检索结果-南通市图书馆

化学镀 Ni-P-PTFE 复合镀层沉积工艺研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

材料工程 1997年第11期25卷 12-15,19页

作者：雷晓蓉黎永钧西安交通大学材料强度国家重点实验室

对化学镀Ｎｉ－Ｐ－ＰＴＦＥ复合镀层工艺进行了较全面的研究。详细测定和评述了表面活性剂浓度，ＰＴＦＥ浓度与镀层中ＰＴＦＥ粒子含量及镀速的关系，以及基础镀液性质和操作条件对复合镀的影响。提出了一种具有实用价值的化学镀Ｎｉ... 详细信息

对化学镀Ｎｉ－Ｐ－ＰＴＦＥ复合镀层工艺进行了较全面的研究。详细测定和评述了表面活性剂浓度，ＰＴＦＥ浓度与镀层中ＰＴＦＥ粒子含量及镀速的关系，以及基础镀液性质和操作条件对复合镀的影响。提出了一种具有实用价值的化学镀Ｎｉ－Ｐ－ＰＴＦＥ复合镀层工艺技术。镀液稳定，镀层质量优良，镀层中ＰＴＦＥ含量达２５～３０ｖｏｌ％。

关键词：化学镀化学复合镀聚四氟乙烯沉积工艺

ECR-PECVD制备Si_3N_4薄膜沉积工艺的研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

物理学报 1999年第7期48卷 1309-1314页

作者：陈俊芳吴先球王德秋丁振峰任兆杏华南师范大学物理系中国科学院等离子体物理研究所

由偏心静电单探针诊断了电子回旋共振等离子体增强化学汽相沉积（ＥＣＲＰＥＣＶＤ）反应室内等离子体密度的空间分布规律．结果表明在轴向位置Ｚ＝５０ｃｍ处，直径１２ｃｍ范围内等离子体密度分布非常均匀．分析了等离子体密度径... 详细信息

由偏心静电单探针诊断了电子回旋共振等离子体增强化学汽相沉积（ＥＣＲＰＥＣＶＤ）反应室内等离子体密度的空间分布规律．结果表明在轴向位置Ｚ＝５０ｃｍ处，直径１２ｃｍ范围内等离子体密度分布非常均匀．分析了等离子体密度径向均匀性对沉积速率均匀性和薄膜厚度均匀性的影响．讨论了沉积制备一定薄膜厚度的Ｓｉ３Ｎ４薄膜的工艺重复性．研究了各种沉积工艺参数与Ｓｉ３Ｎ４薄膜沉积速率的相互关系．

关键词：氮化硅薄膜 ERR-PECVD 沉积工艺

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

三种不同沉积工艺制备CrAlN涂层的性能

材料热处理学报 2019年第10期40卷 110-116页

作者：王新太王进金烨堂顾宁孙树峰青岛理工大学机械与汽车工程学院

采用阴极多弧离子镀膜技术,制备了3种不同沉积工艺的CrAlN涂层。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、工具显微镜、球痕仪、洛式硬度计、HV显微硬度计、电化学工作站等研究了涂层的显微形貌、力学性能和耐腐蚀性。结果表明:采用氩离子... 详细信息

采用阴极多弧离子镀膜技术,制备了3种不同沉积工艺的CrAlN涂层。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、工具显微镜、球痕仪、洛式硬度计、HV显微硬度计、电化学工作站等研究了涂层的显微形貌、力学性能和耐腐蚀性。结果表明:采用氩离子刻蚀工艺沉积Cr N打底层的CrAlN涂层表面质量改善明显,厚度均匀波动小,硬度高,膜基结合力强,摩擦系数小,排屑能力强,以及具有较高的耐腐蚀性。

关键词： CrAlN涂层阴极多弧离子镀沉积工艺涂层性能

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

非晶态类金刚石碳覆层的沉积工艺及设备

材料保护 1991年第2期24卷 36-37页

作者： R.S Bonetti M.Tobler 达世亮

引言由碳-氢系统形成的多种多样的材料,如金刚石、石墨直至高聚合的碳氢化合物,其中,人们知之不多的是非晶态类金刚石覆层(ADLC)。这种覆层除碳外,还包含有相当份量的氢。所谓“类金刚石”则表示,ADLC覆层的许多性质,如高硬度、电绝缘... 详细信息

