检索结果-南通市图书馆

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

研磨液在氧化镓晶体研磨中的作用

硅酸盐学报 2019年第1期47卷 43-47页

作者：黄传锦周海朱永伟徐晓明李军南京航空航天大学机电学院南京210016 盐城工学院机械学院江苏盐城224051

氧化镓晶体易解理,严重阻碍了研磨过程中晶体表面质量的提升。根据摩擦学原理建立边界润滑磨损模型,探索了不同研磨液在研磨过程中的作用机理。针对晶体的解理特性,依据理论模型依次采用水、油作为研磨液对氧化镓进行加工实验研究。结... 详细信息

氧化镓晶体易解理,严重阻碍了研磨过程中晶体表面质量的提升。根据摩擦学原理建立边界润滑磨损模型,探索了不同研磨液在研磨过程中的作用机理。针对晶体的解理特性,依据理论模型依次采用水、油作为研磨液对氧化镓进行加工实验研究。结果表明:首先水磨,晶体表面由粗研磨产生的解理现象得到有效抑制,表面粗糙度Ra由粗研磨后的325 nm降至70 nm;然后油磨,晶体表面的微解理缺陷逐步消失,表面粗糙度Ra由水磨后的70 nm降至24 nm。该研究为易解理晶体的精研磨提供有益参考。

关键词：氧化镓晶体研磨研磨液晶体解理

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

固结磨料研磨蓝宝石单晶过程中研磨液的作用

光学精密工程 2014年第11期22卷 3004-3011页

作者：王建彬朱永伟谢春祥徐俊居志兰南京航空航天大学机电学院江苏南京210016 安徽工程大学机械与汽车工程学院安徽芜湖241000 上海航天控制技术研究所上海200233

开展了固结磨料研磨单晶蓝宝石面板的实验研究,探索了不同研磨液对材料去除速率和工件表面质量的影响。分析了研磨液对蓝宝石表面的化学作用,探索了固结磨料研磨蓝宝石晶体的材料去除机理。实验显示:使用W14镀镍金刚石固结磨料研磨蓝宝... 详细信息

开展了固结磨料研磨单晶蓝宝石面板的实验研究,探索了不同研磨液对材料去除速率和工件表面质量的影响。分析了研磨液对蓝宝石表面的化学作用,探索了固结磨料研磨蓝宝石晶体的材料去除机理。实验显示:使用W14镀镍金刚石固结磨料研磨蓝宝石单晶,研磨液仅为去离子水时,材料去除率(MRR)为149.8nm/min、表面粗糙度(Ra)为76.2nm;而研磨液中加入2%的乙二醇后,相应的MRR为224.1nm/min,Ra为50.7nm。用光电子能谱仪(XPS)分析了工件表面,结果表明含有乙二醇的研磨液能够增加蓝宝石工件表面的活性。得到的结果显示:在溶液中加入乙二醇有利于表面软化层的生成并增加蓝宝石表面的活性,说明研磨液对蓝宝石单晶研磨效率的提升和表面质量的改善具有促进作用。

关键词：固结磨料研磨液乙二醇蓝宝石晶片

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

研磨液对440c不锈钢磁力研磨效果的影响

电镀与涂饰 2015年第3期34卷 121-124,181页

作者：吴昊张桂香山东理工大学机械工程学院山东淄博255049

分别以46#机械油和煤油对440c不锈钢表面进行磁力研磨。通过正交试验对研磨加工的工艺参数进行优化,从表面粗糙度、基体质量损耗、三维表面形貌等方面对比研究了上述2种研磨液对不锈钢表面光整效果的影响。结果表明,以机械油为研磨液时... 详细信息

分别以46#机械油和煤油对440c不锈钢表面进行磁力研磨。通过正交试验对研磨加工的工艺参数进行优化,从表面粗糙度、基体质量损耗、三维表面形貌等方面对比研究了上述2种研磨液对不锈钢表面光整效果的影响。结果表明,以机械油为研磨液时的光整效果更好,磁力研磨的最佳工艺条件为:主轴转速2 500 r/min,加工间隙1.8 mm,进给速率60 mm/min,磨料填充量2.0 g。在最佳工艺条件下研磨后,工件的表面粗糙度由0.381μm降至0.032μm,大量毛刺和划痕得以去除,镜面效果良好。

