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学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 2 篇 表面粗糙度
  • 2 篇 粗糙化机理
  • 1 篇 标度性质
  • 1 篇 微波集成电路
  • 1 篇 钽
  • 1 篇 硅衬底
  • 1 篇 磁控溅射
  • 1 篇 薄膜
  • 1 篇 多层金属膜
  • 1 篇 原子力显微镜
  • 1 篇 镍铬合金
  • 1 篇 金

机构

  • 1 篇 西安交通大学
  • 1 篇 西安空间无线电技...
  • 1 篇 中国科学技术大学
  • 1 篇 中国科学院固体物...

作者

  • 1 篇 李弦
  • 1 篇 王衍
  • 1 篇 朱晓光
  • 1 篇 徐可为
  • 1 篇 吴自勤
  • 1 篇 夏锐
  • 1 篇 王平
  • 1 篇 王海千
  • 1 篇 侯建国
  • 1 篇 唐武

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"主题词=粗糙化机理"
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微波集成电路(MIC)中Au/NiCr/Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究
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引用
真空科学与技术 2003年 第2期23卷 140-142页
作者： 唐武 徐可为 王平 李弦 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室 710049 西安空间无线电技术研究所 710000
Au/NiCr/Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向 ,SEM观察薄膜断面形貌 ,AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关 ,随着沉积温度 10 0℃→ 2 5 0℃的改变 ,薄膜表面发生从粗糙→光滑... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
C_(60)-Ag薄膜高、低温粗糙表面的标度行为和粗糙化机理的实验研究
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中国科学（A辑） 1998年 第7期28卷 656-661页
作者： 侯建国 王衍 朱晓光 王海千 夏锐 吴自勤 中国科学技术大学结构研究开放实验室 中国科学技术大学高等研究院 合肥230026 中国科学技术大学高等研究院 中国科学院固体物理研究所 合肥230031
利用原子力显微镜和透射电子显微镜对沉积在NaCl衬底上的C60 Ag复合薄膜的表面形貌和微结构进行了研究 .结果表明薄膜表面的粗糙度依赖于衬底的温度 ,当衬底温度从 - 80℃上升到 1 2 0℃ ,薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程 .... 详细信息
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