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烷基糖苷的合成及性能研究

烷基糖苷的合成及性能研究

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作者：李小鸽广州大学

学位级别：硕士

本论文以脂肪醇与葡萄糖为原料,采用转糖苷的方法,合成了新型非离子表面活性剂烷基糖苷(APG)。经IR和1 NMR及元素分析法表征了产物的组成及结构。通过对合成方法、原料用量的探索,得出了合成烷基糖苷的最佳反应条件为:反应温度为115℃... 详细信息

本论文以脂肪醇与葡萄糖为原料,采用转糖苷的方法,合成了新型非离子表面活性剂烷基糖苷(APG)。经IR和1 NMR及元素分析法表征了产物的组成及结构。通过对合成方法、原料用量的探索,得出了合成烷基糖苷的最佳反应条件为:反应温度为115℃、葡萄糖与正丁醇的摩尔比为1:4.5、葡萄糖与催化剂的摩尔比为1:0.028、葡萄糖与正癸醇的摩尔比为1:2。葡萄糖的转化率为97.5%。本实验对反应过程的催化剂进行了改进,用有机酸对甲苯磺酸和吡啶组合成二元复合催化剂,与传统催化剂相比,提高了反应葡萄糖的转化率、极大的缩短了反应时间、使反应过程耗能少。在产物性能方面,本文主要用光谱学的方法研究表面活性剂烷基糖苷的聚集行为,主要原理方法为:配制一系列浓度的产物样品表面活性剂——染料探针水溶液体系,分别测量各浓度的表面活性剂——染料水溶液体系的可见吸收光谱及荧光发射光谱。结果表明,随着表面活性剂浓度的增加,染料在体系中表现为增溶现象;所得光谱曲线为不对称的叠合峰,用高斯多峰拟合的方法,实现了叠合峰的分峰、峰面积(积分吸光度或发射强度)、频移、半峰宽等光谱线型参数的计算;用染料探针单体和二聚体吸收峰峰面积比(A/A或者I/I)、频移(△λ)及半峰宽(w,w)等谱线线型参数对表面活性剂浓度作图,图形在临界胶束浓度处发生突变,突变点就是表面活性剂水溶液体系的临界胶束浓度,首次发现可见吸收光谱线型参数半峰宽对APG聚集行为敏感。本方法与传统测量表面活性剂临界胶束浓度的方法相比,突变点更灵敏,抗干扰能力强,且结果更为精确。本文还用可见吸收光谱、荧光发射光谱结合高斯多峰拟合的方法研究了烷基糖苷与阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠(SDBS)复配后混合表面活性剂的聚集行为的情况,在复配体系中,固定烷基糖苷的浓度为一定值,测量复配体系随SDBS浓度变化时染料探针的可见吸收光谱及荧光发射光谱,其中,染料在混合表面活性剂水溶液体系中的增溶效果不明显,用高斯多峰拟合分析光谱线型参数,通过各参数与SDBS浓度关系图得到混合表面活性剂体系的cmc,且结果同样准确。

关键词：烷基糖苷转糖苷合成混合表面活性剂可见吸收光谱荧光发射光谱临界胶束浓度高斯多峰拟合半峰宽

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