检索结果-南通市图书馆

软x射线---真空紫外大电流空阴极光源的研究

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光学精密工程 1997年第1期5卷 5-8页

作者：王淑荣唐玉国中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室

描述了最近研制成功的用于软Ｘ射线－真空紫外光谱辐射传递标准光源的大电流空阴极光源。它由两个阳极、一个阴极和一个两级差分泵单元组成，工作电流２Ａ，工作气体为氩和氦，气压１０Ｐａ～１００Ｐａ。能在１３ｎｍ～２００ｎｍ间产... 详细信息

描述了最近研制成功的用于软Ｘ射线－真空紫外光谱辐射传递标准光源的大电流空阴极光源。它由两个阳极、一个阴极和一个两级差分泵单元组成，工作电流２Ａ，工作气体为氩和氦，气压１０Ｐａ～１００Ｐａ。能在１３ｎｍ～２００ｎｍ间产生ＡｒⅠ、ＡｒⅡ、ＨｅⅠ、ＨｅⅡ、ＡｌⅡ、ＡｌⅢ和ＡｌⅣ谱线。光源辐射稳定性优于±１％，重复性优于±５％。

关键词：空阴极光源软x射线真空紫外 x射线光谱

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软x射线探测器

光学机械 1991年第1期 68-72页

作者：张小秋赵卫中国科学院西安光机所

西安光机所自1984年开始,共研制了不同型的五台软x射线条纹相机;1987年开始,研制了软x光分幅相机。这些仪器,已在激光核聚变研究、激光等离子体诊断、核试验及爆轰物理研究等领域,作为有效的测试工具。本文介绍了我们的有关研究工作和x... 详细信息

西安光机所自1984年开始,共研制了不同型的五台软x射线条纹相机;1987年开始,研制了软x光分幅相机。这些仪器,已在激光核聚变研究、激光等离子体诊断、核试验及爆轰物理研究等领域,作为有效的测试工具。本文介绍了我们的有关研究工作和x线条纹相机、分幅相机的主要性能。

关键词：软x射线探测器

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软x射线衍射色散元件

量子电子学 1994年第2期11卷 88-89页

作者：袁利祥范正修殷功杰崔明启沈孝良中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院高能物理研究所复旦大学分析测试中心

软Ｘ射线衍射色散元件袁利祥，范正修，殷功杰（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海２０１８００）崔明启（中国科学院高能物理研究所，北京１０００３９）沈孝良（复旦大学分析测试中心，上海２００４３３）纳米量级的多层膜沉积... 详细信息

软Ｘ射线衍射色散元件袁利祥，范正修，殷功杰（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海２０１８００）崔明启（中国科学院高能物理研究所，北京１０００３９）沈孝良（复旦大学分析测试中心，上海２００４３３）纳米量级的多层膜沉积技术和微电子制作技术的结合已使软ｘ...

关键词：软x射线衍射色散元件

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软x射线多层膜技术

光学机械 1991年第1期 34-38页

作者：曹健林缪同群马月英

本文总结了长春光机所近年来开展的x射线波段多层膜光学元件研制工作。列举了其主要进展和成果。并对今后一段时期的进一步发展作了简要讨论。

关键词：软x射线多层膜光学元件

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软x射线自支撑闪耀透射光栅

物理 2012年第12期41卷 796-802页

作者：徐向东陈勇邱克强刘正坤付绍军中国科学技术大学国家同步辐射实验室合肥230029

软x射线自支撑闪耀透射光栅或临界角透射光栅是美国麻省理工学院为满足国际x射线天文台x射线光栅谱仪的科学要求而提出的一种新型衍射光栅,它集中了透射和反射光栅的优点,同时避免它们的缺点.文章对软x射线自支撑闪耀透射光栅的概念、... 详细信息

软x射线自支撑闪耀透射光栅或临界角透射光栅是美国麻省理工学院为满足国际x射线天文台x射线光栅谱仪的科学要求而提出的一种新型衍射光栅,它集中了透射和反射光栅的优点,同时避免它们的缺点.文章对软x射线自支撑闪耀透射光栅的概念、基本原理、制作工艺进行了综述,介绍了美国麻省理工学院的光栅研制工作进展和文章作者的初步研究结果.

关键词：软x射线衍射光栅综述临界角各向异性腐蚀

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软x射线光刻研究现状和发展

光电工程 1996年第S1期23卷 127-136页

作者：姚汉民袁大发中国科学院光电技术研究所成都610209

新的一代光刻设备朝着两个方向发展 ,一是趋向于大数值孔径、短波长 ;另一方面国际上正在寻求适应二十一世纪、小于 0 .1 5微米线宽的软 x射线投影光刻技术 ,预计成为下世纪制造千兆位以上超大规模集成电路的主要设备。软 x射线光刻及... 详细信息

新的一代光刻设备朝着两个方向发展 ,一是趋向于大数值孔径、短波长 ;另一方面国际上正在寻求适应二十一世纪、小于 0 .1 5微米线宽的软 x射线投影光刻技术 ,预计成为下世纪制造千兆位以上超大规模集成电路的主要设备。软 x射线光刻及其应用研究是目前国际上非常活跃的高技术领域。把软 x射线光刻列为重要发展项目。本文摘要综述德国、美国、日本、俄罗斯等国近年来在软 x射线光刻关键单元技术及整机研究和发展方面的概况、预计下世纪初美国和日本将有软

关键词： x射线光刻软x射线 x射线光刻机光致抗蚀剂

软x射线条纹相机用于激光等离子体辐射温度的测量方法

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强激光与粒子束 1989年第4期1卷 353-359页

作者：唐永建丁耀南何海恩冯杰陈晓峰郑志坚张小秋龚美霞雷志远西南核物理与化学研究所中国科学院西安光机所

本文提出了软x射线条纹相机与吸收膜相耦合测量等离子体温度的实验原理与方法,编制了数值计算程序SCC,给出了平面金靶在1.06μm激光(LF—II~=激光装置)作用下,靶面功率密度约10^(14)W/cm^2的辐射温度。并对温度处理中存在的误差,以及把... 详细信息

本文提出了软x射线条纹相机与吸收膜相耦合测量等离子体温度的实验原理与方法,编制了数值计算程序SCC,给出了平面金靶在1.06μm激光(LF—II~=激光装置)作用下,靶面功率密度约10^(14)W/cm^2的辐射温度。并对温度处理中存在的误差,以及把此方法推广到能谱的时间分辨和温度的空间分辨测量中的可能性进行了讨论。

关键词：软x射线条纹相机吸收法辐射温度

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软x射线造影技术在种子质量检测中的应用

种子 1999年第3期18卷 36-37页

作者：薛万新崔鸿文孟烦文西北农业大学园艺系陕西杨凌712100

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软x射线投影光刻技术及其发展(续)

物理实验 2002年第5期22卷 3-6页

作者：金春水曹健林中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室长春130022

为了提高反射率,软x射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软x射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的... 详细信息

为了提高反射率,软x射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软x射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的光刻复制。在反射式掩膜技术中,需要着重考虑的是掩膜缺陷修复和降低多层膜的损伤。

关键词：软x射线投影光刻技术发展掩膜多层膜集成电路制造技术