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日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电子科学与技术（可...
    • 1 篇 核科学与技术

主题

  • 2 篇 表面污染控制
  • 1 篇 金属回炉去污
  • 1 篇 金属材料
  • 1 篇 金属去除
  • 1 篇 放射性污染
  • 1 篇 湿法清洗
  • 1 篇 小型生产线
  • 1 篇 核设施退役
  • 1 篇 核工业
  • 1 篇 单晶圆清洗

机构

  • 1 篇 群星集团公司
  • 1 篇 sony semiconduct...

作者

  • 1 篇 白光
  • 1 篇 takeshi hattori

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"主题词=表面污染控制"
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适用于小型生产线运行的单晶圆清洗技术的实现(英文)
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电子工业专用设备 2007年 第6期36卷 16-23页
作者： Takeshi Hattori Sony Semiconductor
利用臭氧消毒水和淡氟氢酸清洗技术,使设备生产厂家的单晶圆旋转清洗工艺适应向小型生产线转入的应用,从而使生产周期的缩短成为可能。
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
放射性污染金属材料的再利用：回顾与思考
放射性污染金属材料的再利用：回顾与思考
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引用
小型“循环经济”学术研讨会
作者： 白光 群星集团公司
自上世纪80年代末至90年代中的十几年时间里,中国核工业北京华清公司参与了制定放射性污染金属材料从控制区移出的暂控标准,中国核工业北京华清公司进行了多个单位的放射性污染金属材料的回收和再利用实践,成功地回收并再利用了7300多... 详细信息
来源： cnki会议 评论
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