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溅射腐蚀

半导体技术 1976年第1期 89-89页

目前,以集成电路为代表的微电子学器件用的微细图形,都是由以照相和化学腐蚀相结合的光刻技术制得的。但是随着图形的进一步微细化,在许多情况下要实现高精度的腐蚀很困难。由于水溶液容易使腐蚀表面氧化。化学药品的水溶液又会产生公害... 详细信息

目前,以集成电路为代表的微电子学器件用的微细图形,都是由以照相和化学腐蚀相结合的光刻技术制得的。但是随着图形的进一步微细化,在许多情况下要实现高精度的腐蚀很困难。由于水溶液容易使腐蚀表面氧化。化学药品的水溶液又会产生公害,这些构成了化学腐蚀的弱点。一种可以克服化学腐蚀上述弱点的方法是溅射腐蚀。由于这种方法利用离子轰击和活泼的氟化乙稀气体等离子体的化学反应来进行溅射腐蚀的,对于用其它方法很难腐蚀的物质,它都可实现高精度腐蚀,溅射腐蚀的优点是(1)可以对亚微米图形进行极稳定的腐蚀。(2)对铝的腐蚀速度较快。(3)可以腐蚀用化学药品很难腐蚀的二氧化硅和氧化铝等。(4)不会产生公害。溅射腐蚀后的样品表面,经俄歇电子分析没有发现C和Ce原子,这证明腐蚀非常干净,溅射腐蚀用于半导体器件制作工艺最担心的是对器件的损伤,但在制作对轰击损伤非常敏感的MOS器件时,器件的性能同采用化学腐蚀的场合完全相同。溅射腐蚀最有代表性的应用实例是制作集成电路掩膜。它既可满足高密度又可满足高精度的要求,因此是一种腐蚀加工微细图形的有效方法,也必将成为半导体工业中一种不可缺少的重要技术。

关键词：溅射腐蚀弱点化学腐蚀微细图形化学药品公害光刻技术

基于半经验模型的霍尔推力器壁面腐蚀形貌预测方法研究

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推进技术 2019年第11期40卷 2626-2632页

作者：吴楠毛威沈岩胡鹏扈延林北京控制工程研究所

为了研究霍尔推力器通道壁面溅射腐蚀对于推力器寿命的影响,针对霍尔推力器通道壁面溅射腐蚀演化过程,建立了预测推力器腐蚀形貌的半经验模型。该模型根据试验测量形貌数据,反推离子源模型,结合腐蚀速率公式,对霍尔推力器的壁面形貌进... 详细信息

为了研究霍尔推力器通道壁面溅射腐蚀对于推力器寿命的影响,针对霍尔推力器通道壁面溅射腐蚀演化过程,建立了预测推力器腐蚀形貌的半经验模型。该模型根据试验测量形貌数据,反推离子源模型,结合腐蚀速率公式,对霍尔推力器的壁面形貌进行演化预测。分别以SPT-100,T-220及KM-45短时间的壁面形貌作为输入条件,对不同功率量级推力器的壁面腐蚀过程、预测误差和腐蚀速率进行了研究。数值模拟结果表明,对于10kW级T-220,1kW级SPT-100以及百瓦级KM-45推力器,壁面形貌的平均误差分别为2.65%,2.88%和3.64%。推力器壁面形貌的预测结果与实际测量值基本一致,该模型可用于霍尔推力器壁面形貌预测以及寿命预估。

关键词：霍尔推力器半经验模型溅射腐蚀腐蚀速率

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溅射腐蚀(离子腐蚀)

微纳电子技术 1972年第2期 78-79页

作者：何滨

溅射制取薄膜的过程是把薄膜基片置于靶侧,由于离子的轰击,薄膜就飞散消失了。用此原理,若把绘有抗蚀剂图形的薄膜置于靶侧,因此也完全能够形成薄膜图象。在溅射腐蚀中,一般采用射频(RF)法。而直流(DC)法,由于光致抗蚀剂带电导致不能形... 详细信息

