检索结果-南通市图书馆

作者：崔铁瀚南昌大学

学位级别：硕士

背景:氧化锆因其优越的物理性能、稳定的化学性能和良好的生物相容性成为口腔修复领域的重要材料。然而由于传统氧化锆透明性差影响了其在前牙美学修复中的应用。许多学者试图通过改变氧化铝的含量,提高烧结温度,或引入透明相等方法增... 详细信息

背景:氧化锆因其优越的物理性能、稳定的化学性能和良好的生物相容性成为口腔修复领域的重要材料。然而由于传统氧化锆透明性差影响了其在前牙美学修复中的应用。许多学者试图通过改变氧化铝的含量,提高烧结温度,或引入透明相等方法增加氧化锆的通透性,使氧化锆更加透明美观,透明氧化锆应运而生。透明氧化锆保留了一定的机械强度,但是粘接性能仍然不能满足临床要求,与树脂水门汀的粘接强度有待探究。本研究包括了两部分实验,其主要内容是:(1)稳定硅锆涂层浆料的制备和硅锆涂层对透明氧化锆表面性能的影响。(2)硅锆涂层对透明氧化锆粘接性能的影响。目的:(1)通过改变pH和分散剂的分子量制备出沉降缓慢的硅锆复合涂料的悬浊液。(2)研究不同表面处理对透明氧化锆的微观形貌、元素组成和分布、表面粗糙度以及晶相结构的影响。(3)研究不同表面处理对透明氧化锆与树脂水门汀的剪切强度的影响。方法:将一定比例的氧化锆粉末,氧化硅粉末,聚乙二醇,和去离子水超声震荡混匀,氢氧化钠溶液调节pH至12,密封在玻璃瓶中待用。预烧结的透明氧化锆磁盘切割成14mm×14mm×2mm的方形瓷片共计150片,分成5组,每组30片。根据表面处理方法命名以下五组:(1)CT组:完全烧结,表面不处理。(2)SB组:完全烧结,50μm的氧化铝颗粒喷砂10s。(3)C21组:硅锆比为2:1的涂层处理后完全烧结。(4)C11组:硅锆比为1:1的涂层处理后完全烧结。(5)C12组:硅锆比为1:2的涂层处理后完全烧结。上述试样经过表面处理后,超纯水超声清洗10min后晾干备用。每组试样随机选出10片,用扫描电子显微镜观察表面微观形貌及其表面元素组成和分布,X-线衍射仪分析其表面晶体结构,粗糙度仪测量其表面粗糙度。每组其他20个试件,表面经9.5%氢氟酸酸蚀处理后,冲洗干燥后用将提前制作好的树脂柱用树脂水门汀与透明氧化锆表面粘接。将所有试样放入37℃蒸馏水中水浴24h后,每组分为两个亚组,一组直接测试透明氧化锆与树脂水门汀的剪切强度。另一组放入5℃～55℃的冷热循环仪中进行10000次老化处理,再测试两者的剪切强度,并观察记录所有试样的破坏模式。结果:(1)电镜观察结果表明:CT组透明氧化锆表面低倍镜下相对平整,高倍镜下氧化锆晶粒排列紧凑无间隙;SB组透明氧化锆表面低倍镜下观察到无规则的划痕,高倍镜下可以观察到不平整的表面上面不规则颗粒结构;涂层处理的试件低倍镜下可观察到不规则排列的小“岛”,“岛”与“岛”之间有深浅不一的沟壑。高倍镜下可见锆原子镶嵌在熔融的氧化硅表面上。(2)能谱分析表明:CT组氧化锆表面仅有锆元素和氧元素存在,SB组氧化锆表面除了锆、氧元素以外,还能观察到少量的铝元素的存在。涂层处理的氧化锆表面除了锆、氧元素外,能观察到与配方比例一致的硅元素。(3)X-线衍射仪分析表明,喷砂处理和涂层处理并未使透明氧化锆的表面发生晶相转变。(4)表面粗糙度:SB组和不同比例涂层组(C21组、C11组和C12组)的粗糙度值与CT组均有显著性差异(P涂层组(C21组、C11组和C12组)的粗糙度值与SB组均有显著学性异(P涂层组中,C21组的粗糙度值与C11组和C12组有显著性差异(P0.05)。(5)剪切强度的数据结果:在24h组中,五种不同处理两两组比较均有显著性差异(P硅锆涂层处理组中的C21组和C11组剪切强度均高于喷砂处理组(P涂层处理组中的剪切强度值有随着氧化硅含量的递减出现先升高在降低的现象。在TC组中,喷砂处理和硅锆涂层处理的剪切强度与未处理的剪切强度有显著性差异(P涂层处理中的C11组与SB组的剪切强度有显著性差异(P0.05)。同一种表面处理方式,从不同老化处理来分析,10000次冷热循环处理相对24小时水热处理,各处理组剪切值均有一定程度的下降,CT组、SB组、C21组和C11组内均有显著性差异。(6)断裂界面的观察结果:各处理组主要为混合破坏模式。在24h组和TC组中未发现内聚破坏。在TC组中界面破坏的CT组、SB组和C12组比例明显升高。结论:(1)硅锆涂层能够增加透明氧化锆的粗糙度,同时增加透明氧化锆表面的硅元素的含量。(2)本硅锆涂层表面处理能够提高透明氧化锆与树脂粘接剂的剪切强度,硅锆比为1:1时的硅锆涂层表现最好。

