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走滑断裂古地震探槽选址范例

地质通报 2016年第11期35卷 1807-1828页

作者：袁兆德刘静李占飞邵延秀李志刚王鹏王伟姚文倩中国地震局地质研究所北京100029 中国地震灾害防御中心北京100029 中国地震局兰州地震研究所甘肃兰州730000

探槽选址直接决定了古地震研究的质量,且理想探槽位置具有稀缺性。在收集82篇国内外走滑断裂古地震研究论文的基础上,分析了长序列古地震探槽选址和同震位移探槽选址的构造地貌共性特征。长序列古地震探槽一般布设在断塞塘、拉分盆地、... 详细信息

探槽选址直接决定了古地震研究的质量,且理想探槽位置具有稀缺性。在收集82篇国内外走滑断裂古地震研究论文的基础上,分析了长序列古地震探槽选址和同震位移探槽选址的构造地貌共性特征。长序列古地震探槽一般布设在断塞塘、拉分盆地、小型湖盆、闸门脊汇水一侧及比较平缓的冲洪积扇或大型冲洪积扇末端等地貌位置。这些地貌位置的共同特征是位于连续的、较高沉积速率的沉积环境,且通常富集14C测年物质。在探槽选址的过程中,不仅要对现今沉积环境,也要对其古地理环境进行评价。然而以发掘古地震同震位移为目的的探槽选址则不同,成功的研究点往往较频繁发生侵蚀和下切事件,其中冲沟是最常见的地貌标志。探槽布设以垂直和平行探槽为主,采取逐次掘进或相间平行排列的方式开挖。由于理想探槽位置的稀缺性,所以在这些优质的探槽点一定要开展长期详细地深入研究,最大限度获得古地震事件的长序列,同时也要注意新技术和新方法的应用。

关键词：走滑断裂古地震探槽选址高沉积速率埋藏冲沟同震位移

1nm/s高速率微晶硅薄膜的制备及其在太阳能电池中的应用

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Journal of Semiconductors 2007年第2期28卷 209-212页

作者：张晓丹张发荣赵颖陈飞孙建魏长春耿新华熊绍珍南开大学光电子薄膜器件与技术研究所光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室天津300071

采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在相对较高气压和较高功率条件下,制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料.材料沉积速率随硅烷浓度的增加而增大,通过对材料的电学特性和结构特性的分析得知:获得了沉积速率超过1nm/s高速率器件质量级... 详细信息

采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在相对较高气压和较高功率条件下,制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料.材料沉积速率随硅烷浓度的增加而增大,通过对材料的电学特性和结构特性的分析得知:获得了沉积速率超过1nm/s高速率器件质量级微晶硅薄膜,并且也初步获得了效率达6.3%的高沉积速率微晶硅太阳电池.

关键词：甚高频等离子体增强化学气相沉积微晶硅薄膜太阳电池高沉积速率化学气相沉积技术

第二代高温超导YBa2Cu3O7-x薄膜及其缓冲层薄膜的制备

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第二代高温超导YBa2Cu3O7-x薄膜及其缓冲层薄膜的制备

作者：苏轼武汉工程大学

学位级别：硕士

高温超导体YBaCuO(YBCO)具有优异的电学性能,所以许多科研人员对其产生较大的兴趣。YBCO只有在制成带材以后,才能被使用。当前生产YBCO带材的主要思路是,选用具有一定机械强度的金属基带,然后从下至上,依次在基带上镀上多层缓冲层薄膜... 详细信息

