检索结果-南通市图书馆

电镀与涂饰 2022年第3期41卷 172-175页

作者：李洪高岳郭阳张必良刘兵喻翔重庆建设工业(集团)有限责任公司重庆400054

为解决步枪身管内膛镀厚铬质量难把控的难题,提出了流动镀铬新工艺,探讨了流速、阳极供电方式等工艺条件对流动镀铬的影响。结果表明:采用双端电流强制均匀法的流动镀铬工艺能有效解决镀后锥差大、“腰鼓”等缺陷问题,镀后铬层尺寸的一... 详细信息

为解决步枪身管内膛镀厚铬质量难把控的难题,提出了流动镀铬新工艺,探讨了流速、阳极供电方式等工艺条件对流动镀铬的影响。结果表明:采用双端电流强制均匀法的流动镀铬工艺能有效解决镀后锥差大、“腰鼓”等缺陷问题,镀后铬层尺寸的一致性较好,身管一次镀铬合格率由原来的30%提高到了90%。

关键词：身管内膛厚铬镀层流动镀阳极电流均匀性

来源：

维普期刊数据库

同方期刊数据库博看期刊评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Overhauser磁力仪性能完善与评价的研究

Overhauser磁力仪性能完善与评价的研究

引用

作者：高琳吉林大学

学位级别：硕士

Overhauser磁力仪是一种基于动态核极化效应(Dynamic Nuclear Polarization,DNP)测量总磁场的标量磁力仪,具有高灵敏度、高采样率、低功耗等特点,广泛应用于火山学、地震预测、军事探测、考古调查等领域。本课题组已经研制出JOM第四代Ov... 详细信息

Overhauser磁力仪是一种基于动态核极化效应(Dynamic Nuclear Polarization,DNP)测量总磁场的标量磁力仪,具有高灵敏度、高采样率、低功耗等特点,广泛应用于火山学、地震预测、军事探测、考古调查等领域。本课题组已经研制出JOM第四代Overhauser磁力仪,并研制出新型工作物质,可以在低温条件下正常工作。本文首先介绍了磁力仪的分类和Overhauser磁力仪国内外研究状况,阐述了Overhauser磁力仪的工作原理、系统组成以及实现测试磁场的过程,分析完善了系统性能。从传感器谐振腔、系统幅频特性、系统噪声三个方面对系统性能进行研究,设计的谐振腔Q值可以达到1100,并讨论腔体上电流分布的均匀性;研究调谐电容对谐振电路幅频特性的影响,实际测试信号调理电路的幅频特性与理论进行对比;结合系统噪声模型分析噪声系数与源阻抗之间的关系,测试系统中实际的电压噪声与电流噪声值,得到系统实际的噪声系数。此外将射频激励信号的功率设置为1W,在吉林大学校园内测试传感器中使用新型工作溶液时仪器所接收到的拉莫尔信号,并测试噪声,信噪比可以达到83:1。最后,对系统的性能指标展开实验探究。对于灵敏度指标,使用同步测量法与四阶差分法相结合得到灵敏度估计,在不同电磁干扰环境使用同步法与梯度法进行灵敏度估计,总体上同步法与梯度法的灵敏度估计相差无几,使用梯度仪器进行不同快速测量周期下的灵敏度实验;在室内实验探究了JOM-4型Overhauser磁力仪存在的漂移问题,漂移在±0.01n T之间,漂移足够小,可以忽略;探究了新型工作溶液组成的JOM-4型Overhauser磁力仪系统在不同磁场强度不同梯度下的测磁效果;介绍了绝对精度的影响因素,提出绝对精度的一种评价方法,优化频率测量方法,提高了JOM-4型Overhauser磁力仪主机的绝对精度。

关键词： Overhauser磁力仪电流均匀性幅频特性噪声系数信噪比灵敏度漂移绝对精度

来源：

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

先进工艺中器件饱和电流的稳定性

先进工艺中器件饱和电流的稳定性

引用

作者：范呈丰上海交通大学

学位级别：硕士

随着半导体器件工艺的不断发展，除了众多器件性能，可靠性方面的考虑，工作电流的稳定性同样成为了不可忽视的因素。因为随着器件尺寸的不断减小，工艺制造上由于本身所带有的误差对器件的影响比例越来越大，所以在先进工艺制造中，客... 详细信息

随着半导体器件工艺的不断发展，除了众多器件性能，可靠性方面的考虑，工作电流的稳定性同样成为了不可忽视的因素。因为随着器件尺寸的不断减小，工艺制造上由于本身所带有的误差对器件的影响比例越来越大，所以在先进工艺制造中，客户对于工作电流的限定要求越来越高，而到了45nm这个节点，器件工作的电流稳定性已经成为了客户在量产前所必须认可的指标之一。在集成电路制造的集成电路工艺过程中，由于工艺制程本身所存在的误差，导致在设计上原本应该是完全相同的器件在实际测试中会看到比较大的差别，本文通过对工艺制造中各个环节的优化，使得最终器件的工作电流稳定性得到显著的改善。第一章叙述了CMOS发展里程，发展趋势，以及目前发展所面临的挑战;第二章介绍了在Poly光刻时使用浸入式机台所自带的dose map功能来实现对一片晶圆每一个芯片使用不同的能量，以此来补偿不同芯片之间CD存在的差异，从而最终达到提高器件在一片晶圆中的工作电流稳定性;第三章又通过使用氮和碳离子注入来抑制其他注入离子在热处理时的扩散，最终达到提高器件工作电流稳定性的效果;第四章采用低温离子注入工艺，极大地降低离子注入时的温度，来增加非晶化层的厚度，并且减小非晶化离子注入时对于晶圆表面的损伤，从而提高轻掺杂注入的均匀性，最终达到提高器件工作电流的稳定性;第五章对先进工艺中电流不稳定性的进一步探讨，主要针对机理以及对于先进工艺中出现的随机离子波动作出合理的假设和验证;最后第六章作全文总结。

关键词：电流均匀性 dose map N&C Co-IMP 低温离子注入随机离子波动

来源：

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

在线全文

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

在线全文

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：