检索结果-南通市图书馆

山东化工 2015年第13期44卷 38-40,43页

作者：杨小波冯勇马宝财童柯锋宋兴福青海盐湖工业股份有限公司青海格尔木816000 华东理工大学国家盐湖资源综合利用工程技术研究中心上海200237

阴离子聚电解质是一类十分重要的分散剂,被广泛应用于无机粉体的分散体系中,本文归纳了影响阴离子聚电解质分散能力的因素,并描述了国内外对于阴离子聚电解质水溶液性质的研究进展。

关键词：阴离子聚电解质反离子分子模拟

分子模拟研究盐离子对阴离子聚电解质链结构的影响

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分子模拟研究盐离子对阴离子聚电解质链结构的影响

阴离子聚电解质保护的金纳米粒子的制备及表征

2009年全国高分子学术论文报告会

作者：倪涛黄光速高品陈猛猛许云涛高分子材料国家重点实验室高分子科学与工程学院四川大学

采用分子力学、分子动力学研究盐离子对阴离子聚电解质链结构的影响,探索阴离子在盐溶液中发生沉降的本质。以聚丙烯酸钠为阴离子聚电解质的模型化合物,研究二价盐离子Ca与羧酸根离子间的相互作用。研究结果显示,聚合物阴离子在水溶液... 详细信息

采用分子力学、分子动力学研究盐离子对阴离子聚电解质链结构的影响,探索阴离子在盐溶液中发生沉降的本质。以聚丙烯酸钠为阴离子聚电解质的模型化合物,研究二价盐离子Ca与羧酸根离子间的相互作用。研究结果显示,聚合物阴离子在水溶液中由于较强的静电排

关键词：分子动力学回转半径径向分布函数阴离子聚电解质

来源： cnki会议评论

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复旦学报（自然科学版） 2004年第4期43卷 477-481页

作者：孙旭平黄明华董绍俊汪尔康中国科学院长春应用化学研究所电分析国家重点实验室长春130022

采用NaBH4作为还原剂还原HAuCl4的方法,将阴离子聚电解质即聚丙烯酸(PAA)作为保护剂,成功制备了稳定性非常好的小粒径金纳米粒子.分别采用紫外可见近红外光谱仪(UV vis NIR)、透射电子显微镜(TEM)、光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(X... 详细信息

采用NaBH4作为还原剂还原HAuCl4的方法,将阴离子聚电解质即聚丙烯酸(PAA)作为保护剂,成功制备了稳定性非常好的小粒径金纳米粒子.分别采用紫外可见近红外光谱仪(UV vis NIR)、透射电子显微镜(TEM)、光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)和电化学等实验方法对所制备样品进行表征.实验结果表明,合成体系的pH和所用阴离子聚电解质聚合物链的空间位阻对金纳米粒子的稳定性起着非常重要的作用.

关键词：阴离子聚电解质金纳米粒子保护剂制备表征电化学循环

联苯胺盐酸盐和聚阴离子有机超薄膜的制备和表征

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化学研究与应用 2002年第6期14卷 675-676页

作者：高水英余来贵中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室甘肃兰州730000

The fabrication and structure characterization of a self-assemble film were *** orderded layer structure ultrathin film was formed by alternative deposition of poly(sodium 4-styrenesulfonate)as polyanion and benzidine dihydrochloride as cationic ***-visible absorption spectrum,contact angle measurement and ellipsometry measurement were conducted to characterize the film.

关键词：联苯胺盐酸盐有机超薄膜制备表征分子沉积膜阴离子聚电解质接触角聚对磺酸钠苯乙烯

PSSMA修饰磁性氧化石墨烯对Pb2+、Cu2+的吸附性能

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精细化工 2018年第5期35卷 857-864,871页

作者：汪伟轩潘丽婷杨小荣程昌敬余海溶西南民族大学化学与环境保护工程学院

以氧化石墨烯（GO）、FeCl3·6H2O及聚（4-苯乙烯磺酸-共聚-马来酸）钠盐（PSSMA）为主要原料,通过简便一步溶剂热法制备了阴离子聚电解质修饰磁性氧化石墨烯（MGO@PSSMA）,并将其用于水溶液中重金属Pb^2＋、Cu^2＋的吸附去除。采用FTIR... 详细信息

