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Preparation and Characterization of Amorphous Layer on Aluminum Alloy Formed by Plasma Electrolytic Deposition(PED)

材料热处理学报 2004年第5B期25卷 1084-1087页

作者： GUANYong-jun XIAYuan InstituteofMechanics CASBeijingChina

In this investigation, protective layers were formed on aluminum substrate by Plasma Electrolytic Deposition (PED) using sodium silicate solution. The relation between the thickness of the layer and process time were studied. XRD, SEM, EDS were used to study the layer’s structure, composition and micrograph. The results show that the deposited layers are amorphous and contain mainly oxygen, silicon, and aluminum. The possible formation mechanism of amorphous [Al-Si-O] layer was proposed: During discharge periods, A12O3 phase of the passive film and SiO32"near the substrate surface are sintered into xSiO2(l - x)Al2O, and then transformed into amorphous [Al-Si-O] phase.

关键词：等离子电镀非晶形层铝合金 PED

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