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机构

  • 3 篇 香港理工大学
  • 1 篇 南京大学
  • 1 篇 南方科技大学
  • 1 篇 沈阳化工学院
  • 1 篇 大连理工大学
  • 1 篇 陕西机械学院
  • 1 篇 suss
  • 1 篇 富士康科技集团富...

作者

  • 3 篇 吴永炘
  • 2 篇 李志勇
  • 2 篇 文效忠
  • 2 篇 杨志雄
  • 2 篇 萧祖隆
  • 1 篇 刁元东
  • 1 篇 杨利竖
  • 1 篇 黄俊达
  • 1 篇 梁世军
  • 1 篇 连欢
  • 1 篇 王刚
  • 1 篇 董昌林
  • 1 篇 单俊杰
  • 1 篇 缪峰
  • 1 篇 周金满
  • 1 篇 林君浩
  • 1 篇 曹天俊
  • 1 篇 shari farrens
  • 1 篇 贺小明
  • 1 篇 林建生

语言

  • 10 篇 中文
检索条件"主题词=金属扩散"
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黑磷中基于热驱动金属扩散诱导的相变
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物理学进展 2024年 第1期44卷 1-8页
作者: 曹天俊 单俊杰 王刚 林君浩 梁世军 缪峰 南京大学物理学院 固体微结构物理国家重点实验室南京210093 南方科技大学物理系 深圳市新型量子功能材料与器件重点实验室深圳518055
二维(2D)材料具有原子级平整、可范德华堆叠集成的性质,同时蕴含了丰富的物理现象与优异的电学性质,对其相变行为的研究一直是凝聚态物理与材料科学领域的前沿。本研究中,我们在黑磷(BP)中首次实现了基于热驱动金属扩散诱导的阶段式可... 详细信息
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金属扩散问题的一般解法
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沈阳化工学院学报 1991年 第1期5卷 70-74页
作者: 刁元东 沈阳化工学院物理教研室
本文提出了一种求解扩散系数为非常数、带有边界条件和初始条件的金属扩散问题的数值方法.
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关于金属扩散实验新方案的研究
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陕西机械学院学报 1991年 第3期7卷 159-166页
作者: 贺小明 林建生 陕西机械学院金属材料工程系
反映固态金属中原子的扩散现象,加深学生对金属扩散理论的理解,目前的金属学教学中有待于进一步健全“金属扩散实验”。使用高熔点的合金渗锌剂,在可以获得反映铜金属中原子显著扩散的多相薄层组织的条件下,能大大地缩短铜渗锌工艺时间... 详细信息
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电子连接器表面锡层高温焊接变色原因分析
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电镀与涂饰 2017年 第13期36卷 696-700页
作者: 董昌林 富士康科技集团富顶精密组件(深圳)有限公司 广东深圳518110
通过实验验证了不同环境及电镀条件对纯锡高温变色的影响。采用俄歇电子能谱仪(AES)分析变色试样的表面元素组成,以确认变色的可能原因和改进方向。排除了有机物析出以及底层金属扩散形成Sn–Ni合金这两种情况对锡层变色的影响,确定了... 详细信息
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扩散镀层的新工艺方向
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电镀与涂饰 1996年 第4期15卷 14-17页
作者: 吴永炘 杨利竖 周金满 黄俊达 香港理工大学 香港生产力促进局
镀金制品采用镀镍防扩散层可以防止底层的铜与金层的相互扩散。西欧国家与人体直接接触的金属消费品规定了镍释出率和标准。
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生物电化学系统回收混合金属镉铜铬的离子交换膜效应
生物电化学系统回收混合金属镉铜铬的离子交换膜效应
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作者: 连欢 大连理工大学
学位级别:硕士
生物电化学系统(BESs)是微生物燃料电池(MFCs)和微生物电解池(MECs)的统称,以微生物为催化剂直接将有机物或无机物中的化学能转化为电能的装置。经典的双室生物电化学系统由阴极室、阳极室和隔离膜组成。具有氧化性的重金属如Cu(Ⅱ)、Cr... 详细信息
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钴合金代替镍、钯防铜渗镀层的研究
钴合金代替镍、钯防铜渗镀层的研究
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2002年全国电子电镀年会
作者: 吴永炘 文效忠 杨志雄 萧祖隆 李志勇 香港理工大学
镍、钯、钴和钴-钨镀层,作为镀金层和铜工件的中间层,防止铜原子渗透到金表层。我们用扫描电子显微镜的电子探针分析方法,探讨铜在这四种金属层里的扩散现象,评估这四种防铜渗的效能.
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镍、钴、钯镀层的防铜渗性能比较
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电镀与涂饰 2000年 第4期19卷 4-7页
作者: 吴永炘 文效忠 杨志雄 萧祖隆 李志勇 香港理工大学
以镍、钴、钯镀层作为铜基体镀金的防渗铜中间层可以有效地防止铜原子扩散金属表面。采用SEM、EDAX、XRD等方法研究铜在该 3种金属内的扩散机理和扩散系数 ,探讨了扩散过程与这 3种金属晶体结构、晶粒大小以及X -射线衍射特性的关系。
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美国TA仪器:Discovery差示量热扫描仪
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实验与分析 2010年 第5期 28-28页
Discovely DSC是美国TA仪器在差示扫描量热仪领域的最新创新性性产品,它重新定义了性能、质量和实用性。Discovery差示扫描量热仪的特点采用了金属扩散熔合原理制造全新的热电偶,
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晶片键合基础介绍
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集成电路应用 2007年 第5期24卷 52-52页
作者: Shari Farrens SUSS MicroTec晶片键合部
选择键合技术的程序通常依赖于一系列要求.如温度限制、密闭性要求和需要的键合后对准精度。键合的选择包括标准工业工艺.如阳极键合、玻璃浆料键合和黏着键合.以及新发展的低温共晶键合.金属扩散(共熔晶)键合和特定应用中的硅熔... 详细信息
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