检索结果-南通市图书馆

择优取向MgO在Si衬底上的直流溅射制备及其性能表征

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

物理学报 2009年第7期58卷 5007-5012页

作者：傅兴海尹伊张磊叶辉浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州310027

采用直流磁控溅射并通过优化工艺参数,在(100)Si衬底上成功制备了高度(100)择优的MgO薄膜和MgO/TiN双层膜结构.对(100)MgO择优取向温度影响机理做了详细讨论,并利用XRD,AFM,FESEM等手段研究了在(100)Si和(100)TiN/Si两种衬底上,不同工... 详细信息

采用直流磁控溅射并通过优化工艺参数,在(100)Si衬底上成功制备了高度(100)择优的MgO薄膜和MgO/TiN双层膜结构.对(100)MgO择优取向温度影响机理做了详细讨论,并利用XRD,AFM,FESEM等手段研究了在(100)Si和(100)TiN/Si两种衬底上,不同工艺条件下MgO薄膜的表面和断面微观结构,表征了MgO薄膜的柱状生长结构和与TiN薄膜的良好外延关系.在对薄膜光学特性的研究中,利用Sellmeier模型获得了Si上MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(550 nm处折射率为1.692),利用非均匀模型获得了TiN/Si衬底上的MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(靠近空气层的薄膜在550nm处折射率为1.716).

关键词： MgO薄膜择优取向直流溅射折射率拟合

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能

金属热处理 2008年第8期33卷 64-66页

作者：蔡羽仝俊利张宏斌赵胜利祝要民河南科技大学信息管理研究所河南洛阳471003 河南科技大学材料科学与工程学院河南洛阳471003

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。结果表明,在400～500℃退火温度下制备了... 详细信息

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。结果表明,在400～500℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜;随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整;其中,500℃下退火2h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。

关键词：氧化镍薄膜直流溅射电化学性能

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射电致变色NiO_xH_y膜的研究

发光学报 1996年第1期17卷 56-63页

作者：丘思畴戴进吴正华黄汉尧华中理工大学固体电子学系

采用直流溅射Ｎｉ（ＯＨ）２粉末压实靶制作了电致变色膜．介绍了制膜工艺，用ＸＲＤ谱研究了着色前、后膜的结构，ＸＰＳ谱研究Ｎｉ、Ｏ的结合．谱响应特性和电化学特性表明，膜的电色活性良好．

关键词：电致变色直流溅射 NiOxHy膜

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射法制备电致变色WO_3膜

发光学报 1994年第2期15卷 127-135页

作者：丘思畴黄汉尧舒兴胜徐彦忠华中理工大学固体电子学系

采用ＷＯ３陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜．介绍了制膜工艺．分析测试表明，膜有无定形结构；除有正常成分ＷＯ３外，还含有来自衬底及反应室内的微量杂质．电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明，膜的电色活性良好．还对实验结... 详细信息

采用ＷＯ３陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜．介绍了制膜工艺．分析测试表明，膜有无定形结构；除有正常成分ＷＯ３外，还含有来自衬底及反应室内的微量杂质．电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明，膜的电色活性良好．还对实验结果作了理论分析．

关键词：电致变色直流溅射氧化钨薄膜

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射法制备电致变色NiO_x膜

科学通报 1994年第10期39卷 896-898页

作者：丘思畴戴进黄汉尧徐彦忠华中理工大学固体电子学系武汉430074

材料在外电场或电流的作用下,发生可逆的色彩变化叫电致变色(Electrochromic)现象.电致变色材料在大面积显示、调光囱户(Smart window)以及信息的(彩色的和连续的)贮存等领域,有很好的应用前景.目前研究的重点是若干过渡金属氧化物及其... 详细信息

材料在外电场或电流的作用下,发生可逆的色彩变化叫电致变色(Electrochromic)现象.电致变色材料在大面积显示、调光囱户(Smart window)以及信息的(彩色的和连续的)贮存等领域,有很好的应用前景.目前研究的重点是若干过渡金属氧化物及其水合物的电化学变色性(Electrochemichromism),其工作模式是:将这些材料制成覆盖在导电(透明)衬底上的薄膜,并成为电池的一个电极,给电极施加电压后,薄膜两侧同时分别注入(或抽取)

