咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

限定检索结果

文献类型

  • 1 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 1 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 1 篇 理学
    • 1 篇 物理学
    • 1 篇 化学
  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 冶金工程
    • 1 篇 电气工程
    • 1 篇 电子科学与技术（可...
    • 1 篇 化学工程与技术

主题

  • 1 篇 生长行为
  • 1 篇 hfo2
  • 1 篇 高介电质薄膜
  • 1 篇 原子层沉积

机构

  • 1 篇 西安文理学院
  • 1 篇 西安交通大学

作者

  • 1 篇 徐可为
  • 1 篇 马大衍
  • 1 篇 聂祥龙

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=高介电质薄膜"
共 1 条 记 录，以下是1-10 订阅
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到"检索档案"
详细 简洁
排序：
ALD沉积HfO_2薄膜生长行为及其调控
收藏
分享
引用
稀有金属材料与工程 2015年 第11期44卷 2907-2912页
作者： 聂祥龙 马大衍 徐可为 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室 陕西西安710049 西安文理学院 陕西西安710065
采用原子层沉积(ALD)的方法,选择四二乙基氨基铪(TDEAH)和水作为反应前驱体,在p型(100)单晶硅衬底上制备了HfO_2高介电质薄膜。系统研究了前驱体流量、反应气压、反应温度等工艺参数对HfO_2薄膜生长质量的影响。通过工艺调控,发现存在... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到“检索档案”
共1页 <<  < 1 >  >>
回到顶部
执行限定条件