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红外图像非均匀性校正技术研究

红外图像非均匀性校正技术研究

作者：颜刘挺华中科技大学

学位级别：硕士

红外线性扫描成像系统有着高灵敏度、强可靠性等特性,被广泛应用于军工和民事领域。但由于材料和制造工艺等因素的影响,使得探测元的输出响应存在差异,导致输出图像中存在非均匀性噪声,呈条带状在图像中分布,严重影响了图像的质量,限制... 详细信息

红外线性扫描成像系统有着高灵敏度、强可靠性等特性,被广泛应用于军工和民事领域。但由于材料和制造工艺等因素的影响,使得探测元的输出响应存在差异,导致输出图像中存在非均匀性噪声,呈条带状在图像中分布,严重影响了图像的质量,限制了红外图像的应用。因此,对红外扫描图像进行非均匀性校正就显得尤为重要。经典的非均匀性校正方法,包括定标法和基于场景的非均匀性校正方法,其中后者又分为单帧图像校正和序列图像校正两大类别。由于可以克服定标法的灵活性不足以及某些情况下无法获得序列图像等问题,基于单帧图像的非均匀性校正技术成为当前的研究热点。本文对单帧红外图像的非均匀性校正问题进行了探索,提出了两种新的非均匀性校正方法。本文首先对非均匀性成像模型进行阐述,分析非均匀性噪声的空间特征,提出一种线性畸变约束下的单向总变分模型(HUTV),并给出一种均值化求解方法,通过交替进行无约束条件下的单向总变分模型(UTV)求解和均值化补偿的方式,获得最终的校正的结果。仿真实验结果表明,这种新的HUTV模型能获得比UTV模型更优良的非均匀性校正效果。在此基础上,本文又利用小波变换能将图像分解为多方向细节分量的特性,提出一种基于小波变换和HUTV模型的非均匀性校正方法(wavelet-HUTV)。该方法先利用小波变换将图像信息进行方向性分离,再用HUTV模型对含有非均匀性噪声的分量做非均匀性校正。由于wavelet-HUTV方法构建的处理框架能较好的保持其余方向分量不变,使得校正结果能够更好的保留图像边界细节信息。本文以峰值信噪比(PSNR)、残差统计量(RS)、行均值曲线(RMC)作为校正效果评价指标,将两种新的非均匀性校正方法和一些典型的基于单帧图像的非均匀性校正方法进行比较,仿真实验结果验证了本文提出的新方法的有效性。

关键词：红外扫描图像非均匀性校正线性畸变单向总变分均值化小波变换

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磁偏转线圈的优化设计

电子与信息学报 1987年第3期 221-228页

作者：谢志行黄达诠沈庆垓浙江大学

本文由谢志行等（1987）给出的场参数表达式,借助正交设计法,对带屏蔽筒鞍形偏转线圈进行了优化设计,所得结果与实际模型相符。指出了鞍形偏转线圈的端耳效应和场参数B;（z）分布对象差的重要贡献。例示了有限长余弦分布绕组与分布式绕... 详细信息

本文由谢志行等（1987）给出的场参数表达式,借助正交设计法,对带屏蔽筒鞍形偏转线圈进行了优化设计,所得结果与实际模型相符。指出了鞍形偏转线圈的端耳效应和场参数B;（z）分布对象差的重要贡献。例示了有限长余弦分布绕组与分布式绕组之间电子光学性能的比较。

关键词：偏转线圈电磁线圈分布角象差优化设计余弦线性畸变图形畸变偏转灵敏度偏转性能正交表正交阵列鞍形交互作用绕组

电子束制版自动对准控制和校正量计算程序的设计

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电子工业专用设备 1983年第1期 9-16页

作者：刘敬延张重媛

在用电子束曝光系统制造大规模集成电路工艺中,电子束场的线性与非线性畸变对曝光系统的对准精度有着很大影响。本文介绍的计算机软件是专为校正电子束场的线性畸变而设计的。文中叙述了电子束自动对准的必要性、对准原理、数学公式及... 详细信息

在用电子束曝光系统制造大规模集成电路工艺中,电子束场的线性与非线性畸变对曝光系统的对准精度有着很大影响。本文介绍的计算机软件是专为校正电子束场的线性畸变而设计的。文中叙述了电子束自动对准的必要性、对准原理、数学公式及程序的特点。实验结果表明,本程序设计原理正确,为今后用电子束曝光系统制版实现自动对准提供了理论依据。

关键词：自动对准电子束制版程序交点坐标线性畸变坐标系图形发生器寄存器溢出线性方程组坐标值位置坐标电子束偏转

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广播声频技术发展概况

广播与电视技术 1979年第3期 10-23页

作者：阎凤崙

1.前言声音广播自1920年问世以来,至今已有将近60年的历史。随着电子技术的飞速发展,尤其是调频、微波、卫星、光导等新的传输技术的发展以及数码技术的引入,使广播声频信

关键词：磁带录音机动态范围频率特性磁迹磁头线性畸变频率响应磁记录器声级计传声器话筒立体声广播调音台声频系统声频设备电子器件电声器件声电器件听音评价主观听觉声频技术发展概况

引导超大规模集成电路生产新潮流的X射线片子步进机

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电子工业专用设备 1986年 62-68页

作者：童志义

分步重复X射线光刻技术已用于生产,它将在新一代的超大规模集成电路生产中减轻芯片制造者的负担,实现细线条加工的精确套准和高密度的封装要求。Micronix公司积累了多年的经验,研制成功的全视场X射线光刻装置——MX—1600是一台在6英寸... 详细信息

分步重复X射线光刻技术已用于生产,它将在新一代的超大规模集成电路生产中减轻芯片制造者的负担,实现细线条加工的精确套准和高密度的封装要求。Micronix公司积累了多年的经验,研制成功的全视场X射线光刻装置——MX—1600是一台在6英寸片子上全自动复制1:1集成电路图形的片子步进机。 X射线加工技术最困难的部分是掩模与片子的对准,同样也是Micronix公司在研制这一新设备时所面临的最大难题。新装置的自动对准系统依靠线性波带片技术,实现了0.1微米(2σ)的对准精度。该系统由一个光学传感器和激光束合成,可在光刻过程

关键词：掩模台对准精度半影子步线性畸变超大规模集成电路超大规模集成射线片

8φ—DPSK4800bpsMODEM系统相位误差分析与讨论

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通信技术 1985年第4期 11-22页

作者：陈征

本文在简要叙述调制解调方式后,对造成8φ—DPSK 4800bpsmodem系统相位误差的因素及影响程度给出了定性或定量的分析与讨论,最后对系统相位误差指标进行了粗略的分配

关键词：相位误差移相信号线性畸变 DPSK4800bpsMODEM 相位抖动

地面摄影经纬仪内方位元素测试计算方法及误差初步分析

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