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主题

  • 1 篇 h纳米膜层
  • 1 篇 表面改性
  • 1 篇 医用ni—ti合金
  • 1 篇 等离子体沉积siox...

机构

  • 1 篇 美国密苏里大学
  • 1 篇 重庆大学

作者

  • 1 篇 沈阳
  • 1 篇 葛淑萍
  • 1 篇 俞青松
  • 1 篇 王贵学
  • 1 篇 唐朝君
  • 1 篇 张勤

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=等离子体沉积SiOx:"
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等离子体沉积非晶SiO_x:H纳米膜层改性医用NiTi合金研究
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引用
功能材料 2009年 第8期40卷 1372-1375,1378页
作者： 沈阳 王贵学 张勤 葛淑萍 唐朝君 俞青松 重庆大学生物工程学院应用生物技术中心 重庆400030 美国密苏里大学表面科学与等离子体技术中心 密苏里65211
采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶siox：H纳米膜层，并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征。结果表明，通过控制TMS和Ox两种单体流速比和沉积时间，可控制材料表面亲疏水性和siox：H纳米膜层厚度。反应沉积的... 详细信息
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