咨询与建议

限定检索结果

文献类型

  • 1 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 1 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程(可...
    • 1 篇 电子科学与技术(可...

主题

  • 1 篇 近边缘卷曲(ero)
  • 1 篇 键合
  • 1 篇 近边缘曲率
  • 1 篇 近边缘局部平整度

机构

  • 1 篇 有研半导体硅材料...
  • 1 篇 有研科技集团有限...
  • 1 篇 山东省硅单晶半导...
  • 1 篇 北京有色金属研究...

作者

  • 1 篇 宁永铎
  • 1 篇 摆易寒
  • 1 篇 王新
  • 1 篇 周旗钢
  • 1 篇 张果虎

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=近边缘曲率"
1 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
硅片边缘形态的研究进展
收藏 引用
稀有金属 2024年 第2期48卷 254-261页
作者: 摆易寒 周旗钢 宁永铎 王新 张果虎 有研科技集团有限公司集成电路关键材料国家工程研究中心 北京100088 有研半导体硅材料股份公司 北京100088 北京有色金属研究总院 北京100088 山东省硅单晶半导体材料与技术重点实验室 山东德州253000
关于硅片边缘形态已有的研究主要集中在评价方法、工艺改进以及加工装置上。国际半导体产业协会(SEMI)标准量化评价硅片边缘形态,约定了有关硅片边缘卷曲度(ROA)、近边缘曲率边缘局部平整度、边缘不完整区域局部平整度的评... 详细信息
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论