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文献类型

  • 3 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 3 篇 电子文献
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日期分布

学科分类号

  • 3 篇 工学
    • 2 篇 电子科学与技术（可...
    • 1 篇 机械工程
    • 1 篇 仪器科学与技术
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 信息与通信工程
    • 1 篇 软件工程

主题

  • 3 篇 约束刻蚀剂层
  • 2 篇 硅
  • 1 篇 labview
  • 1 篇 电化学湿印章
  • 1 篇 刻蚀
  • 1 篇 微纳米加工系统
  • 1 篇 刻蚀分辨率
  • 1 篇 微电子学
  • 1 篇 化学刻蚀
  • 1 篇 分辨率
  • 1 篇 celt

机构

  • 2 篇 厦门大学
  • 1 篇 上海交通大学
  • 1 篇 哈尔滨工业大学

作者

  • 2 篇 穆纪千
  • 2 篇 谢雷
  • 2 篇 田昭武
  • 2 篇 祖延兵
  • 2 篇 谢兆雄
  • 2 篇 毛秉伟
  • 1 篇 朱利民
  • 1 篇 孙立宁
  • 1 篇 赖磊捷
  • 1 篇 赵相晖

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=约束刻蚀剂层"
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利用约束刻蚀剂层技术提高硅的化学刻蚀分辨率
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科学通报 1997年 第9期42卷 1002-1003页
作者： 祖延兵 谢雷 田昭武 谢兆雄 穆纪千 毛秉伟 厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室 物理化学研究所化学系厦门361005
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方法相继问世.其中,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目.SECM刻蚀的主要原理是,利用精密定位系... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率(英文)
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电化学 1997年 第1期3卷 11-14页
作者： 祖延兵 谢雷 毛秉伟 穆纪千 谢兆雄 田昭武 孙立宁 厦门大学化学系 哈尔滨工业大学
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义，而硅是其中极为重要并占统制地位的材料。近年来，扫描电化学显微镜（ＳＥＣＭ）用于表面加工的研究颇受注目。然而，ＳＥＣＭ刻蚀分辨率往往因为刻蚀剂的横向扩散而... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
基于LabVIEW的微纳加工系统设计与研究
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引用
机电一体化 2014年 第A04期20卷 28-32,44页
作者： 赵相晖 赖磊捷 朱利民 上海交通大学机械动力与工程学院机械系统与振动国家重点实验室 上海200240
根据约束刻蚀加工工艺原理要求,开发了基于LabVIEW软件的微纳米加工系统。系统主要由宏动定位平台、微动定位平台、微力传感器、电化学工作站以及控制系统组成。系统通过数据采集卡和运动控制卡来实现仪器的定位与运动控制,对接触检测... 详细信息
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