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有限元法计算膜厚均匀性

光学仪器 2001年第5期23卷 5-10页

作者：阴晓俊费书国章月州孔志坤沈阳仪器仪表工艺研究所辽宁沈阳110043

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性 ,分析了均匀性的影响因素。

关键词：膜厚均匀性发射特性蒸发源旋转倾斜光学薄膜有限元法

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基片摆动对磁控溅射膜厚均匀性的影响研究

航空精密制造技术 2010年第6期46卷 6-8页

作者：乔大勇苑伟政西北工业大学微/纳米系统实验室西安710072

研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4... 详细信息

研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4英寸硅基片上得到了±5.6%的膜厚均匀性。

关键词：磁控溅射基片摆动基片自转膜厚均匀性

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镀膜机蒸发源位形对膜厚均匀性的影响

真空科学与技术学报 1985年第2期 39-43页

作者：谭深国防科技大学

一、概述影响膜层厚度的因素很多。本文只考虑“几何因素”,即只考虑蒸发源的形状、位置,基片位置及其运动、监控用的比较片位置等等几何因素的影响。结果表明,现有许多型号的镀膜机,其设计对几何因素的影响未予足够的重视。因此一般镀... 详细信息

一、概述影响膜层厚度的因素很多。本文只考虑“几何因素”,即只考虑蒸发源的形状、位置,基片位置及其运动、监控用的比较片位置等等几何因素的影响。结果表明,现有许多型号的镀膜机,其设计对几何因素的影响未予足够的重视。因此一般镀膜机,尤其是基片用平面圆盘支架的机子,一盘基片的厚度不均匀达到百分之几,甚至百分之十几。物质蒸发时的角分布也是影响均匀的因素;可是,对此尚无可靠的理论或实验数据可供应用;因此,本文作了均匀分布或余弦分布两种假设。又实际上,膜厚的监控是探测比较片。而比较片与其它片因几何位置不同,因而膜厚也

关键词：蒸发源最佳位置镀膜机膜厚均匀性位形

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提高产品横向膜厚均匀性的吹膜模头

橡塑技术与装备 2016年第18期42卷 80-81页

本发明涉及一种提高产品横向膜厚均匀性的吹膜模头，属于塑料加工的技术领域，吹膜模头包括分流间隙、模唇间隙和阻流环，并且塑料熔体从分流间隙沿径向分流并经过模唇间隙轴向流出，

关键词：膜厚均匀性模头吹膜产品塑料加工塑料熔体间隙分流

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大面积户外照明光学薄膜膜厚均匀性研究

大面积户外照明光学薄膜膜厚均匀性研究

中国光学学会2006年学术大会

作者：王小辉卫红曹一鸣刘志宇盘巍姬海峰广州市光机电工程研究开发中心广州市光机电工程研究开发中心广州市光机电工程研究开发中心广州市光机电工程研究开发中心广州市光机电工程研究开发中心广州市光机电工程研究开发中心

采用平面公自转行星夹具镀制户外照明用大面积光学薄膜,计算了光学薄膜膜厚的均匀性,经测试得到均匀性的结果。

关键词：光学薄膜膜厚均匀性户外照明,平面行星夹具

来源： cnki会议评论

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单一蒸发源膜厚分布的均匀性

光学学报 2019年第12期39卷 417-421页

作者：付秀华赵迪卢成马国俊鲍刚华长春理工大学光电工程学院吉林长春130022 成都国泰真空设备有限公司四川成都611130

基于非余弦膜厚计算公式,提出了利用极坐标简化表征膜厚分布的方法,对单源电子束蒸发的光学薄膜的膜厚均匀性控制进行了研究,同时对修正板的放置位置进行了计算。相对于传统修正板置于蒸发源正上方的方法,采用极坐标法计算得到的修正板... 详细信息

基于非余弦膜厚计算公式,提出了利用极坐标简化表征膜厚分布的方法,对单源电子束蒸发的光学薄膜的膜厚均匀性控制进行了研究,同时对修正板的放置位置进行了计算。相对于传统修正板置于蒸发源正上方的方法,采用极坐标法计算得到的修正板位置更有利于控制膜厚分布的均匀性。以蒸发H4和MgF2为例,分别对高、低折射率材料的修正板位置和形状进行计算,并利用这两种材料分别制备单层膜,实测光谱均匀性偏差优于0.3%,证明了所提方法的正确性与可行性。