以氧化石墨烯（GO）、FeCl3·6H2O及聚（4-苯乙烯磺酸-共聚-马来酸）钠盐（PSSMA）为主要原料,通过简便一步溶剂热法制备了阴离子聚电解质修饰磁性氧化石墨烯（MGO@PSSMA）,并将其用于水溶液中重金属Pb^2＋、Cu^2＋的吸附去除。采用FTIR、SEM、TEM、VSM和DLS对制备的MGO@PSSMA进行了表征。考察了溶液pH、吸附时间、溶液初始质量浓度对Pb^2＋、Cu^2＋在MGO@PSSMA及未经PSSMA修饰磁性氧化石墨烯（MGO）上吸附的影响。探讨了吸附等温过程、吸附动力学及吸附作用机理。结果表明：MGO表面引入PSSMA可有效增加其对Pb^2＋、Cu^2＋的吸附量。在pH=5,溶液初始质量浓度为300 mg/L时,MGO@PSSMA对Pb^2＋和Cu^2＋的实际吸附量达141.1和104.8 mg/g。当溶液初始质量浓度为150 mg/L时,MGO@PSSMA对Pb^2＋和Cu^2＋的吸附平衡时间分别为2和1.5 min。MGO@PSSMA对Pb^2＋、Cu^2＋的吸附动力学及吸附等温数据分别符合准二级吸附动力学模型和Langmuir吸附等温模型。使用乙二胺四乙酸（EDTA）和HCl可实现MGO@PSSMA的有效再生;通过外加磁场作用可实现MGO@PSSMA的回收再利用。

关键词：磁性石墨烯阴离子聚电解质吸附重金属电荷作用

基于SiO2纳米载体的三联吡啶钌电致化学发光信号放大及其免疫分析

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基于SiO2纳米载体的三联吡啶钌电致化学发光信号放大及其免疫分析

作者：葛芝莉苏州大学

学位级别：硕士

本文就基于Si O2纳米载体的三联吡啶钌电致化学发光(ECL)信号放大体系的构建及其在乙肝表面抗原(HBs Ag)定量检测中的应用进行了研究。同时,为了提高ECL检测的重现性与简便性,本文自制了流通检测池,并对其性能进行了考察。基于环糊精类... 详细信息

本文就基于Si O2纳米载体的三联吡啶钌电致化学发光(ECL)信号放大体系的构建及其在乙肝表面抗原(HBs Ag)定量检测中的应用进行了研究。同时,为了提高ECL检测的重现性与简便性,本文自制了流通检测池,并对其性能进行了考察。基于环糊精类物质β-环糊精(β-CD)独特的性质,试将其运用到Ru(bpy)32+(Ru)的电化学发光信号放大中,研究了其对Ru(bpy)32+水溶液的ECL增强作用。然后采用St?ber法将Ru(bpy)32+与β-CD形成的超分子包合物(β-CD-Ru)进行硅包覆,将其掺杂到Si O2纳米粒中,制备ECL复合纳米粒β-CD-Ru@Si O2。掺杂纳米粒β-CD-Ru@Si O2的ECL有所增强。但经硅烷偶联剂3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)氨基功能化后的纳米粒β-CD-Ru@Si O2-APTES,由于表面硅烷层的电子阻碍作用,导致纳米粒的ECL强度大大降低,且稳定性变差,不能进一步用于高灵敏的生物标记分析。将聚电解质聚丙烯酸钠(PAA)与电化学发光活性物质Ru(bpy)32+通过离子交换作用形成离子对大分子PAA-Ru。以大分子整条链的形式将PAA-Ru掺杂到Si O2纳米粒中,制备了纳米粒PAA-Ru@Si O2。PAA-Ru大分子掺杂极大地提高了Ru(bpy)32+的掺杂量,相应的ECL增强约2倍。以PAA掺杂的Nafion膜[PAA&Nafion]包覆PAA-Ru@Si O2,制备了纳米粒PAA-Ru@Si O2/[PAA&Nafion]。进一步基于掺杂膜表面的离子交换作用固载电化学发光物质Ru(bpy)32+,最终制备了本文的强ECL纳米粒PAA-Ru@Si O2/[PAA???Ru&Nafion???Ru]。对于该纳米粒中的两类ECL活性物质,即纳米粒内部掺杂的PAA-Ru与膜表面离子交换固载的[PAA???Ru&Nafion???Ru],掺杂膜中PAA的引入显著增强了纳米粒内部PAA-Ru与工作电极间的电子转移能力,使纳米粒ECL增强;同时,PAA的引入也极大地提高了膜的离子交换能力,增加了膜表面离子交换的Ru(bpy)32+固载量,使纳米粒的ECL进一步增强。利用纳米粒膜表面Nafion的疏水作用方便地实现了抗体标记,并构建了高灵敏的电化学发光乙肝表面抗原(HBs Ag)检测体系。此体系具有较低浓度的线性检测范围(1-100 pg m L-1,R2为0.9912)和较低的检测限(0.11 pg m L-1,S/N=3),且重现性良好,在模拟血浆样本检测中无明显干扰。

