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溶胶-凝胶法Ba铁氧体薄膜的磁特性与微观结构

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磁记录材料 1996年第3期14卷 28-33页

作者：王飞

用溶胶-凝胶法制备Ba铁氧体薄膜，并对其磁特性与微观结构的关系进行了研究。结果表明，（1）根据Ba铁氧体的化学计量成分，采用富Ba的涂布液（Fe／Ba=4～8），在800～900℃下进行晶化热处理的方法，可获得239～399kA／m（3～5kOe）的... 详细信息

用溶胶-凝胶法制备Ba铁氧体薄膜，并对其磁特性与微观结构的关系进行了研究。结果表明，（1）根据Ba铁氧体的化学计量成分，采用富Ba的涂布液（Fe／Ba=4～8），在800～900℃下进行晶化热处理的方法，可获得239～399kA／m（3～5kOe）的水平矫顽力；（2）随着Fe／Ba比的缩小，Ba铁氧体粒子微细化。在Fe／Ba=4～6的条件下，可得到10×100nm的针状粒子；（3）粒子间的磁相互作用微弱。

关键词：钡铁氧体薄膜磁性结构溶胶凝胶法带基

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微波频段用高磁导率铁氧体薄膜研究进展

磁性材料及器件 2006年第1期37卷 10-12,47页

作者：凌翠翠陆海鹏崔晶晶电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054

主要介绍了微波频段用的高磁导率铁氧体薄膜近年来的研究进展。尖晶石铁氧体薄膜的重点集中在Ni-Zn和Li系材料上,介绍了旋转喷涂法以及Co2+掺杂对薄膜微波磁性的影响,并分析了微波频段高磁导率机理;对于六角晶系铁氧体薄膜,重点叙述了... 详细信息

主要介绍了微波频段用的高磁导率铁氧体薄膜近年来的研究进展。尖晶石铁氧体薄膜的重点集中在Ni-Zn和Li系材料上,介绍了旋转喷涂法以及Co2+掺杂对薄膜微波磁性的影响,并分析了微波频段高磁导率机理;对于六角晶系铁氧体薄膜,重点叙述了衬底层对BaM六角结构形成的影响以及BaCoxTixFe12-2xO19铁氧体薄膜的共振特性,也对(Zn1-xCox)2-W铁氧体薄膜作了适当介绍。最后,讨论了目前存在的问题和发展前景。

关键词：铁氧体薄膜吸波材料微波磁导率共振频率

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高记录密度铁氧体薄膜

计算机研究与发展 1976年第6期 67-70页

作者： N. Inagaki 谢建勋

引言为了提高磁盘的记录密度,需要研制一种具有优良特性的薄记录介质,这些特性包括:高矫顽力、大的剩余磁化强度、强的抗磨损和抗腐蚀能力。把磁性氧化物颗粒分散在粘合剂中的磁胶,其抗磨损和抗腐蚀能力优良。但如果减小厚度而同时又不... 详细信息

引言为了提高磁盘的记录密度,需要研制一种具有优良特性的薄记录介质,这些特性包括:高矫顽力、大的剩余磁化强度、强的抗磨损和抗腐蚀能力。把磁性氧化物颗粒分散在粘合剂中的磁胶,其抗磨损和抗腐蚀能力优良。但如果减小厚度而同时又不增加颗粒填充部分,那么介质的磁通就会减少,输出信号电平也会下降。采用连续的金属薄膜,可减小记录层的厚度,同时仍然具有和厚的氧化物磁层相当的磁通,这是因为铁磁性金属的磁通密度远高于由氧化铁