溅射制取薄膜的过程是把薄膜基片置于靶侧,由于离子的轰击,薄膜就飞散消失了。用此原理,若把绘有抗蚀剂图形的薄膜置于靶侧,因此也完全能够形成薄膜图象。在溅射腐蚀中,一般采用射频(RF)法。而直流(DC)法,由于光致抗蚀剂带电导致不能形成精细的线条。射频溅射腐蚀法的特点归纳如下:

关键词：光致抗蚀剂光刻胶抗腐蚀离子腐蚀溅射腐蚀

GEO卫星霍尔推力器羽流防护结构混合PIC模拟

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中国空间科学技术 2016年第1期36卷 63-69页

作者：刘辉罗晓明温正王珏于达仁哈尔滨工业大学哈尔滨150001 中国空间技术研究院通信卫星事业部北京100094

霍尔推力器应用于GEO卫星时,羽流会对太阳能翼板表面高透光玻璃盖片产生一定的影响,导致太阳能电池整体输入功率降低。因此,有必要针对羽流的影响对翼板表面进行一定的防护。在对目前国内外羽流安全性评估及防护方面的工作进行一定调研... 详细信息

霍尔推力器应用于GEO卫星时,羽流会对太阳能翼板表面高透光玻璃盖片产生一定的影响,导致太阳能电池整体输入功率降低。因此,有必要针对羽流的影响对翼板表面进行一定的防护。在对目前国内外羽流安全性评估及防护方面的工作进行一定调研的基础上,针对SPT100应用于典型的GEO轨道卫星时的情况,利用SPIS软件运用混合单元粒子(PIC)方法模拟了两种可能的太阳能翼板羽流防护方案,并分析比较了每种方案的优缺点及防护效果,为推力器在轨飞行时的羽流防护提供一定的借鉴。

关键词：霍尔推力器 SPIS 溅射腐蚀羽流模拟羽流防护

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用超声焊接和溅射腐蚀法制作超声换能器

激光与红外 1974年第11期 13-15页

作者：内田直也他一平

前言高效率产生频带百兆赫到千兆赫的超声波的技术,对制作优质的声学器件和声光器件是必不可少的。因此,已进行了若干次试验,而至今其中获得最成功的是:利用薄膜换能器和兼用本文所要叙述的超声焊接法和溅射腐蚀法制成的高频单晶换能器... 详细信息

前言高效率产生频带百兆赫到千兆赫的超声波的技术,对制作优质的声学器件和声光器件是必不可少的。因此,已进行了若干次试验,而至今其中获得最成功的是:利用薄膜换能器和兼用本文所要叙述的超声焊接法和溅射腐蚀法制成的高频单晶换能器。前者由于材料上的限制,尤其象声光器件那样,需要

关键词：超声焊接超声波千兆赫金属频带超声应用电磁波金属材料频程高频换能器变幅杆溅射腐蚀

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半导体、绝缘体和导体的溅射腐蚀工艺

微电子学 1972年第Z1期 126-127页

作者：益民

溅射腐蚀又可称为逆溅射、反溅射,离子腐蚀、溅射清洗等,这一工艺可广泛地用于半导体、绝缘体和导体材料,特别适用于多层布线的集成电路工艺、浅结工艺非常有用。溅射腐蚀的优点为。1.一般的化学腐蚀,在腐蚀窗总要产生钻蚀或侧向腐蚀,... 详细信息

