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  • 1 篇 cmp
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  • 1 篇 材料去除率
  • 1 篇 n-(2-氨基乙基)-3...
  • 1 篇 改性方法

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  • 1 篇 中国科学院大学
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  • 1 篇 南京映智新材料有...
  • 1 篇 上海大学

作者

  • 2 篇 汪为磊
  • 2 篇 刘卫丽
  • 2 篇 宋志棠
  • 1 篇 张文娟
  • 1 篇 魏震
  • 1 篇 张泽芳
  • 1 篇 李富友
  • 1 篇 张善端
  • 1 篇 白林森
  • 1 篇 霍军朝
  • 1 篇 罗宏杰

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  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=氧化铝抛光液"
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氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究（英文）
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摩擦学学报 2019年 第1期39卷 109-117页
作者： 张泽芳 张文娟 张善端 李富友 复旦大学先进照明技术教育部工程研究中心 上海200433 复旦大学电光源研究所 上海200433 南京映智新材料有限公司 江苏南京210000 临汾博利士纳米材料有限公司 山西临汾041507 复旦大学化学系高分子材料分子工程国家重点实验室 上海200433
化学机械抛光(CMP)已成为金属合金最具潜力的平坦化技术.为了优化铝合金CMP工艺,研究了磨料粒度、分散剂浓度以及pH调节剂对铝合金CMP性能的影响.结果表明:随着磨料粒度的增加,材料去除率(MRR)和平均表面粗糙度(Ra)均增加,而表面光泽度(... 详细信息
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羟乙基纤维素对氧化铝基蓝宝石抛光液的影响
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武汉理工大学学报 2019年 第2期41卷 80-84,92页
作者： 魏震 汪为磊 刘卫丽 罗宏杰 宋志棠 上海大学材料科学与工程学院 上海200444 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 上海200050 上海新安纳电子科技有限公司 上海201506
为了解决水溶液中氧化铝纳米颗粒的团聚,将羟乙基纤维素(HEC)引入水体系中,研究了羟乙基纤维素对蓝宝石化学机械抛光的影响。结果发现氧化铝抛光液中加入1000 mg/kg HEC后,D50的粒径由318.7nm变为318.8nm,D90的粒径由702.5nm降低到568.2... 详细信息
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氧化铝颗粒的表面改性及其在C平面(0001)蓝宝石衬底上的化学机械抛光(CMP)性质(英)
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无机材料学报 2017年 第10期32卷 1109-1114页
作者： 汪为磊 刘卫丽 白林森 宋志棠 霍军朝 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息材料国家重点实验室纳米技术实验室上海200050 中国科学院大学 北京100049 上海新安纳电子科技有限公司 上海201506
为了提高氧化铝颗粒的CMP性能,本工作探索了一种合适的改性方法。同时,为了改善其化学机械性能,通过与其表面羟基的硅烷化化学反应和与Al和仲胺的络合两种作用,用N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷表面改性氧化铝颗粒。本工作给出... 详细信息
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