关键词：薄膜光学镀膜膜厚均匀性修正板

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车身电泳膜厚均匀性调试提升

汽车制造业 2018年第19期 62-64页

作者：刘哲潘明明张佳朋长城汽车股份有限公司技术中心河北省汽车工程技术研究中心

电泳膜厚均匀性提升意味着在电泳最低膜厚不变的前提条件下,整车平均膜厚的降低。通过调整电泳温度、电泳电压等手段可使公司以较少的成本投入满足产品KPI品质需求。电泳涂装是带电荷的水溶性涂料粒子,在电场作用下,在相反电荷电极上沉... 详细信息

电泳膜厚均匀性提升意味着在电泳最低膜厚不变的前提条件下,整车平均膜厚的降低。通过调整电泳温度、电泳电压等手段可使公司以较少的成本投入满足产品KPI品质需求。电泳涂装是带电荷的水溶性涂料粒子,在电场作用下,在相反电荷电极上沉积形成涂层的工艺。自20世纪60年代末,福特汽车公司建成世界上第一条汽车电泳涂装生产线以来,由于其无可比拟的高效、少污染等突出优点,使得电泳涂装广泛应用于汽车涂装线体。

关键词：膜厚均匀性电泳涂装福特汽车公司调试车身相反电荷涂装生产线品质需求

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磁控溅射镀膜机基片膜厚的均匀性分析

磁控溅射镀膜机基片膜厚的均匀性分析

作者：马宏超东北大学

学位级别：硕士

基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素,磁控溅射镀膜是最常用的薄膜制备方法之一,针对磁控溅射镀膜技术的膜厚均匀性的研究对实际生产有重要的指导意义。本课题从如何利用小平面靶在大基片上获得均匀性良好的膜层... 详细信息

基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素,磁控溅射镀膜是最常用的薄膜制备方法之一,针对磁控溅射镀膜技术的膜厚均匀性的研究对实际生产有重要的指导意义。本课题从如何利用小平面靶在大基片上获得均匀性良好的膜层出发,在偏心自转机械结构的基础之上,建立小平面靶材对应大基片磁控溅射镀膜膜厚分布的几何模型,推导出膜厚的积分公式。在不同的参数下对膜厚分布进行计算机模拟,为磁控溅射镀膜装置的设计提供理论依据。模拟实验的结果表明：基片偏心自转时,当偏心距,刻蚀区域一定时,在一定的范围之内,随着靶基距H的增大,基片上的膜厚均匀性变好,而膜层厚度减小;当靶基距,刻蚀区域一定时,随着偏心距e增大,基片膜厚厚度减小,膜厚均匀性先变好而后变差;当靶基距,偏心距一定时,刻蚀区域的大小对薄膜膜厚有明显的影响,随着刻蚀区域外径的增大,薄膜厚度明显增加,而膜厚均匀性变化不明显;基片公转与自转复合运动时,膜厚均匀性受自转与公转转速比k的影响,当k增大时,膜厚均匀性逐渐变好;此时,靶基距,偏心距,刻蚀区域的大小对膜厚均匀性的影响和基片偏心自转时的情况是一致的,基片连续公转时,膜厚均匀性优于基片往复公转。利用MATLAB软件对膜厚分布进行二维曲线和三维曲面的模拟,研究不同参数—靶基距、偏心距、刻蚀区域大小、基片自转和公转的转速比等对膜厚均匀性的影响,并找出能使膜厚均匀性达到最优的参数值,根据这些参数值,研究和设计出能满足这些参数的磁控溅射镀膜装置的部分结构。最后,对实验所得出的数据进行分析和处理,并和理论分析得出的结果相对比,得出一致的结论。

关键词：磁控溅射技术溅射镀膜小平面靶膜厚均匀性转速比

磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响

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航空材料学报 2007年第3期27卷 66-68页

作者：温培刚颜悦张官理望咏林北京航空材料研究院北京100095

薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度。结果表明:靶基间... 详细信息

薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度。结果表明:靶基间距较大的情况下,薄膜均匀性明显改善;溅射功率和工作气压对薄膜均匀性也有较大的影响。

关键词：磁控溅射膜厚均匀性膜厚测量