溅射腐蚀又可称为逆溅射、反溅射,离子腐蚀、溅射清洗等,这一工艺可广泛地用于半导体、绝缘体和导体材料,特别适用于多层布线的集成电路工艺、浅结工艺非常有用。溅射腐蚀的优点为。1.一般的化学腐蚀,在腐蚀窗总要产生钻蚀或侧向腐蚀,而溅射腐蚀穿过抗蚀剂窗孔可作垂直壁腐蚀。2.在浅结工艺中,可以达到只腐蚀几埃的深度要求,做到可控,这在化学腐蚀中,或者是办不到,亦或达不到可控要求。3.不需用化学腐蚀剂就达到腐蚀目的。4.可以作小孔的深腐蚀。5.这种技术还可用于作表

关键词：射频溅射阳极溅射室溅射腐蚀绝缘体

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石墨触持极空心阴极性能实验研究

真空与低温 2017年第2期23卷 87-91页

作者：杨威张天平冯杰王倩楠刘明正谷增杰兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室兰州730000

空心阴极触持极溅射腐蚀会导致离子推力器性能退化甚至失效,为确保离子推力器长期工作性能稳定性,触持极材料应选用溅射腐蚀速率尽可能低的材料。开展不同触持极结构对空心阴极放电性能的影响研究。最后,进行了1 000 h短期地面寿命实验... 详细信息

空心阴极触持极溅射腐蚀会导致离子推力器性能退化甚至失效,为确保离子推力器长期工作性能稳定性,触持极材料应选用溅射腐蚀速率尽可能低的材料。开展不同触持极结构对空心阴极放电性能的影响研究。最后,进行了1 000 h短期地面寿命实验。实验结果表明,石墨触持极空心阴极放电性能稳定,长期工作触持极表面的溅射腐蚀不明显,能够有效避免空心阴极长时间工作后因触持极溅射腐蚀导致的性能退化。

关键词：离子推力器空心阴极触持极高密度石墨溅射腐蚀放电性能

稳态等离子推进器通道壁面材料特性及腐蚀寿命问题分析

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稳态等离子推进器通道壁面材料特性及腐蚀寿命问题分析

中国宇航学会深空探测技术专业委员会第一届学术会议

作者：于达仁李玉全宁中喜毛威王春生哈尔滨工业大学能源科学与工程学院

在深空探测应用背景下,飞行器的推进装置要求具有更高的寿命和可靠性,因此限制SPT 寿命的主要因素之一——壁面材料离子溅射腐蚀将成为SPT深空探测实际应用中的关键技术问题。本文通过X射线衍射、能谱分析及SEM微观表面形貌成像实验确定... 详细信息

在深空探测应用背景下,飞行器的推进装置要求具有更高的寿命和可靠性,因此限制SPT 寿命的主要因素之一——壁面材料离子溅射腐蚀将成为SPT深空探测实际应用中的关键技术问题。本文通过X射线衍射、能谱分析及SEM微观表面形貌成像实验确定了SPT样机壁面BN陶瓷材料的成分和组织结构。实验结果表明样机璧面材料属于六方层状的III型BN陶瓷材料;通过建立表面腐蚀过程数学模型,表明SPT壁面腐蚀是随时间非线性变化的过程,运用Huygens 波振面传播原理可以分析腐蚀所形成的锯齿状宏观形貌。进一步通过材料特性实验和腐蚀表面形貌特性分析,提出了降低壁面材料溅射腐蚀以及提高BN陶瓷壁面材料抗腐蚀性能的可行性方法。

关键词：稳态等离子推进器 BN陶瓷溅射腐蚀寿命

来源： cnki会议评论

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梁式引线技术

科学通报 1974年第5期19卷 203-214页

作者：陈钧珊中国科学院上海冶金研究所

梁式引线技术是一种有价值的工艺,它被特殊地用于大规模集成电路和混合(薄膜)集成电路中,以使系统的设计更为紧凑、灵活和可靠。目前可采用的大规模集成技术基本上有两类,如表1所示。

关键词：梁式引线器件互连工艺二氧化硅氮化硅四氮化三硅氮化物金属体系硅表面溅射腐蚀各向异性腐蚀硅片微桥石英硅氧矿物钠离子溅射系统欧姆接触