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    • 1 篇 教育学
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主题

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  • 2 篇 电磁场
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  • 1 篇 金属材料
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机构

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  • 1 篇 东北工学院
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  • 1 篇 中国科学院近代物...
  • 1 篇 清华大学
  • 1 篇 中国科学院地球化...

作者

  • 2 篇 杨魁胜
  • 2 篇 斯厚智
  • 2 篇 李孝恩
  • 2 篇 刘景和
  • 2 篇 邢鸿岩
  • 2 篇 李建立
  • 2 篇 李艳红
  • 1 篇 张殿莉
  • 1 篇 王贤义
  • 1 篇 史月艳
  • 1 篇 孙国燕
  • 1 篇 张津
  • 1 篇 john a.thornton ...
  • 1 篇 盛树刚
  • 1 篇 殷志强
  • 1 篇 刘联璠
  • 1 篇 倪瑞昌
  • 1 篇 a. b. tucker
  • 1 篇 关奎之
  • 1 篇 杨占文

语言

  • 18 篇 中文
检索条件"主题词=溅射源"
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圆柱形磁控溅射源的设计与计算
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真空 1986年 第2期 30-36+29页
作者： 关奎之 李云奇 东北工学院
本文在简述圆柱形磁控溅射源镀膜装置工作原理的基础上，提出一种设计圆柱形磁控溅射源的《等效电流磁场计算法》。文中介绍了该方法的数学模型、计算公式及其磁感应强度Ｂ值的计算结果。文中还给出了圆柱形磁控溅射源永久磁铁Ｂ值的大... 详细信息
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一种有待推广的镀膜器件——S-枪磁控溅射源
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合肥工业大学学报（自然科学版） 1989年 第1期12卷 75-78页
作者： 杨占文
S—枪是真空溅射镀膜源的后起之秀,属于磁控溅射。该枪在工作真空环境下利用氩气为溅射气体,施加正交电磁场,产生辉光放电,并在靶表面上空形成电子阱,约束二次电子沿一定轨迹运动,从而达到高速、低温溅射镀膜的目的。本文介绍了该枪的... 详细信息
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计算机控制的可变等离子体溅射源
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等离子体应用技术快报 1996年 第6期 7-8页
作者： 张殿莉
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光谱选择性吸收涂层中的衬底金属
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太阳能学报 1987年 第4期8卷 341-346页
作者： 史月艳 侯苏平 殷志强 清华大学
采用平面磁控溅射技术在玻璃上制备的金属铝膜,随氩气压强的升高及膜层的加厚而铝膜表面变得粗糙、反射率下降。以渐变不锈钢-碳为吸收层,分别以铝膜、不锈钢膜及玻璃为衬底构成的选择性吸收涂层,太阳吸收率可达95％(AM2),热发射率则分... 详细信息
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超灵敏小型回旋加速器质谱计的Cs溅射负离子源的研制和性能
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核技术 2001年 第B12期24卷 244-249页
作者： 斯厚智 中国科学院上海原子核研究所 上海201800
一台用于超灵敏质谱（AMS）的带有多靶机构的强流溅射负离子源己经研制完成,为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意性能的可靠性与稳定性。样机在试验台架上进行了一年... 详细信息
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一台自制溅射负离子源的改进
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原子核物理评论 1998年 第1期15卷 35-37,9页
作者： 王贤义 李正芳 中国科学院近代物理研究所
自１９９５年以来，在中科院近物所２ＭＶ串列静电加速器上对溅射负离子源进行了调试．调试中对源体作了重大的改进，逐步完善了运行工艺，利用该离子源加速器可长时间提供Ｌｉ、Ｃ、Ｏ离子束．
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磁控管溅射──物理基础和磁控管的应用
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真空 1981年 第6期 30-37页
作者： John A. Thornton ,汤美林
在磁场与阴极表面平行的二极管装置中，使在Ｅ×Ｂ方向漂移的电子流自身围旋形成电子捕集阱，可以把这样的二极管装置当作磁控管溅射源。有关杆状阴极或空腔阴极工作在轴向磁场中的同轴圆柱形磁控管用射源的报导已发表几年了。然而，它... 详细信息
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真空应用
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真空 1979年 第4期 152-158页
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高生产能力的在线平面磁控溅射系统
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玻璃 1988年 第3期 37-42页
作者： 倪瑞昌
平面磁控溅射法在大型高产的簿膜沉积系统中应用日益增加,本文叙述了这种系统的设计,讨论了工艺师在确定该技术是否适用于新的具体方案时应考虑的因素。
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磁控管溅射──溅射的最新发展
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真空 1981年 第6期 24-29页
作者： John A.Thornton ,褚乃萍
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