关键词：铁氧体薄膜厚度记录密度抗磨损抗腐蚀能力磁层四氧化三铁偏铁酸亚铁磁特性

MnZn铁氧体薄膜平均磁各向异性对矫顽力的影响研究

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MnZn铁氧体薄膜平均磁各向异性对矫顽力的影响研究

TFC'07全国薄膜技术学术研讨会

作者：王兰喜陈学康中国航天科技集团公司五院510所表面工程技术国家级重点实验室

由于 MnZn 铁氧体具有高的磁导率、高电阻率和优秀的软磁性能而在电子工业中被广泛应用。目前 MnZn 铁氧体薄膜在复杂图形器件小型化的过程中受到研究者的广泛关注。MnZn 铁氧体薄膜特有的二维结构和异质生长,使得薄膜中存在较大的应力... 详细信息

由于 MnZn 铁氧体具有高的磁导率、高电阻率和优秀的软磁性能而在电子工业中被广泛应用。目前 MnZn 铁氧体薄膜在复杂图形器件小型化的过程中受到研究者的广泛关注。MnZn 铁氧体薄膜特有的二维结构和异质生长,使得薄膜中存在较大的应力各向异性,使得 MnZn 铁氧体薄膜的矫顽力比块体材料要大得多,严重阻碍了 MnZn 铁氧体薄膜的实际应用,所以降低薄膜中的应力各向异性常数是降低矫顽力的一个有效的途径。

关键词：铁氧体薄膜多层膜结构异性矫顽力薄膜磁性

来源： cnki会议评论

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高密度硬磁盘用Ba铁氧体薄膜

磁记录材料 1996年第3期14卷 23-27页

作者：王步云

本研究应用对向靶溅射装置（FTS）制备Ba铁氧体薄膜，并对该膜进行热处理，研究了成膜时的基板温度对热处理后的结晶构造及磁特性的影响。研究结果得知，通过热处理薄膜得以晶化，而且结晶构造是随成膜时的基板温度而变化的。在室温下... 详细信息

本研究应用对向靶溅射装置（FTS）制备Ba铁氧体薄膜，并对该膜进行热处理，研究了成膜时的基板温度对热处理后的结晶构造及磁特性的影响。研究结果得知，通过热处理薄膜得以晶化，而且结晶构造是随成膜时的基板温度而变化的。在室温下制成的薄膜，其矫顽力大体与500℃下成膜的矫顽力相等，约为239kA／m（3kOe）。另外，基板温度300℃时制成的薄膜，其矫顽力在119kA／m（1．5kOe）以下。成膜时的基板温度影响热处理后的结晶构造及磁特性。

关键词：钡硬磁盘磁盘铁氧体薄膜密度

美国下一代军用雷达将可能使用钡化六角晶铁氧体薄膜

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化工新型材料 2006年第9期34卷 98-98页

美国东北大学的研究人员已经开发出一种磁性材料，这种材料使美军的雷达在不损失性能的前提下，变得体积更小、重量更轻而且造价更便宜。

关键词：军用雷达铁氧体薄膜美国磁性材料研究人员东北大学钡损失

溶胶凝胶法制备BaFe12O19铁氧体磁性薄膜和性能研究

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溶胶凝胶法制备BaFe12O19铁氧体磁性薄膜和性能研究

作者：李慧苏州大学

学位级别：硕士

六角磁铅石钡铁氧体薄膜材料由于其具有优异的化学稳定性、较高的饱和磁化强度、较高的矫顽力以及高的垂直磁晶各向异性场而被视为磁记录介质的优秀候选材料,另外,该材料还具有很高的电阻率,在高频低损耗微波和单向微波集成电路方面也... 详细信息

