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纳米尺度线宽粗糙度测量技术

计量学报 2008年第B9期29卷 93-99页

作者：李洪波赵维谦赵学增高思田北京理工大学信息技术学院北京100081 哈尔滨工业大学机电工程学院黑龙江哈尔滨150001 中国计量科学研究院北京100013

综述了纳米尺度线宽粗糙度测量研究现状。分别论述了线宽粗糙度定义、各种测量工具的优缺点、目前线宽粗糙度采用的测量方法、分析方法及其表征参数，讨论了线宽粗糙度的测量障碍。分析了线宽粗糙度测量不确定度的构成，讨论了采用原子... 详细信息

综述了纳米尺度线宽粗糙度测量研究现状。分别论述了线宽粗糙度定义、各种测量工具的优缺点、目前线宽粗糙度采用的测量方法、分析方法及其表征参数，讨论了线宽粗糙度的测量障碍。分析了线宽粗糙度测量不确定度的构成，讨论了采用原子力显微镜为工具的线宽粗糙度测量的影响因素。

关键词：计量学线宽粗糙度边缘粗糙度原子力显微镜扫描电子显微镜散射仪

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飞秒激光快速制备大面积二维微纳结构

激光与光电子学进展 2020年第11期57卷 274-281页

作者：高文郑美玲金峰董贤子刘洁中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心北京100190 中国科学院大学北京101407

采用数字微镜器件(DMD)无掩模光刻技术,以飞秒激光为光源,结合大面积拼接的方法快速制备了具有较高分辨率和毫米尺寸的大面积微纳结构。提出以单子场投影线扫描的方式进一步改善由于光场能量分布不均匀引起的结构边缘粗糙的问题,极大地... 详细信息

采用数字微镜器件(DMD)无掩模光刻技术,以飞秒激光为光源,结合大面积拼接的方法快速制备了具有较高分辨率和毫米尺寸的大面积微纳结构。提出以单子场投影线扫描的方式进一步改善由于光场能量分布不均匀引起的结构边缘粗糙的问题,极大地降低了线条的边缘粗糙度,有效地控制了结构的精度。本研究以半导体领域常用的正性光刻胶为主要研究对象,实现了面积为7.4 mm 2的1μm等间距线阵列和面积为38.7 mm 2的10μm等间距线阵列结构的快速制备。本研究为大面积微纳结构制备提供了一种新方法,所制备结构可应用于气液流动、药物输运及晶体生长等领域。

关键词：激光光学微纳结构正胶大面积数字微镜器件无掩模光刻边缘粗糙度

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融合整体与分块颜色分布的图像检索方法

计算机应用 2008年第3期28卷 653-655,658页

作者：杨珺王继成邢丹俊向济大学电子与信息工程学院上海201804

针对传统的颜色直方图无法反映色彩分布的空间信息这一缺陷,提出了一种以同一颜色构成的最大连通区域及其边缘颜色粗糙度的图像检索方法,并在此基础上将图像间的相似度定义为整体相似度与以图像分块为基础的局部相似度的加权和,以反映... 详细信息

针对传统的颜色直方图无法反映色彩分布的空间信息这一缺陷,提出了一种以同一颜色构成的最大连通区域及其边缘颜色粗糙度的图像检索方法,并在此基础上将图像间的相似度定义为整体相似度与以图像分块为基础的局部相似度的加权和,以反映人们对图像相似度的判定过程。实验表明,该方法获得了图像颜色的空间分布,并可以根据图像的颜色空间分布是否集中来调整整体相似度的权值,以提高检索性能,同时弥补了颜色直方图无法反映颜色空间分布的不足,提高了检索的准确性。

关键词：基于内容的图像检索颜色直方图颜色连通区域边缘粗糙度

基于图像分析法对喷墨打印纸图像清晰度的研究

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包装工程 2008年第9期29卷 41-44,52页

作者：司占军宋慧慧天津科技大学天津300222

通过对图像的实验研究,主观测试比较了纸样间的色彩再现效果,并验证清晰度分析法的合理性。随着纸张打印分辨率的增加,线宽值更接近1,即清晰度也相应提高。对于实验的4种纸样,可以看出HP纸样的清晰度最佳,与主观评价结果相一致。从而有... 详细信息

通过对图像的实验研究,主观测试比较了纸样间的色彩再现效果,并验证清晰度分析法的合理性。随着纸张打印分辨率的增加,线宽值更接近1,即清晰度也相应提高。对于实验的4种纸样,可以看出HP纸样的清晰度最佳,与主观评价结果相一致。从而有助于消费者根据自身需求,选择适合的喷墨打印材料。