关键词：硅锆涂层透明氧化锆剪切强度冷热循环断裂模式

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硅锆涂层对氧化锆与饰瓷结合强度的影响研究

硅锆涂层对氧化锆与饰瓷结合强度的影响研究

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作者：周昆鹏佳木斯大学

学位级别：硕士

目的:临床中氧化锆结合饰瓷的全瓷系统存在饰瓷崩脱的问题。近年来,如何降低临床崩瓷现象的发生,增强饰面瓷与氧化锆基底的结合是国内外专家学者研究的热点之一。在本实验中将二氧化硅和二氧化锆两种材料混合成浆料,在氧化锆基底表面进... 详细信息

目的:临床中氧化锆结合饰瓷的全瓷系统存在饰瓷崩脱的问题。近年来,如何降低临床崩瓷现象的发生,增强饰面瓷与氧化锆基底的结合是国内外专家学者研究的热点之一。在本实验中将二氧化硅和二氧化锆两种材料混合成浆料,在氧化锆基底表面进行涂层,通过检测涂层对氧化锆基底与饰面瓷结合强度的影响,为降低临床崩瓷率找到新的处理方法。方法:将经CAM制作的未烧结二氧化锆标准瓷片平均分为两组,每组12个试件。其中一组仅行氧化锆烧结步骤后放置待用,设为A组,另一组经过硅锆涂层处理后行相同烧结步骤,并用氢氟酸处理表面后设为B组。每组各取两个试件喷金后在电镜下观察,并对表面进行能谱仪下分析。将A、B两组剩余的各10个试件表面堆塑同一饰面瓷,再次烧结,完成标准剪切试件的制作,万能试验机检测两组氧化锆与饰面瓷间的剪切强度,根据公式得出结合强度,并进行统计学分析。将剪切断裂后的A、B两组试件放到体式显微镜下观察断裂方式。结果:1.扫描电镜结果:SEM图像显示A组表面平整。B组涂层表面呈现明暗分界明显的岛状结构。2.能谱分析结果:从谱图和EDS分层图中可见,涂层组表面存在Si元素,且元素呈岛状分布。3.结合强度结果:A组结合强度为(25.26±1.35)MPa,B组结合强度为(29.63±1.59)MPa,利用独立样本检验分析,两组的结合强度差异有显著性意义(P锆表面仍然被涂层覆盖。结论:1.硅锆涂层的制备使氧化锆基底的表面增加了Si元素和粗糙度,证实硅锆涂层方法技术路线的可行性。2.从剪切强度实验和断裂后界面分析表明,硅锆涂层可以增强饰面瓷与氧化锆基底陶瓷的结合强度。

关键词：硅锆涂层氧化锆饰瓷结合强度

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硅锆涂层对氧化锆与饰瓷结合强度的影响研究

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中国体视学与图像分析 2017年第4期22卷 429-434页

