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不同氮分压下磁控溅射ZrN对钛/瓷结合的影响

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稀有金属材料与工程 2011年第5期40卷 802-806页

作者：王舒舒吴湘君光寒冰周淑张文艳章非敏南京医科大学口腔研究所江苏南京210029 东南大学江苏南京211189 江苏省口腔医院义齿加工中心江苏南京210029

探讨不同氮分压下磁控溅射氮化锆(ZrN)涂层对纯钛与低熔瓷粉(Vita钛瓷粉系统)结合强度的影响。60个纯钛基片随机分为1个对照组和3个实验组。实验组分别在不同氮分压下(Ta组1.0×10-2Pa,Tb组5.0×10-2Pa和Tc组10.0×10-2Pa)溅射沉积ZrN... 详细信息

探讨不同氮分压下磁控溅射氮化锆(ZrN)涂层对纯钛与低熔瓷粉(Vita钛瓷粉系统)结合强度的影响。60个纯钛基片随机分为1个对照组和3个实验组。实验组分别在不同氮分压下(Ta组1.0×10-2Pa,Tb组5.0×10-2Pa和Tc组10.0×10-2Pa)溅射沉积ZrN涂层。纯钛试样经表面处理后在烤瓷炉中进行烧结。用XRD检测到ZrN立方新相。万能试验机测试钛瓷试样三点抗弯强度,对照组为(26.67±0.88)MPa,实验组分别为:Ta(49.41±0.55)MPa,Tb(54.55±0.69)MPa和Tc(46.24±0.53)MPa,四组间差别均有统计学意义(P氮分压下溅射沉积的ZrN涂层对钛/瓷结合的增强程度有所不同,5.0×10-2Pa下钛/瓷结合增强最为明显。

关键词：氮化锆(ZrN) 磁控溅射氮分压钛瓷结合强度

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电磁场氮分压等对多弧离子镀TiN的影响

材料工程 1993年第12期21卷 35-37页

作者：周细应付志强万润根陈凯旋南昌航空工业学院材料系

本文在不同工艺条件下,利用扫描电镜,X射线衍射仪,M-200磨损试验机以及显微硬度计等,对多弧离子镀TiN涂层的表面形貌组织结构以及性能进行了分析研究,揭示了电磁场氮分压对TiN镀层的综合影响。

关键词：离子镀电磁场氮分压

氮分压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层的影响

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热加工工艺 1994年第4期23卷 27-29页

作者：王玉魁王传恩张兴龙韩会民高路斯大连理工大学

用Ｘ射线衍射分析研究了氮分区对ＰＥＭＳＩＰ法ＴｉＮ涂层相组成的影响，结果表明，随着氮分压增加，涂层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展，变化趋势为：αＴｉ→（αＴｉ＋Ｔｉ２Ｎ）→（Ｔｉ２Ｎ＋ＴｉＮ）→ＴｉＮ。氮分压... 详细信息

用Ｘ射线衍射分析研究了氮分区对ＰＥＭＳＩＰ法ＴｉＮ涂层相组成的影响，结果表明，随着氮分压增加，涂层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展，变化趋势为：αＴｉ→（αＴｉ＋Ｔｉ２Ｎ）→（Ｔｉ２Ｎ＋ＴｉＮ）→ＴｉＮ。氮分压对涂层硬度的影响主要是由氮分压影响涂层相组成而引起的，其中，由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ两相组成的膜硬度最高。

关键词：氮化钛涂层氮分压 PEMSIP法

氮分压对CrN_x薄膜相结构与力学性能的影响

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电子显微学报 2002年第5期21卷 629-630页

作者：李戈扬张俊秋韩增虎张惠娟上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室上海200030 上海交通大学高温材料及高温测试教育部重点实验室上海200030

CrN_x薄膜具有很高的硬度和耐磨性，其高温抗氧化性和耐腐蚀性优良，不但可作为耐磨涂层用于工模具和切割工具的表面强化，而且在表面防腐和装饰等许多工业领域也有重要用途。同已经得到广泛工业应用的TiN薄膜相比，CrN_x薄膜的硬度更... 详细信息

