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机构

  • 1 篇 西南交通大学
  • 1 篇 北京石油化工学院

作者

  • 1 篇 吴大兴
  • 1 篇 周海
  • 1 篇 李世直
  • 1 篇 徐翔
  • 1 篇 谢雁
  • 1 篇 黄午
  • 1 篇 杨洪顺
  • 1 篇 石玉龙
  • 1 篇 赵程

语言

  • 4 篇 中文
检索条件"主题词=直流等离子体化学气相沉积"
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直流等离子体化学气相沉积氮化钛及其应用
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青岛化工学院学报 1987年 第3期 1-7页
作者： 李世直 赵程 石玉龙 徐翔 黄午 谢雁 杨洪顺
本文报道中试规模的直流等离子体化学气相沉积氮化钛(PCVDTiN)工艺及设备。设备外形尺寸为φ700×700mm,有效镀膜区为φ450×500mm。在此区域内,温度不均匀性小于20℃,TiN膜厚不均匀性小于15％。对TiN膜的硬度、生长速率、显微组织、晶... 详细信息
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最新文摘
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引用
中国机械工程 1996年 第6期 113-115页
最新文摘计算机辅助平面连杆机构运动分析陈明等　在ＩＩ级杆组的基础上．建立了４个基本连杆函数．井给出了１１个子程序，平面连杆机构的运动分析就归结为调用这些子程序。梯形螺纹车刀　叶伟昌等介绍梯形螺纹车刀顶刃宽度尺寸、两侧... 详细信息
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综合信息
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材料保护 2006年 第4期39卷 9-9页
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对DC-PCVD装置沉积Si_3N_4薄膜机理的研究
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引用
北京石油化工学院学报 1997年 第1期5卷 57-61页
作者： 周海 吴大兴 北京石油化工学院机械工程系 北京102600 西南交通大学材料系 成都610031
使用直流等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)装置,控制合适的工艺参数可对置于其阴阳极上的试样沉积出以Si_3N_4为主要成分的薄膜,本文提出了在阴极以及阳极上都能使试样表面得到这种薄膜的机制模型。正电荷的积累和自由电子的质扩散对于阴... 详细信息
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