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齿轮泵热处理的新工艺

液压与气动 1987年第2期 41-43页

作者：黄诚安阳液压件厂

利用气相沉积TiN、TiC、AlO或其它沉积层来改善金属材料表面的性质,使其得到超硬膜,这项新技术在国内外受到普遍重视。按照气相沉积的性质,可分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。CVD 设备简单,绕镀能力强,但沉积温度高达1000℃... 详细信息

利用气相沉积TiN、TiC、AlO或其它沉积层来改善金属材料表面的性质,使其得到超硬膜,这项新技术在国内外受到普遍重视。按照气相沉积的性质,可分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。CVD 设备简单,绕镀能力强,但沉积温度高达1000℃以上,使金属零件机械性能大大降低;PVD 沉积温度低(400～600℃),沉积速率高,且无公害,但设备昂贵,技术

关键词：齿轮泵沉积温度超硬回转式容积泵 PECVD 气相沉积气相淀积

化学气相沉积TiN提高模具使用寿命的新途径

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工程科学学报 1987年第S3期 127-128页

化学气相沉积法(简称CVD法)。对沉积TiN而言,就是在模具表面上进行化学反应而制得耐磨涂层TiN。

关键词：气相沉积气相淀积模具使用寿命 TiN

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氮化钛新技术的应用

电镀与涂饰 1983年第3期 29-32页

作者：叶荣燊广州金笔厂

一、前言众所周知,黄金是一种稀贵金属,它以色泽鲜艳夺目,名贵大方而获得人们对它的信赖和赞赏。纯金或金合金制品,一般以成色“K”(开)来区分:24K 表示含金100%;12K 表示含金50%;14K 表示含金58%;18K 表示含金78%。由于黄金来源有限,... 详细信息

一、前言众所周知,黄金是一种稀贵金属,它以色泽鲜艳夺目,名贵大方而获得人们对它的信赖和赞赏。纯金或金合金制品,一般以成色“K”(开)来区分:24K 表示含金100%;12K 表示含金50%;14K 表示含金58%;18K 表示含金78%。由于黄金来源有限,价格昂贵,黄金制品一般都用在高档的装饰商品上。为了活跃市场,增加花色品种,美化生活,所以往往采用化学镀仿金或染金色的方法,代替黄金装饰商品投放市场。但这样的仿金镀层耐用性差。七十年代我国不少单位相继探讨氮化钛仿金镀层,为制备仿金镀层,开辟了新途径。如何应用这种新工艺,使它在生产实践中完善和发展,是现今要解决的问题。

关键词：反应溅射化学反应氮分压金黄色离子轰击氮化表面合金化结合力热电子发射气相沉积气相淀积

CVD法涂复TiC和Al2O3的热力学分析

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机械工程材料 1983年第6期 16-17页

作者：徐润泽中南矿冶学院

一、引言化学气相沉积（CVD）技术和物理气相沉积（PVD）技术得到了迅速的发展,提供了抗摩擦磨损涂层的新前景。应用于以磨料磨损为主的情况,TiC涂层较好,应用于以擦伤为主的情况,TiN涂层较好,应用于需要高温稳定的情况,Al2O3涂层较好... 详细信息

一、引言化学气相沉积（CVD）技术和物理气相沉积（PVD）技术得到了迅速的发展,提供了抗摩擦磨损涂层的新前景。应用于以磨料磨损为主的情况,TiC涂层较好,应用于以擦伤为主的情况,TiN涂层较好,应用于需要高温稳定的情况,Al2O3涂层较好。例如CVDTiN涂层的高速钢刀具和模具的寿命分别为未涂层的3～6倍,CVD Al2O3涂层的硬质合金（P30）刀具,切削铸铁和高碳钢时,其寿命为涂TiC刀具的2倍,为未涂层刀具的10倍。硬质合金的CVD涂层开始只有TiC单层,发展到TiC-TiN双涂以及TiC-TiN-Al2O3三重涂层等。CVD涂层时温度高达800～