CrN_x薄膜具有很高的硬度和耐磨性，其高温抗氧化性和耐腐蚀性优良，不但可作为耐磨涂层用于工模具和切割工具的表面强化，而且在表面防腐和装饰等许多工业领域也有重要用途。同已经得到广泛工业应用的TiN薄膜相比，CrN_x薄膜的硬度更高，而且具有比TiN更好的耐腐蚀性能。CrN_x薄膜溅射产额比较高，有利于大批量的工业生产，更具有实用价值。

关键词：氮分压 CrNx薄膜相结合力学性能氮化铬薄膜

氮分压对多弧离子镀TiN涂层相结构及性能影响的研究

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真空 1990年第3期27卷 1-5页

作者：李晓青北京量具刃具厂

本文利用多弧离子镀设备沉积了ＴｉＮ薄膜，对不同工艺条件下沉积ＴｉＮ的薄膜用Ｘ射线衍射方法进行了研究，给出了薄膜相结构随氮分压变化的实验结果，测定了薄膜的显微硬度．用ＳＥＭ方法观察了ＴｉＮ涂层的组织形貌。指出：氮分... 详细信息

本文利用多弧离子镀设备沉积了ＴｉＮ薄膜，对不同工艺条件下沉积ＴｉＮ的薄膜用Ｘ射线衍射方法进行了研究，给出了薄膜相结构随氮分压变化的实验结果，测定了薄膜的显微硬度．用ＳＥＭ方法观察了ＴｉＮ涂层的组织形貌。指出：氮分压为多弧离子镀的一个重要工艺参数，我们适当地控制氮分压，可以制作出性能良好的ＴｉＮ薄膜。

关键词：氮分压多弧离子镀涂层相结构

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氮分压对离子镀氮化钛涂层的影响

稀有金属材料与工程 1994年第A5期23卷 61-64页

作者：焦文强肖国珍黄春良杨子军西北有色金属研究院

研究了氮分压对空心阴极离子镀氮化钛涂层性能的影响。结果表明：在１．３３×１０（－２）～２．２１×１０（－１）Ｐａ氮分庄范围内，显微硬度随氮分区增加而增加，在２×１０（－２）Ｐａ时显微硬度出现最大值，而后随氮分压的增加... 详细信息

研究了氮分压对空心阴极离子镀氮化钛涂层性能的影响。结果表明：在１．３３×１０（－２）～２．２１×１０（－１）Ｐａ氮分庄范围内，显微硬度随氮分区增加而增加，在２×１０（－２）Ｐａ时显微硬度出现最大值，而后随氮分压的增加，显微硬度下降；随着氮分区增加，氨化钛涂层在Ｈ２ＳＯ４溶液中的抗腐蚀性能增加；氮分压强烈影响ＴｉＮ织构。

关键词：离子镀氮化钛氮分压抗磨损

溅射氮分压对Zr-Nb-N薄膜结构与特性的影响

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稀有金属与硬质合金 2012年第5期40卷 37-40页

作者：信绍广李宁新兴铸管股份有限公司研究院河北武安056300

在不同溅射氮分压条件下,采用射频反应磁控溅射技术于单晶硅片表面制备了Zr-Nb-N薄膜。EDS、TEM和XRD分析表明,随着氮分压的升高,薄膜中N含量上升,Nb含量下降,细晶组织粗化,同时单一相Zr-Nb-N固溶体出现NbN与ZrN两相分离。采用四探针电... 详细信息

在不同溅射氮分压条件下,采用射频反应磁控溅射技术于单晶硅片表面制备了Zr-Nb-N薄膜。EDS、TEM和XRD分析表明,随着氮分压的升高,薄膜中N含量上升,Nb含量下降,细晶组织粗化,同时单一相Zr-Nb-N固溶体出现NbN与ZrN两相分离。采用四探针电阻测试仪和显微硬度计分别测量了薄膜的方阻和显微硬度,结果表明随着氮分压的升高,薄膜的方阻降低,显微硬度先升高后降低。

关键词： Zr—Nb—N薄膜磁控溅射氮分压相组成方阻显微硬度