应变的云纹干涉法研究

实验力学 2002年第z1期17卷 157-164页

作者：邹大庆谢惠民刑永明卿新林戴福隆清华大学工程力学系北京100084

本文提出云纹高频试件栅高温复制组件工艺,并应用于电子封装组件125℃～200℃,热应变的云纹干涉法测量,得到了封装组件表面在高温下的热膨胀系数,本云纹特点是灵敏度高,可全场测量,适用于电子封装组件热变形失效分析.

关键词：云纹干涉法高频光栅电子封装组件热膨胀系数

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实验室全息光栅的制作及质量评定

物理与工程 2009年第1期19卷 29-32页

作者：杨伟斌滕坚深圳职业技术学院物理实验室广东深圳518055

分别介绍高频、低频光栅的制作原理和制作实例,并对制作光栅的质量进行评定.

关键词：高频光栅低频光栅光栅制作光栅质量评定

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扫描离子束云纹法

光学技术 2003年第1期29卷 23-26页

作者：谢惠民李标尚海霞戴福隆清华大学工程力学系北京100084 清华大学结构与振动开放实验室

提出了一种在微米尺度下测量物体面内位移的新型扫描离子束云纹法。对该方法的测量原理以及变形测量的精度进行了阐述。以平行云纹和转角云纹为典型实验对该方法的测量精度进行了检验。该方法成功地应用于微电子系统结构在去除SiO2牺牲... 详细信息

提出了一种在微米尺度下测量物体面内位移的新型扫描离子束云纹法。对该方法的测量原理以及变形测量的精度进行了阐述。以平行云纹和转角云纹为典型实验对该方法的测量精度进行了检验。该方法成功地应用于微电子系统结构在去除SiO2牺牲层后的残余变形测量。实验结果证实了该方法的可行性。

关键词：扫描离子束云纹法高频光栅应变微电子机械系统面内变形

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光折变高阶衍射中的图像分析

量子电子学报 2004年第5期21卷 697-697页

作者：宫德维周忠祥哈尔滨工业大学物理系黑龙江哈尔滨150001

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高温云纹干涉法的进展

光学技术 1997年第2期23卷 22-27页

作者：谢惠民戴福隆邹大庆王国韬张维清华大学工程力学系中国兵工物资总公司

本文对云纹干涉法在高温范围的测量应用进行了回顾。对制栅方法、高温云纹干涉光路系统及高温云纹干涉法在材料高温蠕变测量、高温蒸气管道现场蠕变测量。

关键词：云纹干涉法高温蠕变高频光栅

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第三讲云纹干涉法

实验力学 1990年第1期5卷 114-128页

作者：王银燕天津大学

1 引言本篇介绍了云纹干涉法的发展历史,光学原理,实验技术,在断裂测试中的应用及其发展前景。本篇采用的一种非常简单的方法来定量地解释云纹干涉条纹及其形成,使不熟悉波前干涉理论的初学者易于接受,而又不失其理论上的严谨。云纹干涉... 详细信息

1 引言本篇介绍了云纹干涉法的发展历史,光学原理,实验技术,在断裂测试中的应用及其发展前景。本篇采用的一种非常简单的方法来定量地解释云纹干涉条纹及其形成,使不熟悉波前干涉理论的初学者易于接受,而又不失其理论上的严谨。云纹干涉法(Moire Interferometry)是在经典云纹法基础上发展起来的一种光测力学新方法。它继承了经典云纹法的简易性、全场性、实时性、条纹定域在表面及不受试件材料限制等的优点,加之测量灵敏度高(可达0.25μm),条纹反差好,而越来越受到实验力学工作者的重视。同时,云纹干涉法综合了经典云纹法和全息干涉的概念和技术。

关键词：云纹干涉法云纹法试件栅条纹定域光栅方程干涉条纹两次曝光实验技术应变场高频光栅

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微结构光学研究进展

世界科学 2001年第3期 28-29页

作者：周常河席鹏刘友文刘立人中国科学院上海光学精密机械研究所

微结构光学是一门属于多门前沿学科交叉的新兴学科,正处在产生重要研究成果的前沿,极有可能引发新兴产业.随着微电子工艺技术的进展,人们可以加工出越来越细的线宽,0.35微米线宽目前已在商品化生产线中采用,正在积极准备把0.18微米线宽... 详细信息

微结构光学是一门属于多门前沿学科交叉的新兴学科,正处在产生重要研究成果的前沿,极有可能引发新兴产业.随着微电子工艺技术的进展,人们可以加工出越来越细的线宽,0.35微米线宽目前已在商品化生产线中采用,正在积极准备把0.18微米线宽工艺技术推向市场,80纳米线宽已在某些实验室中成功做出.按照摩尔定律,更细线宽的加工能力继续取得进展,这说明人类正具有前所未有的微小尺度的加工能力,由此极可能引发新一轮光学产业技术革命.值得说明的是微电子工艺技术并不完全是微光学技术,如何设计、优化,并利用微电子工艺技术制造微光学元件与系统,以降低成本,提高性能,是微光学研究的重要内容.

关键词：光学微结构线宽波分复用器件微电子工艺技术微光学元件高频光栅衍射光学元件光栅衍射超短光脉冲超短激光脉冲介观光学激光表演

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明亮周围对对比敏感度函数的双重影响

生理学报 1981年第4期 409-413页

作者：刘育民蒋百川中国科学院上海生理研究所

本工作表明,与目标光栅平均亮度相等的周围或侧带对于对比敏感度函数的影响同光栅频率有关,在低频时使对比敏感度略提高,然后过渡到使高频光栅的对比敏感度略微降低。各种周围对于低频光栅对比敏感度影响,方向上与 McCann 和 Hall 一致... 详细信息

本工作表明,与目标光栅平均亮度相等的周围或侧带对于对比敏感度函数的影响同光栅频率有关,在低频时使对比敏感度略提高,然后过渡到使高频光栅的对比敏感度略微降低。各种周围对于低频光栅对比敏感度影响,方向上与 McCann 和 Hall 一致,但在我们的实验条件下所观察到的作用要小得多。引起周围影响的可能原因是多方面的。周围或侧带影响对比敏感度的原因,主要是由于同时对比,散射光的影响甚小。

关键词：周围平均亮度对比敏感度函数高频光栅双重影响