检索结果-南通市图书馆

材料导报 2023年第17期37卷 113-118页

作者：戴金荣唐志红段于森张景贤上海理工大学材料与化学学院上海200093 中国科学院上海硅酸盐研究所上海200050

氮化硅陶瓷具有良好的热导率与优异的力学性能,在大功率电子器件中具有较好的应用前景。实现氮化硅陶瓷与金属的高温共烧对其在电子器件中的应用具有重要意义。高温共烧技术常用氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷和氮化铝陶瓷作为基板材料,鉴于此... 详细信息

氮化硅陶瓷具有良好的热导率与优异的力学性能,在大功率电子器件中具有较好的应用前景。实现氮化硅陶瓷与金属的高温共烧对其在电子器件中的应用具有重要意义。高温共烧技术常用氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷和氮化铝陶瓷作为基板材料,鉴于此,本工作以氮化硅陶瓷为基板材料,结合流延成型、丝网印刷以及高温共烧技术制备氮化硅多层共烧组件,探究烧结助剂(Er_(2)O_(3))含量对氮化硅陶瓷性能的影响,并对氮化硅多层组件脱粘工艺、界面结构与成分和导电性能进行分析与讨论。结果表明:Er_(2)O_(3)含量为9%(质量分数,下同)时,可得到相对密度、收缩率、热导率和抗弯强度分别为95.35%、10.33%、69.94 W/(m·K)和(807.33±10.34)MPa的氮化硅陶瓷。适用于氮化硅多层组件的脱粘工艺为:在真空下以1℃/min的速率升温到600℃并保温1 h。共烧后氮化硅多层组件中的W层厚度约为7μm,W层与陶瓷层界面明显,既存在机械互锁型结构,也有界面反应发生,产物为W5Si3。组件的薄层方阻为0.878Ω/sq,证明组件具有导电性能。本工作为高温共烧技术提供了一种新型的基板材料,也为氮化硅陶瓷与金属高温共烧做出了新的探索,有利于扩展氮化硅陶瓷在电子行业的应用。

关键词：高温共烧技术氮化硅陶瓷丝网印刷钨

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