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阵列基板设计对配向膜印刷的影响

液晶与显示 2016年第2期31卷 138-141页

作者：赵成明王丹马国靖罗会月申载官宋勇志北京京东方显示技术有限公司北京100176

目前,TFT-LCD行业已经趋于成熟。各大面板厂都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等。配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用,其印刷的质量对产品良率起很大影响。喷墨打印作为大世代... 详细信息

目前,TFT-LCD行业已经趋于成熟。各大面板厂都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等。配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用,其印刷的质量对产品良率起很大影响。喷墨打印作为大世代线配向膜印刷方法被越来越广泛的应用,但是其带来的印刷性不良也多种多样。本文重点介绍了阵列基板的设计对配向膜的影响。通过实验验证得出,阵列基板深孔设计对配向膜扩散起到了阻碍扩散的不良影响。从此结论出发,从配向膜印刷工艺和设计提出改善方案并取得了改善效果。

关键词：聚酰亚胺配向膜喷墨打印深孔

窄边框产品周边配向膜Mura分析及改善研究

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电子世界 2018年第10期 5-7页

作者：王海成申载官刘萌史秋飞封宾文斌北京京东方显示技术有限公司CELL PI部

在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)行业中,高世代线往往采用喷墨打印(Inkjet)技术进行配向膜涂覆。为了实现产品的窄边框化,显示区周边空间被进一步压缩,但这对喷墨型配向膜扩散会产生不利影响,配向膜边缘的均一性无法得到有效保障。本... 详细信息

在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)行业中,高世代线往往采用喷墨打印(Inkjet)技术进行配向膜涂覆。为了实现产品的窄边框化,显示区周边空间被进一步压缩,但这对喷墨型配向膜扩散会产生不利影响,配向膜边缘的均一性无法得到有效保障。本文针对窄边框产品周边配向膜Mura产生原因进行分析,发现显示区边缘用于导通公共电级的过孔处有明显配向膜堆积现象,此处的堆积对周边显示区PI膜扩散形成阻碍,导致显示区配向膜偏厚,影响了周边液晶分子排布状态,从而产生不良。通过对该处过孔密度及大小进行调整并结合配向膜预固化工艺的优化,周边配向膜Mura得到了明显改善,极大的提高了产品品质,为今后新产品开发奠定了理论基础。

关键词： TFT-LCD 喷墨打印配向膜过孔

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LCD配向膜印刷质量浅析

电子世界 2014年第20期 439-439页

作者：袁玉祥任慧南京中电熊猫液晶材料科技有限公司

通过对液晶显示器制造过程中的关键工序--配向膜原材料、印刷工艺、原理进行分析，对配向膜印刷设备工艺参数进行调整，以提高LCD配向膜印刷质量，从而提高生产合格率。

关键词：聚酰亚胺配向膜 PI印刷液晶取向层

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配向膜材料与面残影的关联性研究

液晶与显示 2014年第3期29卷 317-321页

作者：刘晓那宋勇志徐长健周波马国靖陈松飞袁剑峰林承武邵喜斌北京京东方显示技术有限公司Cell工艺开发部北京100176

利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究。一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,... 详细信息

利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究。一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,利于实现较低的残余电流(RDC)。而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时,可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块。因此,利用mini-cell对配向膜材料进行评估,通过比较RDC以及ΔVHR数值,可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估,为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导,具有重要的指导性作用。

关键词：配向膜电压保持率残余电流残影

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Zara Domain不良的研究与改善

液晶与显示 2019年第3期34卷 267-272页

作者：左爱翠高荣荣陈维诚滕玲岳麓汤列金合肥京东方光电科技有限公司Cell分厂安徽合肥230012

Zara Domain是TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)行业TN型产品中常见的不良,严重影响着产品的良率。本文通过对101.3mm(3.97in)TN产品的大量实验,系统分析和研究了Zara Domain问题。研究结果表明:优化产品设计、工艺参数、工艺管控都可有效地管控Zara Domain的发生率。首先通过调控矩阵工厂刻蚀工艺,确保Shield Bar坡度角保持在45°左右时,Zara Domain发生率为0%。其次在盒工厂摩擦工艺段,也可通过调控摩擦滚轮的摩擦强度值来提高摩擦后配向能力的均一性来降低Zara Domain的发生率。实验发现当摩擦强度值保持在2.3N·m时,Zara Domain的发生率<1%。另外通过改善对盒过程中高温固化的冷却工艺,在设备上方增加空调扇,加速冷却,也可使Zara Domain的发生率<1%。本文通过对101.3mm(3.97in)TN产品系统的研究,有望为解决Zara Domain不良提供一定的技术支持。