关键词：不锈钢磁力研磨研磨液表面形貌粗糙度

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

氮化硅陶瓷球研磨液的机理研究

机械工程师 2023年第10期 17-19,23页

作者：张松林薛会民河北工程大学机械与装备工程学院河北邯郸056038

氮化硅陶瓷球是混合轴承中的关键元件,对于氮化硅陶瓷球的研磨加工,研磨液的选用是获得高质量加工表面的关键因素之一。文中简述了陶瓷球的特性和成球原理,理论分析了陶瓷球在研磨加工过程中的材料去除理论。对研磨液的成分及作用进行分... 详细信息

氮化硅陶瓷球是混合轴承中的关键元件,对于氮化硅陶瓷球的研磨加工,研磨液的选用是获得高质量加工表面的关键因素之一。文中简述了陶瓷球的特性和成球原理,理论分析了陶瓷球在研磨加工过程中的材料去除理论。对研磨液的成分及作用进行分析,对研磨液的作用机理进行分类,为配制氮化硅陶瓷球专用研磨液提供理论基础。

关键词：陶瓷球材料去除作用理论研磨液

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

二氧化铈研磨液在化学机械平坦化中的应用

半导体技术 2007年第8期32卷 657-660页

作者：许怀程秀兰上海交通大学微电子学院上海200030

当集成电路的特征尺寸小于0.25μm时,浅沟道隔离(STI)逐渐成为CMOS工艺器件隔离的标准工艺技术。相比较于硅石(silica)研磨液,二氧化铈(CeO2)研磨液由于其比较高的研磨速度、高的选择比和自动停止的特性,而广泛地应用于直接的浅沟道隔离... 详细信息

当集成电路的特征尺寸小于0.25μm时,浅沟道隔离(STI)逐渐成为CMOS工艺器件隔离的标准工艺技术。相比较于硅石(silica)研磨液,二氧化铈(CeO2)研磨液由于其比较高的研磨速度、高的选择比和自动停止的特性,而广泛地应用于直接的浅沟道隔离(DSTI)化学机械平坦化(CMP)工艺中。在简要介绍了CMP的一些基本知识后,着重介绍了CeO2研磨液的特性及其在直接的浅沟槽隔离化学机械平坦化(DSTI-CMP)中的应用。

关键词：二氧化铈研磨液浅沟道隔离直接浅沟道隔离化学机械平坦化

离子色谱法同时测定研磨液中氨三乙酸、柠檬酸和磷酸盐

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

分析试验室 2016年第11期35卷 1334-1337页

作者：冯顺卿陈钰欣姚骏骅中山大学测试中心广州510275

研究了研磨液中氨三乙酸、柠檬酸和磷酸盐的离子色谱-抑制电导测定方法。采用Ion Pac AS11(4 mm×250 mm)分析柱以及相应的保护柱Ion Pac AG11(4 mm×50 mm),以20 mmol/L Na OH:H2O梯度洗脱,流速1.00 m L/min,进样量25μL。氨三乙酸、... 详细信息

研究了研磨液中氨三乙酸、柠檬酸和磷酸盐的离子色谱-抑制电导测定方法。采用Ion Pac AS11(4 mm×250 mm)分析柱以及相应的保护柱Ion Pac AG11(4 mm×50 mm),以20 mmol/L Na OH:H2O梯度洗脱,流速1.00 m L/min,进样量25μL。氨三乙酸、柠檬酸和磷酸盐质量浓度与其峰面积具有良好的线性和重复性,相关系数均不低于0.999,其检出限分别为0.02,0.02和0.05 mg/L。方法适用于研磨液中氨三乙酸、柠檬酸和磷酸盐含量的测定。

关键词：离子色谱法研磨液氨三乙酸柠檬酸磷酸盐

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

硅片研磨表面状态的改善和研磨液的改进

半导体技术 2006年第10期31卷 758-761,765页

作者：张伟周建伟刘玉岭刘承霖河北工业大学微电子研究所天津300130

在硅片研磨过程中,由于应力的积累和剧烈的机械作用,硅片表面损伤严重,碎片率增加。介绍了一种改进的研磨液,不但把剧烈的机械作用转变为比较缓和的化学-机械作用,还能起到其他较好的辅助作用并对其各成分作用,进行了理论分析。硅片表... 详细信息

在硅片研磨过程中,由于应力的积累和剧烈的机械作用,硅片表面损伤严重,碎片率增加。介绍了一种改进的研磨液,不但把剧烈的机械作用转变为比较缓和的化学-机械作用,还能起到其他较好的辅助作用并对其各成分作用,进行了理论分析。硅片表面状态得到了一定程度的改善,提高了生产效率。