六角磁铅石钡铁氧体薄膜材料由于其具有优异的化学稳定性、较高的饱和磁化强度、较高的矫顽力以及高的垂直磁晶各向异性场而被视为磁记录介质的优秀候选材料,另外,该材料还具有很高的电阻率,在高频低损耗微波和单向微波集成电路方面也有很高的应用价值。鉴于此类应用,BaFeO薄膜通常需要满足以下几个条件:一、薄膜中磁性相BaFeO的含量要高,以达到较高的饱和磁化强度;二、薄膜具有较好的c轴取向,以获得高的磁晶各向异性从而获得大的矫顽力,这对垂直磁性记录尤其重要;三、小的晶粒尺寸以提高信噪比并提高磁记录的密度。BaFeO薄膜可通过溅射法(sputtering)、脉冲激光沉积法(PLD)以及溶胶凝胶(Sol-Gel)等方法制备。研究表明,溶胶凝胶制备BaFeO薄膜过程中,前驱体胶体的性质,尤其是Fe/Ba的数值很大程度上决定了薄膜最终的结构和磁性能。通常过量的Ba对形成六角BaFeO相(BaM)是有利的。本文中,我们试图用溶胶凝胶法在高Fe/Ba比的条件下得到高BaM相含量且磁学性能好的薄膜,对薄膜的制备过程中的各种工艺条件如Fe/Ba配比、催化螯合剂柠檬酸的量、退火温度以及薄膜厚度等对薄膜性能的影响做了较系统的研究。本文还对BaFeO / NiZn FeO复合薄膜做了探索性的研究。首先,我们研究了溶胶中的Fe/Ba的值及退火温度对所制备BaFeO薄膜性能的影响。结果表明,在Fe/Ba比为6.5.5的范围内都可以得到纯BaM相,且有一定的c轴取向,垂直面内的饱和磁化强度(Ms)和矫顽力(Hc)随Fe/Ba的升高而降低。对Fe/Ba = 6.5的薄膜,退火温度(Ta)为850℃时,二者数值分别为290 emu/cm和4200 Oe,但是对Fe/Ba = 9.5的薄膜来说只有116 emu/cm和2300 Oe。α-FeO相随Fe/Ba值的升高而出现,α-FeO相的出现使薄膜中的磁性相减少,从而降低了薄膜的Ms和Hc。对Fe/Ba = 6.5的薄膜在不同的温度下退火,随着退火温度的升高,越来越多的针状BaM颗粒出现,同时Ms和Hc逐渐升高,Ta从800℃升高到900℃时,Ms和Hc分别从120 emu/cm ,2500 Oe增至345 emu/cm,4600 Oe。Ms的升高是因为薄膜中的BaM相含量增多,Hc的升高跟晶粒的大小及取向有关。然后,我们研究了前驱体胶体中柠檬酸的含量对所制备薄膜性能的影响。结果表明,通过控制配胶过程中柠檬酸的量可以改善BaFeO薄膜的成相及取向,适量的柠檬酸对BaM的成相有利,在CHO·HO :Ba(NO)·6HO = 6:1的条件下,经850℃退火,制备了在自然氧化的Si(100)基片上生长的具有良好c轴取向的BaM薄膜。垂直面内的Ms⊥达到300 emu/cm左右,矫顽力Hc⊥达4200 Oe。采用低成本的溶胶凝胶工艺制备出了磁性良好的BaM薄膜。另外,我们制备了NiZnFeO软磁薄膜,并研究了退火条件对其性能的影响。发现M随退火温度的升高单调递增,当T由500℃升高到800℃时,M由219 emu/cm升高到334 emu/cm;H先增后减,在T = 700℃时有一个最大值。由于随温度升高,四面体间隙的Ni回到八面体间隙,使磁矩增大,各向异性能降低;同时晶粒随退火温度升高而长大,两方面共同决定了M及H的变化。基于软硬磁的耦合理论,我们尝试制备BaFeO / NiZnFeO复合膜,XRD结果表明退火后薄膜中未能形成BaM相,磁性测量表明复合膜磁性较弱。因此,有待对软硬磁薄膜的制备工艺进一步改进。

关键词：铁氧体薄膜溶胶-凝胶 c轴取向 BaM磁性薄膜 Ni0.5Zn0.5Fe2O4磁性薄膜

射频磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的微观组织与性能研究

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射频磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的微观组织与性能研究

作者：徐小玉江苏大学

学位级别：硕士

软磁铁氧体薄膜材料不仅具有小的矫顽力和大的饱和磁化强度,而且能适应电子产品向微型化和小型化方向发展的要求,已成为当前磁性材料领域研究和开发的重点,能广泛应用在电子、信息、机械等工业领域中。本课题研究溶胶—凝胶法制备纳米... 详细信息