关键词： Zara Domain 配向膜配向弱区急速冷却

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负性液晶在FFS模式下的残像研究

液晶与显示 2015年第3期30卷 393-398页

作者：童芬郭小军上海交通大学电子与通信工程学院上海200240

图像残像是评价画面质量的最重要因素之一,大部分工程师研究了组合物的材料和液晶面板的制造工艺,以改善影像残留,但之前的研究主要是以正性液晶材料为基础进行探讨的,本文主要以负性液晶材料为基础研究了用边缘场驱动的面板残像。首先... 详细信息

图像残像是评价画面质量的最重要因素之一,大部分工程师研究了组合物的材料和液晶面板的制造工艺,以改善影像残留,但之前的研究主要是以正性液晶材料为基础进行探讨的,本文主要以负性液晶材料为基础研究了用边缘场驱动的面板残像。首先为了比较正性液晶与负性液晶,测量了离子密度及电压保持率(VHR),其次为了比较两种配向材料(PI)与液晶材料的搭配特性并选择合适的组合,量测了样品的直流残留(RDC)电压和Vcom电压随时间的变化。从量测结果可知,紫外(UV)光照前负性液晶离子密度是正性液晶的39倍,经过紫外光照,后负性液晶的离子密度为560Pc/cm,且其紫外光照后电压保持率变化量为2.7%;使用负性液晶搭配PI1的样品A-1的直流残留电压和Vcom(等效为交流驱动电压的中心值)随时间变化量都是最大的,分别为0.5V和250mV,负性液晶搭配PI2材料的面板和正性液晶的面板的直流残留电压均小于0.2V,其Vcom随时间变化量均在50mV以内。负性液晶材料的离子浓度含量高,且其稳定性比正性液晶材料差,负性液晶材料比正性液晶材料更容易发生残像;对于使用负性液晶材料,边缘场驱动模式的面板,搭配PI2配向膜材料能够保持低的直流残留电压及低的Vcom电压变化量,从而对改善残像现象有帮助。

关键词：边缘场切换广视角技术负性液晶残像配向膜

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光配向技术在TFT-LCD中的应用

液晶与显示 2021年第5期36卷 694-698页

作者：马国靖王丹陆顺沙卢梦梦郭庆森宋勇志陈维涛北京京东方显示技术有限公司北京100176

本文重点研究了降解型光控取向技术的制作工艺及其对产品性能的影响。通过分析不同光配向工艺参数下配向膜各向异性的数值可知,随着UV光光积量的增大和二次固化时间的延长,配向膜的各向异性值都有先升高后降低的趋势。测试材料在550 mJ/... 详细信息

本文重点研究了降解型光控取向技术的制作工艺及其对产品性能的影响。通过分析不同光配向工艺参数下配向膜各向异性的数值可知,随着UV光光积量的增大和二次固化时间的延长,配向膜的各向异性值都有先升高后降低的趋势。测试材料在550 mJ/cm^(2)和30 min的条件下,配向能力最优;配向膜材料二次固化温度在250℃以内时对配向性的影响是随温度升高,配向膜的各向异性值有直线上升趋势。通过改变光配向的工艺条件测试TFT特性的变化,发现完整的光配向工艺对TFT特性无明显影响。本文还分析了光配向形成的配向膜的低预倾角(约0.2°)对产品性能的影响,从结果可知,低预倾角下产品的对比度可达到1500以上,与摩擦型产品对比提升了约50%。

关键词：光配向紫外光配向膜各向异性 TFT特性

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PI成膜对液晶显示特性的作用

PI成膜对液晶显示特性的作用

作者：范金强上海交通大学

学位级别：硕士

伴随着现代化的发展,显示器件在这一潮流中得到了飞速发展,以液晶显示器为代表的新一代平板显示器件迅速进入人们的生活。随着“家电下乡”等政策的出台,液晶产品拥有量不断增大和使用的普及,人们对液晶显示产品在响应时间,对比度,广视... 详细信息