关键词：电致变色直流溅射氧化镍薄膜

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射沉积氧化镍薄膜及结构表征

真空 2009年第1期46卷 30-32页

作者：张宏斌祝要民赵胜利河南科技大学材料科学与工程学院河南洛阳471003

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDX）考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响，并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。研究结果表明，在400℃-500℃退... 详细信息

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDX）考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响，并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。研究结果表明，在400℃-500℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜；随着退火温度的升高，薄膜的晶粒尺寸逐渐增大，晶形趋于完整；其中，500℃下退火2h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性，有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。

关键词：氧化镍薄膜直流溅射

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射法制备YBCO带材研究

直流溅射法制备YBCO带材研究

作者：韩晓电子科技大学

学位级别：硕士

相对于第一代的Bi系高温超导带材,第二代钇系超导带材具有交流损耗低、性价比高以及在磁场下载流能力强等优点,在工业上具有广阔的应用前景,是高温超导带材的发展方向。由于直流溅射具有方法简单、易于控制以及工艺重复性好等特点,本论... 详细信息

相对于第一代的Bi系高温超导带材,第二代钇系超导带材具有交流损耗低、性价比高以及在磁场下载流能力强等优点,在工业上具有广阔的应用前景,是高温超导带材的发展方向。由于直流溅射具有方法简单、易于控制以及工艺重复性好等特点,本论文基于直流溅射法在制备有CeO2/YSZ/CeO2(CYC)过渡层的镍钨合金(Ni-5at.%W)基带上开展YBCO涂层导体的制备研究。主要内容如下:1.针对传统倒筒靶溅射速率慢的问题,本论文中采用平面靶溅射提高薄膜沉积速率。通过对低溅射气压和高溅射气压,以及基片与靶同轴和基片旋转等不同条件下制备的YBCO涂层导体的研究发现,提高溅射气压和旋转基片两种方法结合可以很好的消除平面靶负离子反溅射效应。2.采用平面靶直流溅射法制备YBCO涂层导体,研究了基片温度和溅射气氛对薄膜结构、表面形貌以及性能的影响,其最佳工艺条件为加热温度650℃,总压75Pa,氧氩比为1:2。在此条件下制备的薄膜为c轴单一取向,面内外半高宽分别为5.2°和3.5°,Jc为0.75 MA/ cm2。3.为了实现带材的连续制备,本论文对卷绕方式制备YBCO涂层导体进行了初步研究。通过增加薄膜厚度可以提高承载电流的能力,但厚度的增加会导致YBCO薄膜临界电流密度降低,采用多层膜制备方法可优化薄膜结构和性能。实验发现,在YBCO薄膜超过一定厚度时,薄膜的临界电流密度随厚度的增加而降低。通过对比实验结果,我们验证了采用多层膜制备方法能使薄膜的结构、表面和性能得到优化,其中4层的YBCO薄膜表面均方根粗糙度小于10nm,Jc为0.13 MA/ cm2,此方法的工艺条件有待进一步优化。

关键词： YBCO高温超导带材直流溅射平面靶多层结构

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射法制备YBCO带材研究

直流溅射法制备YBCO带材研究

作者：肖山电子科技大学

学位级别：硕士

YBCO高温超导带材具有优异的电学性能,它具有在外场下临界电流高,交流损耗低以及成本较低等优点,在工业应用中有非常大的潜力,所以各国都投入了巨大的人力物力进行研究。直流溅射具有方法简单、易于控制以及工艺重复性好等特点,本文基... 详细信息