软磁铁氧体薄膜材料不仅具有小的矫顽力和大的饱和磁化强度,而且能适应电子产品向微型化和小型化方向发展的要求,已成为当前磁性材料领域研究和开发的重点,能广泛应用在电子、信息、机械等工业领域中。本课题研究溶胶—凝胶法制备纳米晶镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体,并将该粉体制成靶材,采用射频磁控溅射法成功制备了镍锌钴铁氧体复合薄膜,利用XRD、EPMA、AFM、TEM、DTA等现代分析手段研究了薄膜的化学成份、相组成和微观形貌,研究了复合薄膜的磁性能和力学性能,对成膜机理进行了讨论。实验结果表明,溶胶—凝胶法制备镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体的最佳工艺流程和参数为:将纯镍锌钴硝酸盐溶于乙醇溶液中,并按一定摩尔比滴加正硅酸乙酯,以硝酸调节PH值为1～2之间,在60℃水浴中搅拌0.5h,经5h胶化,得到紫红色透明凝胶,然后凝胶在85℃下干燥12h,并经800℃热处理保温2h后取出研磨。经检测,粉体成分符合要求,微观形貌大致为球形,晶粒粒径为纳米级,所制备得到的粉体为纳米晶镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体。溅射靶材和溅射薄膜制备研究表明:以纯度为99.5%的自制镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体为原料,以PVA溶液作为粘结剂进行造粒、烘干,并冷等静压成靶胚,在高温炉中充分烧结,并通过优化靶材制备工艺参数成功制成了具有14%以上的收缩率,能满足磁控溅射制备薄膜要求的镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合靶材,并设计了基体的表面处理工艺、射频磁控溅射的制备工艺和薄膜后退火处理工艺的参数。利用电子探针 (EPMA)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)等分析手段对不同基片上所沉积的薄膜成分、相组成及形貌研究表明:磁控溅射法沉积在硅晶基体上的NiZnCoFeO/SiO复合薄膜不仅成份更接近粉体成份,而且经后退火处理后,硅晶基片上的薄膜晶态转化彻底,晶粒尺寸更细小,且排列均匀致密,比玻璃基片更适合沉积薄膜。考察了溅射功率和基体—靶材间距对溅射薄膜的溅射(沉积)速率和微观形貌的影响规律:随着溅射功率曰80W增大到150W,薄膜的沉积速率增大,薄膜却由一开始的整齐均匀分布的小颗粒状向片状的结构变化,分布也不均匀,晶粒明显长大;溅射功率为120W时,靶材—基体间距为65mm时,薄膜的微观形貌最理想,溅射(沉积)速率最大。因此最佳的工艺条件为:真空气压为6×10Pa,

关键词：铁氧体薄膜磁控溅射溶胶-凝胶软磁性能

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铁氧体薄膜软盘的制备及其读写特性

磁性材料及器件 1985年第1期 72-72页

作者：田彦君吴安国

软盘的制备软磁盘的制备中用烧结的掺有Co和Cu的Fe;O;板作靶,在惰性气氛中,使用平面磁控管射频（RF）溅射法,在聚酰亚胺薄膜基体上,直接形成掺Co和Cu的Fe;O;薄膜（厚75μm）。该Fe;O;薄膜经空气热氧化（<300℃）转变成γ-Fe;O;膜或Fe;O;... 详细信息

软盘的制备软磁盘的制备中用烧结的掺有Co和Cu的Fe;O;板作靶,在惰性气氛中,使用平面磁控管射频（RF）溅射法,在聚酰亚胺薄膜基体上,直接形成掺Co和Cu的Fe;O;薄膜（厚75μm）。该Fe;O;薄膜经空气热氧化（<300℃）转变成γ-Fe;O;膜或Fe;O;（0

关键词：铁氧体薄膜矫顽力矫顽场磁化软盘磁盘读写