关键词：三联吡啶钌阴离子聚电解质 ECL纳米粒信号放大免疫分析

机械浆过氧化氢漂白过程中聚半乳糖醛酸的酶降解

同方学位论文库评论

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国际造纸 2009年第1期28卷 1-5页

作者：刘云云田志强于亚新段希磊

在过氧化物漂白机械浆中,聚半乳糖醛酸约占其阴离子垃圾总量的50%(采用聚电解质滴定法测定)。采用果胶酶处理漂白浆悬浮液或滤液可使可溶性聚半乳糖醛酸降解为单半乳糖醛酸,有效降低由阴离子聚电解质所造成的阳离子需求量。果胶酶处理... 详细信息

在过氧化物漂白机械浆中,聚半乳糖醛酸约占其阴离子垃圾总量的50%(采用聚电解质滴定法测定)。采用果胶酶处理漂白浆悬浮液或滤液可使可溶性聚半乳糖醛酸降解为单半乳糖醛酸,有效降低由阴离子聚电解质所造成的阳离子需求量。果胶酶处理有效地避免了聚半乳糖醛酸与造纸工业中所使用的阳离子聚合物间的络合作用,减少了聚半乳糖醛酸的不利影响。

关键词：聚半乳糖醛酸漂白机械浆漂白过程过氧化氢阴离子聚电解质酶降解果胶酶处理阳离子需求量

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使用双重助留增强剂的效果

湖北造纸 1999年第1期 34-40页

作者：杨存晓河南省南阳市造纸厂 473000

目前,国内助剂正由单一品种添加发展到采用两种或两种以上助剂的添加技术,使不同的助剂特性协同发挥作用,从而提高应用效果,现将我厂对BS双重助留增强剂的试用情况介绍于后:1 作用机理 BS双重助留增强剂助剂Ⅰ为低分子量阳离子聚电解质... 详细信息

目前,国内助剂正由单一品种添加发展到采用两种或两种以上助剂的添加技术,使不同的助剂特性协同发挥作用,从而提高应用效果,现将我厂对BS双重助留增强剂的试用情况介绍于后:1 作用机理 BS双重助留增强剂助剂Ⅰ为低分子量阳离子聚电解质,助剂Ⅱ为高分子量阴离子聚电解质。当把助剂Ⅰ加入到浆料以后,阳离子聚合物分子吸附在填料和纤维表面上,通过电性作用形成微絮凝体,再加入助剂Ⅱ后,阳离子强烈地吸附阴离子聚合物,通过架桥连接使纸浆中的纤维素、填料接枝共聚,形成了粘着力强、抗剪切力的絮凝体系,从而大大提高了细小纤维和填料的留着,同时提高了纸张的物理强度。

关键词：增强剂助剂助留阳离子聚合物接枝共聚阴离子聚电解质试用情况应用效果阳离子聚电解质作用机理

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一种纳米高分子复合材料及其制造

塑料工业 2002年第6期30卷 57-57页

Preparation of composite abrasives by electrostatic self-assembly method and its polishing properties in Cu CMP

维普期刊数据库评论

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Engineering Sciences 2014年第2期12卷 75-81,92页

作者： Huang Yishen Xu Xuefeng Yao Chunyan Hu Jiande Peng Wei Key Laboratory of Special Purpose Equipment and Advanced Manufacturing Technology of Ministry of Education & Zhejiang Province Zhejiang University of Technology

The adsorption characteristics of cationic polyelectrolyte poly dimethyl diallyl ammonium chloride(PDADMAC) and anionic polyelectrolyte poly(sodium-p-styrenesulfonate)(PSS) on benzoguanamine formaldehyde(BGF) particles are investigated. The charging characteristics of BGF particles are changed and controlled using electrostatic self-assembly method. A variety of PEi-BGF/SiO2composite abrasives are *** as-prepared samples are analyzed by zeta potential analysis,transmission electron microscope(TEM) and thermogravimetric(TG) analysis. The composite abrasive slurries are prepared for copper polishing. The polishing results indicate that it is SiO2abrasives,not only coated SiO2abrasive on polymer particles but also free SiO2abrasive in slurry,that offer the polishing action. The material removal rates of copper polishing are264 nm/min,348 nm/min and 476 nm/min using single SiO2abrasive slurry,PE0-BGF/SiO2mixed abrasive slurry and PE3-BGF/SiO2composite abrasive slurry,respectively. The surface roughness Raof copper wafer(with 5 μm×5 μm district) is decreased from 0.166 μm to 3.7 nm,2.6 nm and 1.5 nm,and the surface peak-valley values Rpvare less than 20 nm,14 nm and 10 nm using these kinds of slurries,respectively.

关键词：混合磨料抛光性能组装方法复合聚二甲基二烯丙基氯化铵制备静电阴离子聚电解质