引言由碳-氢系统形成的多种多样的材料,如金刚石、石墨直至高聚合的碳氢化合物,其中,人们知之不多的是非晶态类金刚石覆层(ADLC)。这种覆层除碳外,还包含有相当份量的氢。所谓“类金刚石”则表示,ADLC覆层的许多性质,如高硬度、电绝缘性、好的导热性和低的摩擦系数等与晶态的金刚石很相似。表1列出了ADLC覆层的一些最重要的性质。ADLC覆层不仅有这么多优良的性质,而且还可能在较低的温度下沉积出,这就吸引人们将这种技术工业化,以用于磨损防护。

关键词：非晶态类金刚石碳覆层沉积工艺

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

镍-铁-磷/金刚石复合沉积工艺与性能研究

材料保护 2006年第2期39卷 25-28页

作者：周白杨高诚辉福州大学材料科学与工程学院福建福州350002 福州大学机械工程及自动化学院福建福州350002

以三元合金为基体的复合电沉积层综合了一般耐磨镀层的性能和所镶嵌的固体微粒的性能。为开发新型多元非晶态合金耐磨复合沉积层，以复合沉积层耐磨减摩性为主要衡量指标并综合考虑其他性能指标，用正交试验法进行了镍-铁-磷／金刚石复... 详细信息

以三元合金为基体的复合电沉积层综合了一般耐磨镀层的性能和所镶嵌的固体微粒的性能。为开发新型多元非晶态合金耐磨复合沉积层，以复合沉积层耐磨减摩性为主要衡量指标并综合考虑其他性能指标，用正交试验法进行了镍-铁-磷／金刚石复合电沉积工艺与性能的研究。结果表明，在试验所采用的复合电沉积工艺控制范围内，可获得金刚石微粒弥散分布的镍-铁-磷／金刚石复合电沉积层，通过调整沉积工艺参数，能得到不同金刚石微粒复合量的复合电沉积层；在镀态下该复合沉积层（基质）呈非晶态结构；较佳综合性能复合层的电沉积工艺参数为：镀液中金刚石微粒（0．5-1．0μm）含量6g／L；NaH2P02·H20含量2g／L；FeSO4-7H2O含量70g/L，其对制备具有良好摩擦学特性的镍-铁-磷／金刚石复合沉积层具有重要的参考价值。

关键词：复合电沉积镍-铁-磷/金刚石沉积工艺性能

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

不同沉积工艺下TiN涂层金属学特性的研究

工具技术 2004年第1期38卷 26-29页

作者：郎平周兰英王永峰北京理工大学机械与车辆工程学院北京市在读硕士研究生100081 北京理工大学

采用不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的物相主次不同 ;涂层宏观残余应力呈压应力状态 ,应力状态主要与膜 /基材料的热力学性能的差别有关 ;不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的晶粒度约 0 1μm ,其对涂层的耐磨性影响不大 ,微观残余应... 详细信息

采用不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的物相主次不同 ;涂层宏观残余应力呈压应力状态 ,应力状态主要与膜 /基材料的热力学性能的差别有关 ;不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的晶粒度约 0 1μm ,其对涂层的耐磨性影响不大 ,微观残余应力对耐磨性起了很大作用 ;不同沉积工艺得到的TiN涂层的点阵参数偏大 ,这主要是由涂层的微观残余应力和原子置换引起的 ;摩擦学实验表明以 ( 111)

关键词：残余应力晶粒度点阵参数沉积工艺 TiN涂层高速钢

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

热解碳沉积工艺及冷态喷动模拟实验研究

热解碳沉积工艺及冷态喷动模拟实验研究

作者：李拥秋四川大学

学位级别：硕士

热解碳具有许多独特和优良的物理、化学和生物性质，而广泛用于核能、航天航空、电能、生物医学工程等领域，但其生成机理、性质和工艺条件的优化有待进一步的研究和改进，故开展与该课题相关的研究有重要的理论意义和社会经济效益。本... 详细信息