高温超导体YBaCuO(YBCO)具有优异的电学性能,所以许多科研人员对其产生较大的兴趣。YBCO只有在制成带材以后,才能被使用。当前生产YBCO带材的主要思路是,选用具有一定机械强度的金属基带,然后从下至上,依次在基带上镀上多层缓冲层薄膜和一层YBCO薄膜。现今有很多较为成熟的薄膜制备方法,其中金属有机化学气相沉积(MOCVD)一直被视为是最具潜力的镀膜方法之一,它具有覆盖均匀、薄膜组分可控性高、可在复杂形状的基体上镀膜和沉积速率高等优点。激光化学气相沉积(LCVD)是一种特殊的MOCVD技术,该技术通过连续的激光束进行增强,激光束能激活前驱体分子,加速化学反应。从技术层面上来讲,LCVD加快了薄膜的沉积进程,使薄膜的择优取向得到增加,且薄膜的沉积温度也会有所降低,和MOCVD相比,LCVD在YBCO带材的制备上更具有潜力。本论文首先选用(100)取向LaAlO单晶作为基体,通过激光化学气相沉积法(固体原料加热系统),在基体上制备出高质量的CeO缓冲层薄膜。随后,我们选用Hastelloy C276合金作为基体,通过激光化学气相沉积法(液体原料输送系统),在基体上制备出高电学性能的YBCO薄膜。在本论文中,我们主要研究了激光功率(沉积温度)和沉积速率对CeO和YBCO薄膜各项性能的影响。在制备CeO薄膜时,薄膜的制备温度设置为947-1096 K(对应的激光功率为52-185 W)。当沉积温度在1027 K到1096 K范围内(即激光功率从115W到185W)时,制备的薄膜呈现出高度的(100)取向,薄膜由顶部呈楔形的柱状晶粒构成,它的外延生长关系是CeO[100]//LAO[100](CeO[010]//LAO[011])。CeO薄膜(200)晶面的ω扫描的半高宽为0.8-1.8°,其(220)的φ扫描的半高宽为0.7-1.2°。本实验中,薄膜的最大生长速率为32μm/h,此时薄膜不具有纯净的(100)择优取向,具有纯净(100)择优取向的CeO薄膜的最大生长速率为30μm/h。在制备YBCO样品时,其沉积速率设置为10-55μm/h。当沉积速率为10μm/h时,实验制得了c-轴取向的YBCO薄膜,样品的临界温度(T)达到91 K、临界电流密度(J)达到2.4 MA/cm,该薄膜的外延生长模式为YBCO[001]//CeO[100](YBCO[100]//CeO[011]),样品(005)晶面的ω扫描的半高宽为1.9°,(102)的φ扫描的半高宽为3.2°;当沉积率为45μm/h时,实验制得了a-轴取向的YBCO薄膜,该条件下样品的T为78 K、J为0.4 MA/cm,该薄膜的外延生长模式为YBCO[100]//CeO[100](YBCO[001]//CeO[011]),样品(005)晶面的ω扫描的半高宽为4.9°,(102)的φ扫描的半高宽为9.5°。

关键词：激光化学气相沉积 CeO2缓冲层 YBCO薄膜高沉积速率

同方学位论文库评论

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无镍型化学镀铜工艺研究

印制电路资讯 2024年第1期 98-103页

作者：詹安达杨帆孙宇曦曾庆明广东工业大学轻工化工学院广东广州510006 广东硕成科技股份有限公司广东韶关512700

为了追求环保和可持续发展的目标,无镍化学镀铜被广泛视为未来的趋势。这种镀铜方法显著降低了传统工艺所带来的负面环境影响,它不仅消除了对镍盐的依赖,还将废水和废料的产生降至最低。本文的研究集中在开发一种无镍型化学镀铜镀液,通... 详细信息

为了追求环保和可持续发展的目标,无镍化学镀铜被广泛视为未来的趋势。这种镀铜方法显著降低了传统工艺所带来的负面环境影响,它不仅消除了对镍盐的依赖,还将废水和废料的产生降至最低。本文的研究集中在开发一种无镍型化学镀铜镀液,通过对镀液的成分和工艺条件进行深入研究,成功实现了一种具有高沉积速率和稳定性良好的无镍型化学镀铜镀液。研究结果表明,这一创新的无镍电镀系统具有广阔的可持续和环保镀铜应用前景。

关键词：化学镀铜无镍稳定性高沉积速率

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液态靶材磁控溅射技术研究进展

真空与低温 2024年第5期30卷 496-503页

作者：王浪平孙田玮哈尔滨工业大学哈尔滨150001

随着先进制造业的迅猛发展,对高性能涂层的需求日益增长。以经济高效的方式沉积高性能涂层成为了科学界研究的热点。液态靶材磁控溅射技术因兼备磁控溅射与蒸镀的优点,受到了研究者的广泛关注。从液态靶材磁控溅射技术的基本原理出发,... 详细信息

随着先进制造业的迅猛发展,对高性能涂层的需求日益增长。以经济高效的方式沉积高性能涂层成为了科学界研究的热点。液态靶材磁控溅射技术因兼备磁控溅射与蒸镀的优点,受到了研究者的广泛关注。从液态靶材磁控溅射技术的基本原理出发,深入分析了放电过程中的特点与等离子体特性,总结了其特点与优势以及在涂层沉积领域的具体应用,最后指出了该技术当前存在的不足之处,并对其未来的发展趋势进行了展望。

关键词：磁控溅射液态靶材薄膜制备等离子体特性放电特性蒸发高沉积速率