伴随着现代化的发展,显示器件在这一潮流中得到了飞速发展,以液晶显示器为代表的新一代平板显示器件迅速进入人们的生活。随着“家电下乡”等政策的出台,液晶产品拥有量不断增大和使用的普及,人们对液晶显示产品在响应时间,对比度,广视角及低功耗等方面的显示品质上,也提出了更高的要求。如今响应时间、残像等显示特性已成为全世界学术研究的重点。液晶分子在玻璃基板表面液晶取向层上的不同排列直接影响着显示功能,而液晶配向层作为液晶的基载层与液晶直接接触。因此,液晶配向层表面液晶分子的排布一定程度上受配向层性能的影响,进而,显示器的对比度、响应时间等显示特性也受到影响。本文主要针对TN产品液晶配向层成膜后的特性做了相关研究。首先,分析了PI膜面形成的各工艺条件与预倾角的影响关系;其次,在不同工艺条件下制成不同配向膜产品,通过残像及响应时间等光学测试,分析了不同工艺条件下制成的PI膜特性对残像及响应时间等显示特性的影响关系。然后,在液晶动力学理论基础上,结合预倾角与响应时间的理论关系和液晶盒响应时间的实验结果,分析了液晶配向层对液晶响应方面的影响作用。通过本文的相关研究发现,配向膜的厚度和热处理对残像和响应时间有一定的影响。当配向膜的厚度偏低时,会出现轻微的线残像;热处理温度和时间不足时,会出现轻微的线残像,同时响应时间会随着预倾角的减小而变快。这在一定程度上为残像和响应时间的研究添增了新的视野。

关键词：液晶配向膜响应时间残像

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TFT-LCD液晶滴落痕迹的研究和改善

TFT-LCD液晶滴落痕迹的研究和改善

作者：肖松华南理工大学

学位级别：硕士

在液晶面板显示器（Liquid Crystal Display,LCD）行业中,如何降低成本,提升产品良率和品质,已经成为各家面板厂研究的重点。传统的液晶注入制程存在耗时长以及材料浪费等问题,目前已完全被滴下式注入法（One Drop Filling,ODF）所取代... 详细信息

在液晶面板显示器（Liquid Crystal Display,LCD）行业中,如何降低成本,提升产品良率和品质,已经成为各家面板厂研究的重点。传统的液晶注入制程存在耗时长以及材料浪费等问题,目前已完全被滴下式注入法（One Drop Filling,ODF）所取代,滴下式注入法可以大幅降低注入时间和材料消耗。然而,采用ODF技术易导致液晶滴落痕迹（Drop Mura）,特别是高透光率、高对比度和超高清的采用聚合物稳定垂直排列液晶（Polymer Stabilized Vertically Aligned,PSVA）光配向产品,严重影响产品的良率。液晶滴落痕迹成因复杂,形成机理尚无定论,相关文献报道和研究也不多。它伴随着ODF技术的发明而产生,是一个长期困扰液晶面板厂的难题。一般认为液晶滴落痕迹可能与液晶污染,聚酰亚胺（Polyimide,PI）膜受潮,液晶冲击PI膜力道过大等因素相关。传统的面板厂主要通过变更液晶材料,调整液晶滴下参数或者增加摩擦配向强度来改善液晶滴落痕迹的问题。同时也有部分厂商通过提高间隔子（Spacer）的高度和密度来改善液晶滴落痕迹不良。但所有方法都未能从根本上解决液晶滴落痕迹的问题。本研究从液晶材料、彩色滤光片（Color Filter,CF）光阻材料、PI成膜、ODF液晶注入成盒以及PSVA光配向等工艺制程方面研究了液晶滴落痕迹的产生机理。实验结果表明,在一定范围内,液晶黏度越大、可聚化合物（Reactive Monomer,RM）含量越高以及CF光阻透光率越高,液晶滴落痕迹越严重;在工艺制程方面,延长PI固烤时间,提升液晶滴下均匀度和密度,减小PSVA光配向时印加电压都能够改善液晶滴落痕迹;综合调整以上制程工艺参数,液晶滴落痕迹不良率从63%降低到6%。另外,本文还提出了导入含有引导剂（Initiator unit）的新型PI和使用液晶喷墨涂布（LC Inkjet）技术的设备,可以将液晶滴落痕迹不良率降低到0%,彻底解决该问题。

关键词：液晶滴下光配向配向膜滴落痕迹