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    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 氮化钛/钛镀膜层
  • 1 篇 多弧离子镀
  • 1 篇 铬/铜
  • 1 篇 接触界面

机构

  • 1 篇 厦门大学

作者

  • 1 篇 林秀华
  • 1 篇 刘新

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=氮化钛/钛镀膜层"
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多弧离子镀工艺对TiN/Ti与Cr/Cu界面及微结构的影响
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物理学报 2000年 第11期49卷 2220-2224页
作者： 林秀华 刘新 厦门大学物理系 化学系固体表面物理化学国家重点实验室厦门361005
用多弧离子镀技术在铜基上电镀Cr/Ni层进行不同工艺条件下多弧离子沉积TiN/Ti实验 .借助X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜 (SEM)研究了TiN/Ti与Cr/Cu接触界面形成、微结构及其组分与形貌 .XRD分析显示 ,薄膜表面组分包含TiN ,Ti2 N多晶相... 详细信息
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