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    • 1 篇 化学

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  • 1 篇 半导体材料
  • 1 篇 应用
  • 1 篇 高纯金属

机构

  • 1 篇 北京大学
  • 1 篇 锦州市产品质量监...
  • 1 篇 峨眉半导体材料研...

作者

  • 1 篇 徐平
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  • 1 篇 张腾月
  • 1 篇 洪梅
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  • 1 篇 周渊名
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当代高纯半导体材料分析的进展(二)
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四川有色金属 1994年 第3期 22-29页
作者： 李昌世 峨眉半导体材料研究所 峨眉山市614200
6N—8N高纯镓、铟、砷、磷、碲、镉、汞等高纯元素是制备化合物半导体材料的基础材料,要求严格控Fe、Al、Mg、Si、Cu、Pb、Cd、Zn、Sn、C、H、O、N、Na、K等杂质浓度,为了确保产品质量。
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辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用
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中国无机分析化学 2019年 第2期9卷 24-34页
作者： 王爽 白杉 徐平 王树英 郭雅尘 左文家 张腾月 周渊名 梁雪松 洪梅 锦州市产品质量监督检验所国家光伏材料质量监督检验中心 辽宁锦州121000 北京大学化学生物学与生物技术学院 广东深圳518055
高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用。综述了GDMS法对高纯金... 详细信息
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