关键词：清晰度喷墨打印边缘粗糙度心理物理实验

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200mm超薄硅片边缘抛光技术

半导体技术 2023年第3期48卷 213-217页

作者：武永超史延爽王浩铭龚一夫张旭赵权中国电子科技集团公司第四十六研究所天津律300220

在大尺寸硅片外延加工过程中,边缘损伤极易导致外延层位错的产生。厚度为450μm的超薄硅片因其机械强度较低,在边缘抛光过程中极易导致碎片产生。为此采用化学机械抛光(CMP)对8英寸(1英寸=2.54 cm)超薄硅片进行边缘抛光,通过优化工艺参... 详细信息

在大尺寸硅片外延加工过程中,边缘损伤极易导致外延层位错的产生。厚度为450μm的超薄硅片因其机械强度较低,在边缘抛光过程中极易导致碎片产生。为此采用化学机械抛光(CMP)对8英寸(1英寸=2.54 cm)超薄硅片进行边缘抛光,通过优化工艺参数改善硅片边缘粗糙度及过抛量,并讨论了边缘抛光前后硅片倒角角度及边缘残余应力的变化。结果表明边缘抛光工序对硅片边缘去除量较小,且仅对边缘损伤层起到去除作用,因此可以有效降低硅片边缘残余应力,而对倒角角度影响较小,有助于获得边缘质量较好的硅片,为后续外延加工打下良好基础。

关键词：边缘抛光大尺寸超薄硅片化学机械抛光(CMP) 边缘损伤边缘粗糙度

用于超导纳米线单光子探测器的NbN薄膜及纳米线的均匀性分析

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用于超导纳米线单光子探测器的NbN薄膜及纳米线的均匀性分析

作者：周晓颖南京大学

学位级别：硕士

超导纳米线单光子探测器(SNSPD)因其在探测效率、暗计数、探测速度、时间抖动以及响应频谱等性能方面的优异表现,成为目前综合性能最佳的单光子探测器,在量子通信、高速深空通讯、激光测距、生物荧光检测等领域有诸多应用。不断增长的... 详细信息

超导纳米线单光子探测器(SNSPD)因其在探测效率、暗计数、探测速度、时间抖动以及响应频谱等性能方面的优异表现,成为目前综合性能最佳的单光子探测器,在量子通信、高速深空通讯、激光测距、生物荧光检测等领域有诸多应用。不断增长的应用需求要求SNSPD进一步提高其性能,需要器件具有更高探测效率、更大探测面积、更大阵列规模和光子数分辨功能等。大阵列和大尺寸的SNSPD器件相比传统小尺寸器件而言,制备工艺难度急剧提高,器件性能一致性和成品率也随之下降,这都制约着SNSPD器件的进一步发展和应用。NbN材料是最早也是最成熟的用于制备超导纳米单光子探测器(SNSPD)的材料之一,当前制备高性能NbN超导薄膜主要有常温制备和衬底加热制备两种方式。具有超大长宽比的超导纳米线条是SNSPD器件制备的核心组成部分,其均匀性直接影响了器件的探测效率、暗计数、时间抖动等关键参数,也是影响器件一致性和成品率的重要因素。目前对纳米线均匀性的研究大多是研究纳米线形状和缺陷等对器件的影响,而关于薄膜本身均匀性及刻蚀工艺带来的不均匀性讨论的较少。本文采用磁控溅射技术,通过实验对4英寸和8英寸Nb靶分别比较了不同气体配比、溅射靶距、抽气速率以及衬底温度等因素对薄膜性能的影响。使用液氦杜瓦和综合物性测量系统(PPMS)对不同条件下生长出的薄膜的超导转变温度(Tc0)和临界电流密度(Jc)进行了表征从而确定了优化后的常温和加热NbN薄膜制备工艺条件。我们在MgO(100)、Si(100)和热氧化硅(SiOx/Si)衬底上通过常温与加热两种方式制备了高质量的超导NbN超薄薄膜,借助X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、俄歇电子能谱(AES)、原子力显微镜(AFM)等测量手段对所制备NbN薄膜的晶体结构、化学成分、表面粗糙度等特性进行了比较分析。在此基础上,从元素分布的角度研究NbN薄膜及纳米线条的均匀性。我们在室温和加热热氧化硅衬底上分别制备6 nm厚NbN薄膜,借助电子束光刻(EBL)与反应离子刻蚀(RIE)获得100 nnm至600 nm的纳米线条。通过俄歇电子谱(AES)元素成像,我们获得了薄膜及纳米线条上C,N,Nb,Si,O元素的分布情况,以MATLAB软件为数据处理工具,对薄膜及纳米线条均匀性进行分析。研究表明,在室温和加热热氧化硅衬底上分别制备的6nm厚NbN薄膜其Tc0可分别达到7.2 K和9.5 K,通过加热衬底能够大幅有效地提高NbN薄膜的超导转变温度。基于图像处理和统计分析,我们实验并提出了一种评估薄膜及纳米线均匀性的方法。对于薄膜样品,可针对不同元素表征其在平面内的分布均匀性;对于纳米线条,可在横向和纵向两个维度分别表征纳米线条的线宽均匀性和边缘均匀性。这种评估方法将为优化器件工艺,提高器件成品率和性能一致性提供一种直观的判据。在此基础上,我们还将进一步开展研究:进一步优化所制备的NbN薄膜的性能,使用加热衬底的NbN薄膜制备SNSPD器件;将WSi薄膜及其制备的纳米线纳入到均匀性实验比较中;通过提高AES元素成像的分辨率从而优化均匀性分析结果的精确度,获得更多薄膜上及纳米线条上各元素分布的信息。