YBCO高温超导带材具有优异的电学性能,它具有在外场下临界电流高,交流损耗低以及成本较低等优点,在工业应用中有非常大的潜力,所以各国都投入了巨大的人力物力进行研究。直流溅射具有方法简单、易于控制以及工艺重复性好等特点,本文基于直流溅射法研究了Y2O3种子层薄膜的制备工艺,并且在制备有Y2O3/YSZ/CeO2 (YYC)缓冲层的镍钨合金(Ni-5at.%W)基带上制备YBCO涂层导体进行了研究,还对YBCO薄膜的磁通钉扎特性也做了初步探讨。主要内容如下:1、根据c轴择优度和温度的关系以及反应溅射特有的迟滞效应,得出当温度为720℃,溅射电流为0.2A,水分压为0.016Pa,反应溅射处于平衡状态,制备出Y2O3种子层薄膜纯c轴取向,且面内面外半高宽为3.9°和4.9°。2、在Y2O3/YSZ/CeO2(YYC)缓冲层上制备YBCO涂层导体,发现缓冲层表面粗糙度对YBCO薄膜的性能有很大的影响,分别在反应溅射法和射频溅射法制备YYC缓冲层上以相同的工艺制备YBCO薄膜,两种缓冲层都是纯c轴取向,面内面外取向一致性相当,但反应溅射法制备的缓冲层粗糙度明显大于射频溅射制备的,在前者上制备的YBCO薄膜临界电流密度Jc为1.2 MA/cm2,而在后者基础上制备的YBCO薄膜的临界电流密度Jc达到2.8 MA/cm2。3、探讨了用卷绕法在平面靶直流溅射装置上连续制备YBCO带材的工艺,780℃为卷绕法制备YBCO薄膜的适宜温度,由于平面靶的负离子反溅射效应较为明显,综合考虑靶基距和气体总压,并且通过改变卷绕速度,补偿由于负离子反溅射效应导致的成分偏差,在靶基距为20mm,气体总压为70Pa,卷绕速度为0.55m/h时,临界电流密度达到0.6MA/cm2。4、研究了YBCO超导薄膜在磁场下的性能变化,首先在65K和77K的温度下,外加0-2T的磁场下对未掺杂的YBCO薄膜的性能进行测试,磁场方向垂直于基片表面,温度越低,YBCO薄膜的性能随磁场强度的增大下降的趋势越弱,然后我们还用Y过量的靶制备了富Y的YBCO薄膜,由于Y2O3在YBCO薄膜中形成钉扎中心,其在磁场下的性能明显优于未掺杂的YBCO薄膜。

关键词：直流溅射涂层导体平面靶钉扎中心

直流溅射法快速制备YBCO高温超导薄膜的研究

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

直流溅射法快速制备YBCO高温超导薄膜的研究

作者：朱昌伟电子科技大学

学位级别：硕士

YBa2Cu3O7-x(YBCO)高温超导薄膜在各个领域有着广泛应用。在大面积YBCO薄膜的制备中,膜厚均匀性、电学均匀性是首先考虑的问题。本文从提高薄膜沉积速率以及膜厚均匀性出发,设计了多工位盒型靶直流溅射系统。具体研究可以分为以下几点:1... 详细信息

YBa2Cu3O7-x(YBCO)高温超导薄膜在各个领域有着广泛应用。在大面积YBCO薄膜的制备中,膜厚均匀性、电学均匀性是首先考虑的问题。本文从提高薄膜沉积速率以及膜厚均匀性出发,设计了多工位盒型靶直流溅射系统。具体研究可以分为以下几点:1.多工位盒型靶直流溅射镀膜系统的设计:对单轴驱动双轴旋转的驱动方式进行分析,发现靶基距过大是其沉积速度低下的主要因素。通过改进,将驱动方式改为转盘式驱动,可以将靶基距降低到很小,大大提高薄膜的沉积速率。采用独特结构的盒型靶,使基片在很小的靶基距下也能有效降低负离子反溅射的损害,保证了薄膜的质量。2.用数学软件Matlab对该系统的膜厚分布进行仿真与计算,对基片动态和静态下膜厚分布进行对比,对靶基距、压强、基片公转自转速度比等因素对膜厚分布的影响进行仿真,旨在提出解决膜厚分布均匀性的具体方案。将实验数据与仿真数据进行对比,对仿真模型进行修改,旨在用仿真数据来指导实际的方案设计。3.分析了温度、压强、薄膜厚度、退火方式、基片公转速度等对薄膜结构的影响,得到了电学性能良好的薄膜。在多工位盒型靶直流溅射镀膜系统中,薄膜沉积速率提高了4倍以上。同时在两英寸基片上获得了面内起伏小于3%的薄膜,并提出了有效解决大面积薄膜均匀性的具体方案。根据多工位盒型靶直流溅射系统独特的设计和构造,提出了切实可行的提高薄膜质量的方法。在LaAlO3(LAO)单晶基片上获得了临界电流密度Jc≥2.5 MA/cm2(77 K 0 T 500 nm)的YBCO薄膜。微波表面特性满足微波器件的要求。

关键词： YBCO薄膜直流溅射快速制备膜厚均匀性高临界电流密度