关键词：热力学分析 Al2O3 涂层 TiC CVD 气相沉积气相淀积反应温度反应机理反应机制

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国外新材料、新工艺和市场动态

机械工程材料 1989年第2期 65+28-65+28页

日本千叶的Sumitomo金属矿产有限公司的中心实验室研制了一条生产超细钨粉(0.02μ)的生产线。根据《美国金属市场报》报道,该生产线应用一个直流电等离子和无线电频率等离子,瞬时熔融在炉中穿行的原始钨粉,产生的钨蒸汽被快速冷却,制成... 详细信息

日本千叶的Sumitomo金属矿产有限公司的中心实验室研制了一条生产超细钨粉(0.02μ)的生产线。根据《美国金属市场报》报道,该生产线应用一个直流电等离子和无线电频率等离子,瞬时熔融在炉中穿行的原始钨粉,产生的钨蒸汽被快速冷却,制成等离子精炼的钨粉。这条被称为“Hybrid Plasma”的生产线

关键词： AI 超细钨粉气相沉积气相淀积

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过渡金属碳化物和氮化物的制造技术

中国有色冶金 1982年第7期 49-51页

作者：熊代幸伸刘树仁

过渡金属碳化物和氮化物,根据其应用的目的、形状和尺寸分为薄膜、须晶、烧结体和单晶。一、薄膜、须晶制造薄膜的物理方法有反应性真空气相淀积、反应性喷涂、反应性离子喷镀法。反应性真空气相淀积是在真空中使金属蒸发、输

关键词：单晶过渡金属碳化物 TIC 气相淀积反应性晶形气相沉积氮化合物氮化物黑色颜料石墨碳化物层晶须须晶衬底基片等离子流区熔法

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气氛对硅中砷扩散的影响

微纳电子技术 1975年第4期35卷 53-55页

作者：川舸

掺砷氧化物方法常常用于硅中的高浓度砷扩散。从掺砷氧化膜向硅中扩散砷,通常是在氧气氛中进行扩散的。本文叙述在扩散过程中气流由氮气变为氧气以代替过去始终使用纯氧气氛的情况下,在硅表面一定深度内硅中砷浓度的增加。表1列出了气... 详细信息

掺砷氧化物方法常常用于硅中的高浓度砷扩散。从掺砷氧化膜向硅中扩散砷,通常是在氧气氛中进行扩散的。本文叙述在扩散过程中气流由氮气变为氧气以代替过去始终使用纯氧气氛的情况下,在硅表面一定深度内硅中砷浓度的增加。表1列出了气相淀积掺砷氧化膜的气体克分子数。由四乙基原硅酸盐(TEOS)、

关键词：砷浓度 TEOS 砷氧化气相淀积厚度气相沉积氯化物三氯化砷

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辉光放电气相沉积氮化钛薄膜

真空科学与技术学报 1983年第6期 426-428+465页

作者：沈启贤霍炳印内蒙古金属材料研究所

本文叙述了辉光放电气相沉积氮化钛薄膜的工艺。它具有物理气相沉积与化学气相沉积的综合特点。在此工艺中,辉光放电作为化学反应和沉积的介质,通过等离子体的激活作用,可在低气压下直流辉光放电的工件(阴极)表面上获得化合物薄膜。已... 详细信息

本文叙述了辉光放电气相沉积氮化钛薄膜的工艺。它具有物理气相沉积与化学气相沉积的综合特点。在此工艺中,辉光放电作为化学反应和沉积的介质,通过等离子体的激活作用,可在低气压下直流辉光放电的工件(阴极)表面上获得化合物薄膜。已在工艺实验中,工件表面上沉积了致密的氮化钛涂层。此工艺的沉积温度低、沉积速率较高。

关键词：辉光放电氮化激活作用表面合金化气相淀积气相沉积沉积温度

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化学气相沉积TiN涂层在钢制模具上的应用

新技术新工艺 1988年第1期 31-33页

作者：张林荣张福林北京钢铁学院

本文简要地介绍了化学气相沉积法的原理及影响沉积的因素,并介绍CVD法沉积TiN涂层在模具上的应用,以满足模具的机械性能的要求。化学气相沉积TiN涂层承担磨损和腐蚀保护作用,从而使基体和涂层的优良性能结合起来,提高工模具的使用寿命。

关键词：涂层质量模具干摩擦系数气相沉积气相淀积 TiN 钢制