关键词：超导纳米线单光子探测器 NbN薄膜常温和加热元素分布均匀性线宽粗糙度边缘粗糙度

局部轮廓信息描述结合学习分类的文本检测技术研究

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局部轮廓信息描述结合学习分类的文本检测技术研究

作者：王瑾燕山大学

学位级别：硕士

图像中文本检测与定位技术的研究对图像场景内容的描述与理解有重要的价值。因而迫切需要一种自动化的工具通过定位图像中文本信息,为检索、查询、浏览场景资料和理解图像内容服务,提高图像资料的管理效率。由于文本图像的背景复杂多变... 详细信息

图像中文本检测与定位技术的研究对图像场景内容的描述与理解有重要的价值。因而迫切需要一种自动化的工具通过定位图像中文本信息,为检索、查询、浏览场景资料和理解图像内容服务,提高图像资料的管理效率。由于文本图像的背景复杂多变,使得要准确检测到图像中的文本区域具有极大的挑战。针对以上问题,本文主要围绕如何利用文字笔画特征有效区分文字区域和背景区域进行了研究。在借鉴国内外最新研究成果的基础上,通过分析文本特点进行笔画特征的融合研究新的文本检测算法,同时尝试对具体的场景文本检测做了应用分析。首先,对图像中文本区域的笔画方向分布特征进行分析,引入多尺度方向因子和边缘粗糙度概念,利用特征粗定位和学习型验证的两级框架提出一种新的文字区域定位算法。主要依据文字区域一般都是由几个方向的笔画组成,同时笔画既有梯度的边缘又具有明显的方向分布规律。其次,利用局部显著文字型区域描述结合连通分量分析思路,研究一种复杂背景下针对场景文本稳健的文本提取算法。该算法通过图像中灰度的局部显著变化和显著多方向边缘强度定位图像的显著文本区域,用SVM分类器对显著区域的连通分量进行特征验证,最终获得文本连通分量从而定位文本区域。最后,利用文本区域检测技术针对具体车牌定位应用场景展开相关研究。考虑车牌除了拥有一般文字的特征,还拥有本身固有的一些结构特征,在文字特征分析的基础上,充分融合了车牌的颜色分布特征,研究一种稳健的车牌二次定位算法。

关键词：文本检测多尺度方向局部显著边缘粗糙度车牌检测颜色分布

螺芴衍生物分子玻璃的合成及其在EUV光刻中的应用

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螺芴衍生物分子玻璃的合成及其在EUV光刻中的应用

商品包装条码印制方法和质量控制——(第四讲)

第十三届全国光化学学术讨论会

作者：郝青山陈金平李嫕中国科学院理化技术研究所光化学转换与功能材料重点实验室

＜正＞分子玻璃是近几年提出并发展起来的一类具有特殊结构和功能的小分子光刻胶主体材料,拥有确切的分子结构、单分散性以及小的回旋半径,同时具备聚合物的热稳定性和成膜特性。本工作设计合成了基于螺芴结构的分子玻璃（SPF-8）,具有... 详细信息

＜正＞分子玻璃是近几年提出并发展起来的一类具有特殊结构和功能的小分子光刻胶主体材料,拥有确切的分子结构、单分散性以及小的回旋半径,同时具备聚合物的热稳定性和成膜特性。本工作设计合成了基于螺芴结构的分子玻璃（SPF-8）,具有较高的玻璃化温度和良好的成膜特性,极紫外（EUV）光刻实验结果表明,SPF-8作为光刻胶主体材料在极紫外光刻中具有潜在的应用前景。

关键词：螺芴衍生物分子玻璃 EUV光刻边缘粗糙度

来源： cnki会议评论

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商场现代化 1994年第4期 32-33页

作者：刘平先达集团北京市北方先达条码技术公司

条码印制方法很多,各有特色、各有千秋,需要根据不同的需求加以选择,如技术的要求、经济的要求。印制好了的条码还需经过严格的检验才可出厂。因为印条码不是为了好看,而是为识别使用。配备必要的条码检测设备以检测控制条码质量是非常... 详细信息

条码印制方法很多,各有特色、各有千秋,需要根据不同的需求加以选择,如技术的要求、经济的要求。印制好了的条码还需经过严格的检验才可出厂。因为印条码不是为了好看,而是为识别使用。配备必要的条码检测设备以检测控制条码质量是非常必要的。通过检测,可发

关键词：条码符号印刷设备热敏打印机字符条码印刷条码检测边缘粗糙度商品包装扫描设备质量