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基于NS-DSMC耦合方法与Langmuir探针诊断的射频等离子体氧化过程中等离子体分布

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稀有金属材料与工程 2024年第4期53卷 988-993页

作者：刘万锁王志宝王庆蔺增东北大学机械工程及自动化学院辽宁沈阳110819 NeuMat(泰安)表面技术有限公司山东泰安250111 泰安真空表面工程工业技术研究院山东泰安250111

采用Navier-Stokes方程和直接模拟蒙特卡罗方法相结合的方式模拟了反应腔内的气体流动,并结合Langmuir探针检测设备分析了气体流速与等离子体密度的关系。结果表明,流体均匀性对等离子体的均匀性有显著影响。在6.5 Pa的压力下,等离子体... 详细信息

采用Navier-Stokes方程和直接模拟蒙特卡罗方法相结合的方式模拟了反应腔内的气体流动,并结合Langmuir探针检测设备分析了气体流速与等离子体密度的关系。结果表明,流体均匀性对等离子体的均匀性有显著影响。在6.5 Pa的压力下,等离子体密度和流速呈正相关,与在大气压下的实验结果一致,说明提高流体均匀性可以提高等离子体的氧化均匀性。

关键词：等离子体氧化等离子体诊断 NS-DSMC方法 Langmuir探针等离子体均匀性

不同电压下等离子体氧化法制备的氧化钛膜组织和力学性能

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中国有色金属学报 2004年第9期14卷 1564-1568页

作者：黄平徐可为憨勇西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049

利用等离子体氧化技术对钛进行了表面处理,并对其组织形貌、晶体结构以及结合强度和弹性模量等力学行为进行了讨论。结果表明:钛表面生成了一层多孔的二氧化钛膜,该膜层与基体结合强度高,均超过30MPa;弹性模量随着电压的升高而升高,这... 详细信息

利用等离子体氧化技术对钛进行了表面处理,并对其组织形貌、晶体结构以及结合强度和弹性模量等力学行为进行了讨论。结果表明:钛表面生成了一层多孔的二氧化钛膜,该膜层与基体结合强度高,均超过30MPa;弹性模量随着电压的升高而升高,这与薄膜的晶体结构发生变化有关。

关键词：等离子体氧化结合强度弹性模量钛

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等离子体氧化锗膜的生长动力学及氮化改性

厦门大学学报（自然科学版） 1993年第S2期32卷 246-248,233页

作者：徐志元刘春荣刘淑敏安徽大学物理学系合肥230039

在恒定直流偏置电压下,在稍长的时间t以后,等离子体阳极氧化锗膜的生长遵从抛物线规律X_t^2-X_v^2=kt,并由离子迁移理论推导出氧化速率常数k.由于电场增强输运,等离子体阳极氧化锗膜的生长速率比热氧化高得多.经等离子体氮化之后,Ge-O-... 详细信息

在恒定直流偏置电压下,在稍长的时间t以后,等离子体阳极氧化锗膜的生长遵从抛物线规律X_t^2-X_v^2=kt,并由离子迁移理论推导出氧化速率常数k.由于电场增强输运,等离子体阳极氧化锗膜的生长速率比热氧化高得多.经等离子体氮化之后,Ge-O-N膜具有优良的抗湿性能。

关键词：等离子体氧化生长规律氮化

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镁合金等离子体氧化时火花变化规律的研究

航空材料学报 2006年第6期26卷 46-49页

作者：张荣发何向明单大勇韩恩厚江西科技师范学院江西省材料表面工程重点实验室南昌330013 中国科学院金属研究所材料环境腐蚀试验研究中心沈阳110016

研究M agoxid工艺中镁合金等离子体氧化的过程,此过程分为三个阶段:普通阳极氧化、微弧氧化以及弧光氧化。随着氧化的进行,施加的电压不断升高,火花由微弧向弧光过渡。而微弧和弧光开始均主要集中于样品的边缘,然后均匀分布于整个样品... 详细信息

研究M agoxid工艺中镁合金等离子体氧化的过程,此过程分为三个阶段:普通阳极氧化、微弧氧化以及弧光氧化。随着氧化的进行,施加的电压不断升高,火花由微弧向弧光过渡。而微弧和弧光开始均主要集中于样品的边缘,然后均匀分布于整个样品表面。与微弧氧化阶段相比,弧光氧化阶段火花的数量明显减少,尺寸增大,并且持续的时间延长。与火花变化过程相对应,氧化膜表面孔数量减少,直径逐渐增大。氧化时间超过10m in后,氧化膜表面呈现不明显的多孔结构。