热解碳具有许多独特和优良的物理、化学和生物性质，而广泛用于核能、航天航空、电能、生物医学工程等领域，但其生成机理、性质和工艺条件的优化有待进一步的研究和改进，故开展与该课题相关的研究有重要的理论意义和社会经济效益。本文在探讨了热解碳的结构、性质、生成机理和相关工艺参数的基础上，通过冷态模拟实验寻求异型实用试件沉积坠底等问题的解决方法。本文研究的主要内容及结论如下： 1．在研究、分析国内外热解碳沉积工艺现状的基础上，提出热解碳是介于晶形碳(如石墨)与非晶形碳(如碳黑)之间的一类过渡碳，沉积速率和热解温度是导致碳黑或石墨出现的主要因素。 2．对比分析了流化床、喷动床的特点之后，提出了在喷动流化床中沉积热解碳既能调节热解沉积速率，减少幅产物，获得纯度更高的热解碳;又能通过合理的工艺参数组合使试件浮动在沉积区而涂覆更均匀。 3．提出了热解碳沉积工艺条件间的相互关系，通过计算机精确控制工艺参数来获得所需性质的热解碳，为提高热解碳成品率提供理论指导。 4．通过冷态喷动模拟实验，研究并解决了双面异型碳质人工机械心瓣在模拟喷动床内不断浮动而不下坠的问题，为解决在高温下因试件坠落停止不动而导致涂层失败提供指导。

关键词：热解碳喷动流化床沉积工艺冷态模拟实验试件的运动

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

氧化铁薄膜的原子层沉积工艺及其机理研究

氧化铁薄膜的原子层沉积工艺及其机理研究

作者：管鑫国防科学技术大学

学位级别：硕士

氧化铁纳米薄膜是一种具有优异光电特性的材料,具有化学稳定性好、储量丰富、成本较低等优势,在催化、电池、传感、磁记录等领域具有广阔的应用前景。氧化铁薄膜的广阔应用前景对其可控制备提出了更高的要求。原子层沉积技术作为制备薄... 详细信息

氧化铁纳米薄膜是一种具有优异光电特性的材料,具有化学稳定性好、储量丰富、成本较低等优势,在催化、电池、传感、磁记录等领域具有广阔的应用前景。氧化铁薄膜的广阔应用前景对其可控制备提出了更高的要求。原子层沉积技术作为制备薄膜的手段,制备的薄膜具有良好的保形性,同时还能在原子尺度上对沉积薄膜的厚度进行精确控制。本文以制备厚度可控的高质量氧化铁纳米薄膜为研究背景,以原子层沉积技术作为制备手段,进行了沉积模式、沉积基底表面状态、循环次数等对比实验,通过扫描电镜、原子力显微镜、光谱型椭偏仪、X射线光电子能谱、X射线衍射等表征手段对薄膜的微观结构、表面状态、化学组成进行了表征,研究了原子层沉积工艺参数对氧化铁纳米薄膜质量的影响,并对薄膜的生长机制进行了探讨。在此基础上,本文以在-OH终止硅片表面,二茂铁与臭氧分子的一系列基元反应为出发点,通过量子化学计算中的密度泛函理论,从分子水平对氧化铁薄膜的原子层沉积机理进行了描述。本文以二茂铁和臭氧作为前驱体,设计了连续模式、停留模式两种沉积模式,在-OH终止基片、-H终止基片和普通清洗基片三种表面状态的硅片上进行了500、1000、2000、3350、4000次循环沉积。结果表明,本文设计的沉积模式均能够实现氧化铁薄膜的沉积,薄膜中铁物种以三价为主,也存在二价和零价的铁元素。对于两种沉积模式,连续模式生长的薄膜均匀性较好,但沉积速率低(沉积速率0.138?/循环),制备效率较停留模式差。停留模式沉积薄膜的效率(沉积速率0.882?/循环)较文献报道更好,但其表面粗糙度较大,较难实现均匀性较好的薄膜。此外,-OH终止硅片由于OH基团的亲核作用,较-H终止硅片和普通清洗硅片表现出对前驱体分子更好的吸附作用,在循环次数较小、沉积时间较短的情况下,能够生长出粒径尺寸更大的氧化铁薄膜。氧化铁薄膜的生长遵循典型的岛状生长机制,分为成核、颗粒聚集和薄膜增厚三步,其生长速率不仅受生长机制的影响,同时也受化学吸附阶段、反应活性位点和前驱体配体的限制。上述结论对采用原子层沉积技术制备氧化铁薄膜时工艺参数的选择具有指导意义。通过量子化学计算的密度泛函理论从分子水平上对FeO的原子层沉积机理进行描述,模拟了二茂铁分子在-OH终止硅片表面与臭氧分子的反应,研究了FeO薄膜的原子层沉积机理。结果表明,由于吸附位点对反应的限制和反应伴随着空位点的形成,薄膜的生长速率受到了限制,其中吸附位点对反应的限制是薄膜生长速度较慢的主要原因。同时,由于反应伴随着空位点的形成,通过原子层沉积工艺制备的FeO薄膜理论上将具有较大的粗糙程度。

