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化学热处理工艺要领浅析(四)

现代制造工程 1982年第12期 34-36页

作者：胡以正武汉材料保护研究所

一、化学气相沉积(CVD)十几年来,用化学气相沉积法在硬质合金、工具钢、模具钢等基础上建立的涂层,有碳化物,氪化物,碳氮化合物、氧化物、硼化物,硅化物和多层复合涂层等八大类。在六、七十种涂层中,国内外应用较广的是碳化钛和氮化钛... 详细信息

一、化学气相沉积(CVD)十几年来,用化学气相沉积法在硬质合金、工具钢、模具钢等基础上建立的涂层,有碳化物,氪化物,碳氮化合物、氧化物、硼化物,硅化物和多层复合涂层等八大类。在六、七十种涂层中,国内外应用较广的是碳化钛和氮化钛涂层。1.碳化物涂层钛、钒、铬等碳化物层的气相沉积,通常以氢气

关键词：复合涂层空心阴极氧化物阴极抗高温氧化性离子注入法离子沉积化学热处理工艺表面合金化抗氧化性能位错网气相淀积气相沉积固溶体

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CN_x薄膜的PCVD制备及研究

甘肃科学学报 1996年第3期8卷 14-16页

作者：彭军彭应全姚江宏陈光华兰州大学物理系北京工业大学应用物理系

ＣＮｘ薄膜是一种新型的超硬膜。我们用等离子增强化学气相淀积法（ＰＣＶＤ），制备出了含氮量为２１ａｔ％的ＣＮｘ膜，并用俄歇电子探针，红外谱仪和拉曼光谱仪及Ｘ光衍射仪对其结构进行了研究。结果表明膜中氮元素主要以Ｃ≡Ｎ，Ｃ... 详细信息

ＣＮｘ薄膜是一种新型的超硬膜。我们用等离子增强化学气相淀积法（ＰＣＶＤ），制备出了含氮量为２１ａｔ％的ＣＮｘ膜，并用俄歇电子探针，红外谱仪和拉曼光谱仪及Ｘ光衍射仪对其结构进行了研究。结果表明膜中氮元素主要以Ｃ≡Ｎ，Ｃ＝Ｂ，Ｃ—Ｎ键的形式与碳结合。ＣＮｘ薄膜中含有β－Ｃ３Ｎ４的微晶成分。其显微硬度为Ｈｖ＝２６５０ｋｇ／ｍｍ２。

关键词：薄膜气相淀积氮化碳 PCVD 制备

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热处理新技术在提高轴承零件使用寿命上的应用(续)

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机械工程材料 1988年第1期 7-10页

作者：徐佐仁上海交通大学

一等离子弧加热淬火表面硬化技术低温（2—2.5×10;K 以下）的等离子弧加热淬火表面硬化技术是一种有发展前途,但是还没有充分研究的表面硬化方法。苏联等曾研究等离子弧淬火对（?）15 C（?）、Y10 A、30 X（?）CA 钢的某些物理性能、... 详细信息

一等离子弧加热淬火表面硬化技术低温（2—2.5×10;K 以下）的等离子弧加热淬火表面硬化技术是一种有发展前途,但是还没有充分研究的表面硬化方法。苏联等曾研究等离子弧淬火对（?）15 C（?）、Y10 A、30 X（?）CA 钢的某些物理性能、力学性能和使用性能之影响。所有淬火机床是由连续焊接装置的部件组成的,并带有改进的等离子喷咀、喷咀移动机构及零件旋转机构。采用氩气和氮气作为形成等离子体的气体。等离子加热后不用专门冷却装置只是依靠热量向金属深处传递来进行冷却,等离子弧加热淬火可在工件表面形成一条宽5—6mm 的硬化带,硬化带宽度主要取决于喷咀出口处的直径;淬火带

关键词：电子束加热电加热氢离子淬火带碳化物层气相沉积气相淀积轴承零件沉积层厚度显微硬度电子枪使用寿命聚焦线圈电子束热处理局部热处理力学性能力学性质轴承钢磁控管

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工业加热文摘

工业加热 1991年第2期 51-54页

WJ91220 埋弧炉自焙电极的数学模型和计算机仿真——《Elektrowarme International》,1990,B4,v.48,210～215,(英) 文中提出埋弧炉自焙电极的三维数学模型和计算机仿真程序,用来计算自焙电极电流和温度分布。采用IBM-AT型微处理器在5～2... 详细信息

WJ91220 埋弧炉自焙电极的数学模型和计算机仿真——《Elektrowarme International》,1990,B4,v.48,210～215,(英) 文中提出埋弧炉自焙电极的三维数学模型和计算机仿真程序,用来计算自焙电极电流和温度分布。采用IBM-AT型微处理器在5～20min内即能完成计算,所有计算结果均用CRT屏幕显示器显示出来,并

关键词：水冷炉盖型模文章石英砂耐火度埋弧炉碎屑沉积物埋弧电阻炉热处理炉工业炉窑承芳提高生产率工业加热金属粉末朱国强真空淬火炉技术参数气相沉积气相淀积钢包炉水冷线圈自焙电极索德别尔格电极数学模型试验模型特殊钢公司

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液相沉积炉、气相沉积炉、石墨化炉

新型炭材料（中英文） 2009年第2期 182-182页

专利名称：使用连续淀积技术淀积难熔金属层的方法与装置

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表面技术 2004年第4期33卷 71-71页

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氨基树脂及其涂料

涂层与防护 2005年第3期26卷 28-28页

0503001经气相沉积三聚氰胺衍生物制备复合材料的方法:W02004-101 662[国际专利申请,英]/荷兰: DSM IP Assests B.V.(***).-2004.11. 25.-12页.-WO2003/NL362(2003.5.15);IPC C08J7/ 00

关键词：涂料氨基树脂气相沉积气相淀积底材复合材料

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离子气相沉积铝

表面技术 1979年第4期 65-65页

作者：阳钦

离子气相沉积(IVD)和通常的真空镀膜是相同的,其共同点是使金属蒸发,让它凝在待镀另件的表面.铝离子气相沉积在精致件上镀装饰铝,其镀层较厚,较致密,并有较大的附着力.这种镀是在镀件和蒸发源之间,加以高的负电位而获得的.把惰性气体引... 详细信息

离子气相沉积(IVD)和通常的真空镀膜是相同的,其共同点是使金属蒸发,让它凝在待镀另件的表面.铝离子气相沉积在精致件上镀装饰铝,其镀层较厚,较致密,并有较大的附着力.这种镀是在镀件和蒸发源之间,加以高的负电位而获得的.把惰性气体引入真空系统并离子化,带正电荷的离子,被吸引到带负电荷的另件表面上.它们轰击另件表面,使表面清洁,能够得到较好的附着力.

关键词：气相沉积气相淀积离子化蒸发源

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离子气相沉积铝

包装工程 1979年第4期 65-65页

作者：阳钦

离子气相沉积(IVD)和通常的真空镀膜是相同的,其共同点是使金属蒸发,让它凝在待镀另件的表面。铝离子气相沉积在精致件上镀装饰铝,其镀层较厚,较致密,并有较大的附着力。这种镀是在镀件和蒸发源之间,加以高的负电位而获得的。把惰性气体

关键词：气相沉积气相淀积离子化蒸发源