关键词：镁合金腐蚀与防护等离子体氧化火花放电

钛表面等离子体氧化及其对细胞粘附增殖的影响

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真空科学与技术学报 2015年第2期35卷 214-219页

作者：庞骏德蔺增赵宝红东北大学机械工程与自动化学院沈阳110819 中国医科大学口腔医院沈阳110002

采用真空射频辉光放电技术对喷砂酸蚀工艺处理后的钛表面进行了等离子体氧化处理,利用扫描电子显微镜、接触角测量仪及X射线光电子能谱仪研究了氧化膜对钛表面形貌和亲水性的影响以及其化学组成和价键状态;同时通过体外细胞培养研究了... 详细信息

采用真空射频辉光放电技术对喷砂酸蚀工艺处理后的钛表面进行了等离子体氧化处理,利用扫描电子显微镜、接触角测量仪及X射线光电子能谱仪研究了氧化膜对钛表面形貌和亲水性的影响以及其化学组成和价键状态;同时通过体外细胞培养研究了钛表面等离子体氧化膜对细胞粘附增殖的影响。结果表明:等离子体氧化处理保留了钛表面喷砂酸蚀形成的微观孔洞结构,获得了平均接触角低于10°的超亲水性表面;钛表面出现Ti 4+、Ti 3+和Ti 2+离子,其中主要以Ti 4+存在;相比未氧化的钛表面,氧化后的钛表面对成骨细胞的粘附增殖有更显著的促进作用,这表明钛表面等离子体氧化膜具有很好的润湿性,利于细胞的粘附增殖。

关键词：等离子体氧化喷砂酸蚀法钛超亲水

等离子体氧化nc-Si/SiO_2多层膜的蓝光发射

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固体电子学研究与进展 2002年第4期22卷 454-457页

作者：马忠元王立陈坤基李伟张林鲍云王晓伟徐俊黄信凡冯端南京大学物理系固体微结构国家重点实验室 210093

报道了在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中用交替淀积 a-Si对其进行原位等离子体氧化的方法制备了 a-Si∶H/ Si O2 多层膜。随着 a-Si∶H子层的厚度从 3 .8nm减小到 1 .5 nm,a-Si∶H/ Si O2 多层膜的光吸收边和光致发光 (PL )出... 详细信息

报道了在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中用交替淀积 a-Si对其进行原位等离子体氧化的方法制备了 a-Si∶H/ Si O2 多层膜。随着 a-Si∶H子层的厚度从 3 .8nm减小到 1 .5 nm,a-Si∶H/ Si O2 多层膜的光吸收边和光致发光 (PL )出现了蓝移。在晶化的 a-Si∶ H/ Si O2 多层膜中不仅观察到室温下的红光带 (80 0nm)的发光峰 ,而且还观察到蓝光发射 (4 2 5 nm) ,结合 Raman,TEM和 PL测试。

关键词：等离子体氧化纳米硅光致发光硅/二氧化硅多层膜

等离子体氧化和自组装技术改性铝合金的摩擦学特性

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轻合金加工技术 2008年第11期36卷 38-41页

作者：孙昌国张会臣大连海事大学机械工程系辽宁大连116026

对制备的铝合金试样进行等离子体氧化,并采用自组装技术对氧化的表面进行改性处理。利用接触角测量仪、原子力显微镜和UMT-2型微摩擦磨损试验机对制备的试样进行表征和摩擦学特性测试。结果表明:经等离子体氧化的铝合金表面平整均匀,在... 详细信息

对制备的铝合金试样进行等离子体氧化,并采用自组装技术对氧化的表面进行改性处理。利用接触角测量仪、原子力显微镜和UMT-2型微摩擦磨损试验机对制备的试样进行表征和摩擦学特性测试。结果表明:经等离子体氧化的铝合金表面平整均匀,在降低摩擦因数的同时,提高摩擦副的耐久性。OTS自组装分子膜改性处理的氧化表面具有疏水特性,摩擦学性能显著提高。

