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机构

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  • 1 篇 上海化工研究院
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  • 1 篇 西安理工大学
  • 1 篇 合肥工业大学
  • 1 篇 中国科学技术大学

作者

  • 3 篇 赵立华
  • 3 篇 张志明
  • 3 篇 孙方宏
  • 3 篇 杨巧勤
  • 3 篇 陈本敬
  • 2 篇 王鸿
  • 2 篇 苏玉长
  • 2 篇 杜海清
  • 2 篇 沈荷生
  • 2 篇 王秀琼
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  • 2 篇 沈彬
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语言

  • 26 篇 中文
检索条件"主题词=热丝CVD法"
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热丝cvd法金刚石薄膜宏观内应力分析
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矿冶工程 1998年 第3期18卷 67-69页
作者: 赵南方 杨巧勤 赵立华 李德意 肖汉宁 中南工业大学粉末冶金研究所 湖南大学材料测试研究中心
研究了CVD金刚石薄膜本征内应力随甲烷的体积分数(04%~12%)、生长温度(800℃~1000℃)等生长工艺参数的变化关系。在所研究的工艺参数范围内,金刚石薄膜的本征内应力为拉应力。拉应力值随着碳源浓度的... 详细信息
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热丝cvd法高速生长金刚石膜研究
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硅酸盐学报 1996年 第4期24卷 476-480页
作者: 赵立华 杨巧勤 李绍禄 苏玉长 陈本敬 杜海清 湖南大学材料测试研究中心
使用CVD研究了碳源种类、氧气含量、灯温度、基底与灯间距离及异常辉光放电等对金刚石膜生长速度的影响,在此研究的基础上,优化工艺参数,使CVD生长金刚石膜的速度提高到20μm/h。
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热丝cvd法沉积金刚石薄膜用灯研究现状及改进
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磨料磨具通讯 2006年 第2期 10-14,9页
作者: 孙心瑷 周灵平
化学气相(cvd沉积全刚石具有其它沉积方所无比拟的优势而受到重视,然而在高温沉积过程中灯容易发生形变和挥发所带来的“污染”影响了金刚石沉积膜的质量,本文就中三种常用灯(钨、钼和铼)的高温行为... 详细信息
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热丝cvd法金刚石膜生长速度研究
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炭素 1995年 第2期 13-17页
作者: 杨巧勤 赵立华 李绍禄 苏玉长 陈本敬 王秀琼 杜海清 湖南大学材料测试研究中心
本文使用CVD着重研究了基底表面的处理、工作气压、碳化物的含量、基底温度、灯温度以及基底与灯间距离等对金刚石膜生长速度所产生的影响,并在以上研究的基础上采取措施,优化工艺参数。
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采用热丝cvd法在多种基材上沉积金刚石薄膜
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表面技术 1998年 第1期27卷 5-7页
作者: 苏革 黄荣芳 闻立时 成会明 中国科学院金属研究所
是一种比较成熟的气相合成金刚石膜的方,与其它方比较,在工艺参数对金刚石薄膜的结构和质量的影响、界面的形成、薄膜生长各阶段的特征等方面的基础研究及各种应用研究上有其独特的优越性.木文采用在SiC晶须增强S... 详细信息
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基于电沉积过渡层沉积cvd金刚石薄膜的研究
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人工晶体学报 2004年 第1期33卷 13-17页
作者: 卢文壮 左敦稳 王珉 黎向锋 徐锋 南京航空航天大学机电学院 南京210016
在硬质合金的Cu、Ni、Cr电沉积过渡层上采用热丝cvd法沉积出金刚石薄膜。利用SEM和Raman对金刚石薄膜进行了研究,对影响膜基结合强度的因素进行了分析,利用压痕对金刚石薄膜与基体的结合强度进行了检验。结果表明,在Cr过渡层上沉积的... 详细信息
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cvd金刚石薄膜涂层整体式刀具的制备与应用
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金刚石与磨料磨具工程 2011年 第1期31卷 1-5页
作者: 沈彬 孙方宏 张志明 沈荷生 郭松寿 上海交通大学机械与动力工程学院 上海200240 上海交友钻石涂层有限公司 上海200240
化学气相沉积(chemical vapor deposition,cvd)金刚石薄膜具有硬度高、摩擦系数低、耐磨性强以及表面化学性能稳定等优异的机械及摩擦学性能,这使其在硬质合金工模具领域具有广阔的应用前景。本文采用化学气相沉积(hot filament c... 详细信息
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cvd金刚石涂层煤液化减压阀关键部件的制备
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金刚石与磨料磨具工程 2011年 第6期31卷 20-24页
作者: 王新昶 孙方宏 沈彬 彭东辉 张志明 上海交通大学机械与动力工程学院 上海200240 上海化工研究院 上海200062 上海交友钻石涂层有限公司 上海200240
煤液化减压阀的工作条件非常苛刻,对其阀座、阀芯等关键部件在高温、高压差、高固态浓度流体冲蚀条件下的抗冲蚀磨损性能及使用稳定性提出了极高的要求。cvd金刚石涂层具有接近天然金刚石的优异性能,非常适合用于煤液化减压阀关键部件... 详细信息
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沉积气压对cvd金刚石涂层质量的影响
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金刚石与磨料磨具工程 2013年 第5期33卷 1-4页
作者: 邓福铭 邹波 刘畅 杨俊杰 中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所 北京100083
沉积气压对cvd金刚石涂层沉积的质量有着重要的影响。实验采用单一变量,在其他工艺参数一定的条件下,考察了不同沉积气压下涂层的质量。利用扫描电镜、Raman光谱仪、洛氏硬度计分别对样品的表面形貌、成分、涂层结合力进行测定。结果... 详细信息
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用原位光发射谱研究电子增强cvd金刚石膜生长过程
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中国科学(A辑) 1996年 第11期26卷 1038-1043页
作者: 崔景彪 马玉蓉 方容川 中国科学技术大学物理系 结构分析开放实验室合肥230026
利用光发射谱对电子增强cvd金刚石薄膜的生长过程进行了原位检测,并实现空间分辨测量,系统地研究了衬底偏压、甲烷浓度、衬底温度等反应条件对原位光发射谱的影响,给出了有关反应基团空间分布及电子能量状态等对金刚石生长极其重要... 详细信息
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