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高介电常数玻璃纤维
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玻璃纤维 1995年 第3期 56-56页
作者: 俞靖生
据讯,日本开发了高介电常数玻璃纤维.这种玻璃纤维有利于使面向高频设备的印刷线路板实现小型化.对于这些便携式器件来说,印刷线路板的小型化是必要前提,因此需要采用介电常数高的覆铜层压板.用于这种覆铜板的树脂自然应是高介电常数树... 详细信息
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高介电常数的碳酸酯系新溶剂开发成功
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精细化工 1985年 第1期 70-70页
作者: 祝轶
日本公司开发出在以前通用的有机溶剂中还没见过的、具有高介电常数的环状碳酸酯,并已开始试销。该公司还开发了其它种类的环状碳酸酯,其中代表产品是4-异丙基-5.5-二甲基丙撑(烯)碳酸酯(略写为PDMPC),它是有下示构造的化合物;
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高介电常数介电陶瓷
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稀土信息 1992年 第7期 11-11页
作者: 李春鸿
据《日经新材料》1991年第107期报道,日本村田制作所开发出一种用于携带式电话机的不受温度变化影响、谐振频率稳定的实用性介电陶瓷。介电常数达到110,比常规材料的高20%,但体积可减少10%。一般材料介电常数越高,越能制造更小体积的... 详细信息
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改性多省并醌的合成与性能研究
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功能材料 2012年 第19期43卷 2588-2594页
作者: 姚子君 郑华靖 唐先忠 阮政 电子科技大学光电信息学院 四川成都610054
合成了两种新型蒽醌单体:1,4-二(辛氧基)蒽-9,10-二酮和1,4-二(丁氧基)蒽-9,10-二酮。通过红外、核磁和元素分析确证了单体的结构。DSC、TG结果显示两种新型单体的5%质量损失温度最高可达266.4℃。将新型蒽醌单体与均苯四甲酸酐在硝基... 详细信息
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氧化物添加对BaO-TiO_(2)-Al_(2)O_(3)-SiO_(2)玻璃陶瓷介电性能的影响
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稀有金属 2021年 第2期45卷 210-216页
作者: 周敏 张庆猛 陈均优 孙竹叶 杨婧 北京有色金属研究总院先进电子材料研究所 北京100088
采用烧结法制备工艺,成功制备了BaO-TiO_(2)-Al_(2)O_(3)-SiO_(2)玻璃陶瓷,以钛酸钡体系玻璃陶瓷为基础成分添加不同种类氧化物(Y2O3,Ni2O3,ZrO2),并采用X射线衍射(XRD),场发射扫描电镜(FESEM),精密阻抗分析仪测试仪(LCR)对添加不同氧... 详细信息
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冰面流注发展特性试验研究
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高电压技术 2018年 第9期44卷 2849-2855页
作者: 王黎明 叶维平 梅红伟 关志成 清华大学深圳研究生院
目前国内外关于流注在冰层表面传播特性的研究还比较少,少数学者研究了在棒板电极结构下不均匀场中冰面流注的传播特性。为此在冰箱冷冻室内利用"三电极"结构研究了均匀场下冰层表面流注的传播特性,利用3个光电倍增管来观测流注在表... 详细信息
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含腈基的电活性聚芳醚酮的合成与表征
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高等学校化学学报 2010年 第6期31卷 1078-1080页
作者: 姚雷 晁单明 刘新才 李智亮 王策 吉林大学麦克德尔米德实验室 长春130012
A new electroactive polyaryletherketone containing benzonitrile(EPEEK-CN) was synthesized from 2,6-difluorobenzonitrile,p-benzenediol and difluoromonomer containing phenyl-capped aniline tetramer segment,via ternary p... 详细信息
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P(VDF-TrFE)和铜酞菁齐聚物的接枝与表征
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南京航空航天大学学报 2005年 第5期37卷 633-637页
作者: 王经文 沈群东 杨昌正 南京航空航天大学材料科学与技术学院 南京210016 南京大学化学化工学院 南京210093
为提高偏氟乙烯-三氟乙烯共聚物[Poly(Vinylidene fluoride-trifluoroethylene),P(VDF-TrFE)]与铜酞菁齐聚物(Copper phthalocyanine oligomer,o-CuPc)复合物的相容性,对聚合物进行化学修饰,赋予其活泼苄氯基团,进而与o-CuPc发生酯化反... 详细信息
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不同SiO2含量对BaO-SrO-PbO-TiO2-Nb2O5-SiO2玻璃陶瓷介电性能的影响
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稀有金属 2019年 第9期43卷 935-941页
作者: 陈均优 张庆猛 谭飞虎 周敏 北京有色金属研究总院先进电子材料研究所 北京100088 北京有色金属研究总院智能传感功能材料国家重点实验室 北京100088
通过熔融-快冷-可控结晶技术,成功制备出同时含有铌酸盐和钛酸盐陶瓷相的BaO-SrO-PbO-TiO2-SiO2-Nb2O5纳米复合介电材料,并研究了不同SiO2含量对该玻璃陶瓷介电性能的影响。研究结果表明:800℃晶化处理后,玻璃基体中析出了Pb2Nb2O7,(Ba,... 详细信息
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NH_(3)和N_(2)混合等离子体预处理对锗MOS器件性能的影响
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材料导报 2021年 第14期35卷 14012-14016页
作者: 乌李瑛 柏荣旭 瞿敏妮 付学成 田苗 马玲 王英 程秀兰 上海交通大学电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台 上海200240 芬兰倍耐克有限公司上海代表处 上海200135
对锗衬底进行NH 3和N 2混合等离子体(V(NH_(3))∶V(N_(2))=5∶1)原位预处理,其自然氧化层GeO_(x)反应生成GeO_(y)N_(z)。XPS结果显示,随着预处理时间的延长,GeO_(y)N_(z)厚度稍有增加。结构为500 nm Al/20 nm Ti/10 nm HfO_(2)/Ge的锗MO... 详细信息
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