关键词：等离子体氧化自组装单分子膜摩擦磨损

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锗上等离子体氧化膜的红外吸收光谱

光学学报 1986年第7期6卷 650-654页

作者：刘春荣戚震中中国科学院固体物理研究所安徽大学物理系

在高频激发的氧等离子体中实现了锗的阳极氧化.用IR-450S型红外分光光度计测量了锗上等离子体阳极氧化膜的红外透射比.实验指出,该氧化模靠近870cm;、560cm;各有一个红外吸收带.红外吸收数据与Sen和Thorpe的中心力网络模型的振动带边相... 详细信息

在高频激发的氧等离子体中实现了锗的阳极氧化.用IR-450S型红外分光光度计测量了锗上等离子体阳极氧化膜的红外透射比.实验指出,该氧化模靠近870cm;、560cm;各有一个红外吸收带.红外吸收数据与Sen和Thorpe的中心力网络模型的振动带边相结合,算出锗氧化膜的Ge-O键伸缩力常数α=439N/m,Ge-O-Ge键角θ=129°.

关键词：等离子体氧化氧化膜 OPA 等离子体阳极氧化红外吸收光谱

等离子体氧化技术图案化的自组装膜上构建生物膜的研究

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等离子体氧化技术图案化的自组装膜上构建生物膜的研究

作者：吕鹏哈尔滨工业大学

学位级别：硕士

伴随着显微镜的发明和改进，生命活动的基本单位——细胞得以发现，同时也揭开了人类对生物体微观世界研究的序幕。细胞是构成生物体的基本结构和功能单位，通常将细胞与其内膜结构统称为生物膜。生物膜是细胞进行生命活动的重要结构基... 详细信息

伴随着显微镜的发明和改进，生命活动的基本单位——细胞得以发现，同时也揭开了人类对生物体微观世界研究的序幕。细胞是构成生物体的基本结构和功能单位，通常将细胞与其内膜结构统称为生物膜。生物膜是细胞进行生命活动的重要结构基础，它不仅把细胞分隔成一个个“区室”，使遗传物质和其它参与生命活动的生物大分子集中在一个相对稳定的微环境中;同时它还通过形成膜结构，调节细胞膜两侧物质的浓度，维持渗透的平衡，保证生理活动正常进行。然而生物膜本身的结构、功能十分复杂，因此国际上广泛采用仿生膜来研究生物膜的结构、性质和功能。目前，常规固体表面支撑膜膜层与基底之间的距离只有1nmnm，使跨膜蛋白的嵌入变得十分困难。因此构建远离固体基底的仿生膜阵列变得十分有必要。当支撑膜阵列与基底之间的距离变大后，膜中镶嵌的跨膜蛋白将免于被基底束缚，膜的性质更加接近生物膜。本论文通过两种方法实现远离基底仿生膜阵列的构建：利用等离子体氧化技术，在ODS(十八烷基三甲氧基硅烷)和APTES(3-氨丙基三乙氧基硅烷)两种自组装膜表面进行图案化，再分别在自组装膜表面进行聚电解质层层组装和金/银纳米粒子的自组装，构建了微米级的沟槽结构阵列，沟深可在5nm50nm之间调节。最后利用电形成法制备出直径10μm00μm的巨型磷脂囊泡，使其在沟槽结构表面破裂、铺展，从而完成远离基底仿生膜的制备。具体内容如下： 1.载玻片经去离子水和乙醇处理后，通过Plasma(等离子体)清洗使其表面羟基化，再在羟基化的表面完成ODS和APTES自组装。使用表面具有沟槽结构的PDMS(聚二甲基硅氧烷)印章压印在ODS及APTES自组装膜表面，进行1min的氧气等离子体氧化，完成自组装膜表面图案化。 2.在图案化的ODS自组装膜表面通过层层组装聚电解质PDDA(聚二烯丙基二甲基氯化铵)和PSS(聚苯乙烯磺酸钠)构造沟槽结构;在图案化的APTES表面通过吸附金/银纳米粒子，并完成纳米粒子表面的硫醇自组装，构造沟槽结构。 3.通过电形成法制备直径为10μm00μm的巨型磷脂囊泡，随后将具有沟槽结构的基底浸入磷脂囊泡溶液，囊泡会在基底表面自发破裂铺展，即制备出远离基底的仿生膜。

关键词：等离子体氧化图案化层层组装纳米粒子仿生膜阵列