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作者

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  • 3 篇 谢增华
  • 3 篇 宁提纲
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  • 3 篇 杨海蓉
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  • 25 篇 中文
检索条件"主题词=相位掩膜"
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相位掩膜特性对光纤光栅性能的影响
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中国激光 2002年 第10期29卷 915-919页
作者: 裴丽 宁提纲 谢增华 简水生 李唐军 延凤平 北方交通大学光波所 北京100044
介绍了相位掩膜特性对光纤光栅 (OFG)性能的影响。理论分析和实验均表明 ,相位掩膜版的性能直接影响到啁啾光纤光栅功率谱的平坦度以及时延波动的大小 ,由于时延波动是影响啁啾光栅色散补偿的一个重要因素 ,因此对掩膜版的性能要求必须... 详细信息
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相位掩膜生成光纤布拉格光栅的研究
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铁道学报 2001年 第3期23卷 58-61页
作者: 裴丽 江中澳 宁提纲 谢增华 简水生 北方交通大学光波技术研究所 北京100044
介绍了相位掩膜法制作光纤光栅的近场理论分析和相关实验。在最佳实验条件下 ,制作出高质量的啁啾光纤光栅 ,中心波长为 15 46 .9nm,带宽 0 .849nm,功率波动小于 1d B,时延波动小于 30 ps,用该光栅对 10Gb/ s,10 0 km G.6 5 2光纤的色... 详细信息
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循环-循环块相位掩膜矩阵压缩双透镜成像
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光电子.激光 2012年 第1期23卷 174-179页
作者: 张成 杨海蓉 沈川 韦穗 安徽大学计算智能与信号处理重点实验室 安徽合肥230039 合肥师范学院数学系 安微合肥230061
压缩成像(CI)是压缩传感(CS)理论的一个重要应用领域。本文在循环矩阵和分块矩阵的基础上提出一种新的循环-循环块相位掩膜矩阵可压缩双透镜成像方法,实现对图像的随机获取。模拟实验结果表明,新的相位掩膜矩阵CI可以在显著减少测量的同... 详细信息
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确定性相位掩膜可压缩双透镜成像
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光子学报 2011年 第6期40卷 949-954页
作者: 张成 杨海蓉 韦穗 安徽大学计算智能与信号处理重点实验室 合肥230039
压缩成像是压缩传感理论的一个重要应用领域.本文将确定性测量引入压缩成像,提出一种确定性相位掩膜可压缩双透镜成像方法.模拟实验结果表明,新的成像方法可以在显著地降低物理实现成本的同时,有效地捕获图像信息来重建原始图像.此方法... 详细信息
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托普利兹-循环块相位掩膜矩阵压缩成像
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光子学报 2011年 第9期40卷 1322-1327页
作者: 张成 杨海蓉 韦穗 安徽大学计算智能与信号处理重点实验室 合肥230039
在托普利兹和循环矩阵的基础上,提出一种新的托普利兹-循环块相位掩膜矩阵可压缩双透镜成像方法.模拟实验结果表明:新的相位掩膜矩阵压缩成像可以在显著减少测量的同时,有效地捕获图像信息来重建原始图像;新相位掩膜矩阵的研究为确定性... 详细信息
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相位掩膜成像中图像重聚焦方法研究
相位掩膜成像中图像重聚焦方法研究
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作者: 张颖 南京理工大学
学位级别:硕士
随着微纳光学和计算成像技术的快速发展,新兴的无透镜相位掩膜成像为小型化、轻薄化成像系统提供了新的解决方案,在显微镜、活体成像、虚拟/增强现实和物联网等领域展现出了很高的应用价值。相位掩膜成像摒弃了传统透镜成像中目标物体... 详细信息
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制备波导光栅的相位掩膜技术
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发光学报 1998年 第1期19卷 77-79页
作者: 马少杰 李燕 徐迈 林久令 中国科学院长春物理研究所 中国科学院激发态物理开放研究实验室
制备波导光栅的相位掩膜技术*马少杰李燕徐迈林久令(中国科学院长春物理研究所,长春130021)(中国科学院激发态物理开放研究实验室,长春130021)关键词光波导,光栅耦合器,全息光栅自从70年Dakss等人首次报道... 详细信息
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零级抑制相位掩膜法刻写偶氮苯聚合物亚微米表面起伏光栅的周期倍增现象
零级抑制相位掩膜法刻写偶氮苯聚合物亚微米表面起伏光栅的周期倍...
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2009年全国高分子学术论文报告会
作者: 武文轩 罗艳华 张其锦 中国科学技术大学高分子科学与工程系
<正>使用355nm紫外光透过零级抑制相位掩膜,在掩膜后直接对偶氮苯聚合物材料进行刻写,得到亚微米表面起伏薄膜光栅。监测光(氦氖激光,632.8nm)的衍射数据和原子力显微镜照片显示,在光栅的刻写过程中,固定刻写光功率,光栅形貌会随时... 详细信息
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相位掩模的近场衍射特性分析
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光子学报 2000年 第12期29卷 1100-1102页
作者: 贾宏志 李育林 忽满利 中国科学院西安光学精密机械研究所 西安710068
相位掩模法制造光纤光栅是一种简单、有效的方法 .本文用标量衍射理论对相位掩模的近场衍射特性进行了分析 ,讨论了各级衍射光形成的干涉条纹的分布情况 。
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248 nm KrF准分子激光零级抑制石英相位掩模器的研制
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中国激光 1997年 第7期24卷 623-626页
作者: 陈根祥 程美乔 葛璜 简水生 王圩 北方交通大学光波技术研究所 中国科学院半导体所国家光电子工艺中心
实验研制了针对波长248nmKrF准分子激光的零级抑制石英相位掩模器。用双层掩蔽和图形转移技术,在双面抛光的石英基片上以CHF3/O2为反应气体,用反应离子刻蚀技术制作了具有良好完整性、周期1.085μm的石英相位掩... 详细信息
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