关键词：硅片研磨研磨液应力

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

高悬浮性β-SiC研磨液制备工艺研究

金刚石与磨料磨具工程 2012年第2期32卷 66-69页

作者：刘晓风邓丽荣陆树河王嘉博华小虎王晓刚西安科技大学材料科学与工程学院西安710054

碳化硅具有优异的磨削性能,但其研磨液悬浮性一直未得到改善。选用β-SiC微粉,通过沉降实验和显微观察,研究了增稠剂黏土和羧甲基纤维素钠,分散剂四甲基氢氧化钠和聚乙二醇,以及pH值对研磨液悬浮性的影响。结果表明:加入增稠剂可明显提... 详细信息

碳化硅具有优异的磨削性能,但其研磨液悬浮性一直未得到改善。选用β-SiC微粉,通过沉降实验和显微观察,研究了增稠剂黏土和羧甲基纤维素钠,分散剂四甲基氢氧化钠和聚乙二醇,以及pH值对研磨液悬浮性的影响。结果表明:加入增稠剂可明显提高研磨液的悬浮性,增稠剂和分散剂添加的顺序不同则对悬浮液性能影响不同。在黏土质量分数为3%,羧甲基纤维素钠质量分数为0.3%,pH=8时研磨液零沉降,悬浮性最好。

关键词：研磨液 β-SiC 悬净陛分散性

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

精密抛光研磨液的制备及性能研究

精密抛光研磨液的制备及性能研究

作者：夏培天津大学

学位级别：硕士

精密加工领域,油基研磨液不仅具有磨削去除作用,还具有清洗、润滑和防锈等性能;碳化硅具有低密度、高硬度、抗氧化的性能,是研磨制品中磨料的理想选择;关于油基研磨液制备和碳化硅磨具的研究很多,但是制备碳化硅油基磨削液的研究却鲜有... 详细信息

精密加工领域,油基研磨液不仅具有磨削去除作用,还具有清洗、润滑和防锈等性能;碳化硅具有低密度、高硬度、抗氧化的性能,是研磨制品中磨料的理想选择;关于油基研磨液制备和碳化硅磨具的研究很多,但是制备碳化硅油基磨削液的研究却鲜有报道。本文选用微米级α-SiC作为游离磨料制备高性能精密抛光研磨液,为解决粉体团聚问题,增强粉体疏水亲油性,粉体预处理后再用偶联剂KH550、KH570,改性剂Span 60分别进行粉体改性处理。文章还探讨了分散工艺,分散剂及其使用量等对浆料稳定性的影响。通过毛细管法和粘度法研究改性前后的亲油疏水性,利用XRD和FT-IR分别分析了改性前后SiC粉体的结构组成和表面结构,使用TG-DSC分析了包覆量的变化,还通过SEM观察了改性前后粉体的团聚程度以及研磨工件表面形貌的变化。通过抗氧化性测试确定最佳基础油的配比;通过正交试验和沉降试验确定最佳分散工艺与分散剂的选择。实验结果表明:当煤油与蓖麻油按照质量比为2:3混合时,具有氧化稳定性,且高剪切速率下粘度稳定;碱洗后的粉体因表面有机物和杂质去除明显,具有较好的悬浮性稳定性和较小的粘滞阻力;偶联剂处理方案中,KH570处理的粉体较KH550改性粉体,具有更好的亲油疏水性,改性后粉体分散均匀,无明显团聚;选用低HLB值的Span 60作为改性剂处理SiC微粉,Span 60改性的SiC粉体表面成功包覆改性基团,且改性后的SiC粉体分布均匀无团聚;双重包覆改性中,KH570和Span 60成功接枝包覆在SiC表面,双重包覆的SiC微粉具有比任何单一改性都要好的疏水亲油性。正交试验确定碳化硅粉体在基础油中的最佳分散工艺为:球磨时间4 h、转速600 r/min、料球比1:5;单一添加分散剂时,具有较长溶剂化链的超分散剂Tech-5080分散性最好;分散剂Tech-5080和非离子表面活性剂OP-7复配添加能够增强浆料的稳定性,当8%Tech-5080和5%OP-7进行复配使用,且预混时间为90 min时,浆料分散稳定性最好。所制备的研磨液具有良好的抗氧化性和研磨加工性能。

关键词： SiC 表面改性研磨液微观分析