作者：周昆鹏高士军马媛媛刘洪方程美佳韩颖超王友文刘洋金华佳木斯大学黑龙江佳木斯154007

目的研究硅锆涂层对氧化锆基底与饰面瓷结合强度的影响。方法通过CAD/CAM制作二氧化锆瓷片,分为两组,A组为常规烧结处理组,B组经过硅锆涂层处理后烧结组。两组按照堆瓷步骤堆塑饰面瓷后再次烧结,完成标准剪切试件的制作。通过扫描电镜... 详细信息

目的研究硅锆涂层对氧化锆基底与饰面瓷结合强度的影响。方法通过CAD/CAM制作二氧化锆瓷片,分为两组,A组为常规烧结处理组,B组经过硅锆涂层处理后烧结组。两组按照堆瓷步骤堆塑饰面瓷后再次烧结,完成标准剪切试件的制作。通过扫描电镜观察两组涂瓷前表面形态,万能测试机检测瓷体间结合强度。结果 A组剪切结合强度为(25.26±1.35)MPa,B组的剪切结合强度为(29.63±1.59)MPa,t检验方差分析表明,两组的结合强度差异有显著意义(P锆基底进行硅锆涂层增加了氧化锆基底与饰面瓷的结合强度,在临床上具有可行性。

关键词：氧化锆饰面瓷硅锆涂层结合强度

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新型硅锆复合涂层对氧化锆-饰瓷结合强度的影响

新型硅锆复合涂层对氧化锆-饰瓷结合强度的影响

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第十七次全国口腔材料学术年会

作者：苏智伟傅柏平浙江大学医学院附属口腔医院

目的:评估新型硅锆复合涂层对氧化锆-饰瓷结合强度及持久性的影响。材料和方法:制备直径12.4mm、厚度2mm的预烧结氧化锆瓷片40个,随机分为2组,每组20个,分别进行不同的表面处理:新型硅锆涂层组:氧化锆瓷片通过浸渍提拉法在硅锆悬浮液中... 详细信息

目的:评估新型硅锆复合涂层对氧化锆-饰瓷结合强度及持久性的影响。材料和方法:制备直径12.4mm、厚度2mm的预烧结氧化锆瓷片40个,随机分为2组,每组20个,分别进行不同的表面处理:新型硅锆涂层组:氧化锆瓷片通过浸渍提拉法在硅锆悬浮液中进行涂层,浸入速度:3mm/min,试件完全浸入液体后,保持1分钟,然后进行提拉,提拉速度:3mm/min,涂层后自然干燥2小时后进行烧结。喷砂组:氧化锆瓷片烧结后,用110μm氧化铝喷砂20秒,喷砂压力0.3MPa,距离10mm。数字化设计并用树脂材料3D打印制作内径5mm、高度3mm圆柱形上瓷模具。上瓷模具放在氧化锆瓷片上,饰瓷瓷粉与专用液按1g:0.3ml比例混合均匀,浆状饰瓷填入模具腔内,吸干多余水分,去除模具。饰瓷堆好后,试件放入烤瓷炉中烧结。各组试件再随机分为2个亚组,每个亚组10个,1个亚组无冷热循环,另一亚组用冷热循环仪5℃/55℃冷热循环10000次。氧化锆-饰瓷试件速凝树脂固定在万能试验机剪切模具内进行剪切试验,剪切速度0.5mm/min。试件断裂后停止试验,读出最大剪切力值,计算剪切结合强度(MPa)。使用SPSS 24.0软件包对氧化锆-饰瓷结合强度数据进行双因素方差分析(two-way ANOVA),差异显著性标准设定为α=0.05。结果:新型硅锆涂层组氧化锆-饰瓷剪切结合强度冷热循环前为21.01±2.18MPa,冷热循环10000次为17.42±1.14MPa。喷砂组氧化锆-饰瓷剪切结合强度冷热循环前为15.23±1.61 MPa,冷热循环10000次为12.14±1.50MPa。2组具有显著性影响(P 硅锆复合涂层可以提升氧化锆-饰瓷之间的结合强度和持久性。

关键词：氧化锆硅锆涂层饰瓷结合强度

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