关键词：氧化铁薄膜原子层沉积沉积工艺沉积机理

装饰薄膜氮化锆的中频反应磁控溅射沉积工艺的研究

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

装饰薄膜氮化锆的中频反应磁控溅射沉积工艺的研究

作者：李新领河北农业大学

学位级别：硕士

现代科学技术的发展对材料的性能的要求日益提高,利用溅射薄膜对材料表面防腐、表面装饰和各种工模具的表面强化是提高材料性能的一种经济实用的途径。近年来,仿金膜氮化锆(ZrN)由于有比氮化钛更好的耐磨性、抗腐蚀性,更优的力学性质,... 详细信息

现代科学技术的发展对材料的性能的要求日益提高,利用溅射薄膜对材料表面防腐、表面装饰和各种工模具的表面强化是提高材料性能的一种经济实用的途径。近年来,仿金膜氮化锆(ZrN)由于有比氮化钛更好的耐磨性、抗腐蚀性,更优的力学性质,良好的化学和热学性能以及漂亮的金黄色和较高的硬度和熔点,已经在手表、眼睛架、金属家具、五金制品、陶瓷及玻璃制品等得到广泛的应用。目前关于氮化锆薄膜的制备方法很多,直流反应溅射技术由于存在着阳极消失和迟滞效应的缺陷,严重的影响了薄膜的沉积速率。因此如何使得靶面处于金属模式的溅射状态下维持较高的溅射速率,在基体上能够获得化学配比合适的氮化锆薄膜并有较高的沉积速率,是溅射氮化锆薄膜需要解决的一个关键问题。中频溅射技术是近些年来兴起的一门新技术,它是将辉光放电、等离子体与中频技术相结合的一种物理气相沉积技术,兼具蒸镀法沉积速率高和溅射法离子轰击清洁基体表面的优点。中频溅射能够显著的改善薄膜的性能,提高膜层和基底的结合力,绕射性能好、薄膜缺陷少以及可镀材料广泛等优点。另外中频溅射技术能够有效抑制弧光放电及根除阳极消失,从而保证溅射沉积过程能够稳定进行。因此中频溅射在装饰薄膜的工业化生产中发挥着重要作用。本研究利用工业化生产设备SP-1215,采用中频电源、孪生磁控靶、等离子体和质谱分析技术,在1Crl8Ni9Ti不锈钢基底上沉积氮化锆薄膜,改变试验的工艺参数,制备了不同工艺下的Zr-N薄膜。并对不同工艺下的薄膜试样进行了分析研究,得到了以下几点结论: 1、工作气压在0.3Pa附近的范围内,薄膜能够得到较高的沉积速率。Zr-N薄膜的沉积速率与溅射功率和反应气体分压强有密切的关系:沉积速率和溅射功率成正比,和反应气体分压强成反比。而基体偏压对沉积速率的影响很小。 2、反应气体分压强和溅射功率是影响Zr-N薄膜颜色的最主要的两个因素。氮气分压强由0～85%的变化范围内,Zr-N薄膜的颜色呈白色、浅黄色、金黄色、红金色和深红色的变化规律;在溅射功率3KW～10KW的范围内,Zr-N薄膜颜色呈金黄略微偏红、金黄色、浅黄色的变化规律,两者恰好相反。因此对薄膜颜色起决定作用的是溅射功率和反应气体分压强的比值。 3、通过对不同反应气体分压强下制备的Zr-N薄膜的俄歇深度分析,发现了N/Zr比例随氮气分压强的增加而增加,但是增加趋势趋缓。通过大量的氮化锆沉积试验数据,分析了中频反应磁控溅射沉积工艺参数对氮化锆的颜色和沉积速率的影响,从而在工业化生产设备上获得一

关键词：沉积工艺中频反应溅射:Zr-N薄膜颜色沉积速率俄歇深度分析