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北方微电子“等离子刻蚀机”荣获2009年度“国家科技进步二等奖”

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中国集成电路 2010年第2期19卷 2-3页

2010年1月11日，一年一度的国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂隆重举行，党和国家领导人胡锦涛、温家宝、李长春、习近平、李克强出席大会并为获奖代表颁奖。国家科学技术奖励是我国科技界的一大盛事，更是对我国科技创新能力的一... 详细信息

2010年1月11日，一年一度的国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂隆重举行，党和国家领导人胡锦涛、温家宝、李长春、习近平、李克强出席大会并为获奖代表颁奖。国家科学技术奖励是我国科技界的一大盛事，更是对我国科技创新能力的一次大检阅，各大奖项的归属已成为科技界乃至全社会关注的焦点。

关键词：国家科技进步二等奖等离子刻蚀机国家科学技术奖励大会微电子北京人民大会堂北方科技创新能力国家领导人

打破多年依赖进口局面纳米等离子刻蚀机进大生产线

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电子工业专用设备 2010年第10期39卷 63-64页

半导体工艺装备是一个非常复杂的系统。多年来,中国半导体行业所需设备几乎全部依赖进口。近20年来,中国半导体行业的强劲发展不仅没有拉动中国半导体装备的发展,反而由于引进的冲击使中国的半导体设备行业濒临全军覆没。

关键词：等离子刻蚀机进口生产线半导体行业半导体设备纳米工艺装备中国

8英寸100纳米高密度等离子刻蚀机(NMC508A)

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中国集成电路 2007年第8期16卷 27-27,29页

作者：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

NMC508A等离子体硅刻蚀系统是适用于8英寸集成电路生产线，面向逻辑和存储等多种电路制造的先进电感耦合等离子体多反应室刻蚀系统。该系统采用了多项专利技术，具有CD（关键尺寸）控制均匀性高、刻蚀低损伤、高产能、低消耗及多腔室多... 详细信息

NMC508A等离子体硅刻蚀系统是适用于8英寸集成电路生产线，面向逻辑和存储等多种电路制造的先进电感耦合等离子体多反应室刻蚀系统。该系统采用了多项专利技术，具有CD（关键尺寸）控制均匀性高、刻蚀低损伤、高产能、低消耗及多腔室多种工艺集成等特点。

关键词：等离子刻蚀机电感耦合等离子体高密度纳米集成电路专利技术关键尺寸生产线

中微半导体,中国大陆第一台等离子刻蚀机的创造者

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集成电路应用 2017年第4期34卷 90-90页

2015年到2020年，中国大陆半导体产业投资将达到680亿美元，而芯片制造设备投资额也达到500亿美元。但是我国的芯片制造设备95％依赖于进口，核心设备被国外公司垄断，如果国产的设备商没有突破，钱都会让外国公司挣走了。

关键词：中国大陆等离子刻蚀机半导体创造者制造设备产业投资核心设备外国公司

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单片机在ECR等离子体刻蚀机上的应用

电气自动化 1995年第4期17卷 37-38,36页

作者：程健史义才吴志甫合肥中国科学院等离子体物理研究所

简要介绍了等离子体刻蚀机的控制要求和技术指标,阐述了应用8031实现上述要求的软、硬件具体实现方法及实际使用情况,最后提出了一些改进的措施。这种控制系统有进一步推广应用到其它工业生产设备上的价值。

关键词：集成电路微机等离子刻蚀机应用

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硅的深槽刻蚀技术研究

微电子学 2004年第1期34卷 45-47页

作者：欧益宏周明来张正元解放军后勤工程学院重庆400016 模拟集成电路国家重点实验室重庆400060

　研究了采用等离子刻蚀机对硅进行深槽刻蚀中掩蔽层的选择及横向腐蚀的抑制等工艺问题。实验发现,以氟基气体作为工艺气体,铝或铝合金作为掩蔽层时,可以获得极高的选择比;通过增大射频功率,改变气体组分,气体流量等方法,可以较好地解... 详细信息

　研究了采用等离子刻蚀机对硅进行深槽刻蚀中掩蔽层的选择及横向腐蚀的抑制等工艺问题。实验发现,以氟基气体作为工艺气体,铝或铝合金作为掩蔽层时,可以获得极高的选择比;通过增大射频功率,改变气体组分,气体流量等方法,可以较好地解决等离子刻蚀中的各向同性问题。

关键词：硅深槽刻蚀技术等离子刻蚀机掩蔽层氟基气体各向异性

中国科学院微电子所合作项目荣获北京市科学技术奖

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中国集成电路 2009年第6期18卷 2-2页

由中科院微电子所微电子设备技术研究室作为合作单位之一，承担完成的“100纳米高密度等离子刻蚀机研发与产业化”项目获得了2008年北京市科技进步一等奖。

关键词：合作项目微电子北京市科学技术奖中国科学院科技进步一等奖等离子刻蚀机设备技术

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我国集成电路高端装备自主化取得新突破

现代材料动态 2015年第6期 18-18页

由北方微电子公司自主研发的12英寸28rim等离子硅刻蚀机，已经全面通过中芯国际集成电路制造有限公司的生产线全流程工艺验证，并获得客户订单。这标志着中国集成电路高端装备自主化取得了新的突破，并缩短了与国际一流设备的差距。等... 详细信息

由北方微电子公司自主研发的12英寸28rim等离子硅刻蚀机，已经全面通过中芯国际集成电路制造有限公司的生产线全流程工艺验证，并获得客户订单。这标志着中国集成电路高端装备自主化取得了新的突破，并缩短了与国际一流设备的差距。等离子刻蚀机是在硅片表面实现三维精细加工的高端设备，是集成电路制造中最核心的装备之一。

关键词：中芯国际集成电路制造有限公司装备等离子刻蚀机硅片表面自主研发电子公司客户订单精细加工

国产太阳能电池设备：已基本具备整线供给能力

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现代电子技术 2007年第13期30卷 100-100页

目前我国已基本具备太阳能电池设备整线供给能力。经多次技术换代及升级，国产的太阳能电池及组件生产线关键生产设备如硅片清洗机、8英寸扩散炉、等离子刻蚀机、PSG祛除机、低温烘干炉、高温烧结炉等相继在国内大生产线上替代了进口设... 详细信息

目前我国已基本具备太阳能电池设备整线供给能力。经多次技术换代及升级，国产的太阳能电池及组件生产线关键生产设备如硅片清洗机、8英寸扩散炉、等离子刻蚀机、PSG祛除机、低温烘干炉、高温烧结炉等相继在国内大生产线上替代了进口设备，并取得了广泛的应用。

关键词：太阳能电池生产设备供给能力国产等离子刻蚀机高温烧结炉进口设备生产线