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作者

  • 1 篇 刘金鑫
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检索条件"主题词=高温CVD"
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高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层
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功能材料 2017年 第6期48卷 6183-6186,6192页
作者： 张丽 齐海涛 徐永宽 王利杰 史月增 刘金鑫 中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300220
采用高温化学气相沉积法(cvd)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层。通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温cvd法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层。
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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